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| EB制作1：1UT Stepper掩模的工艺技术研究 | |
| 作者姓名： | 张海平 |
| 作者单位： | 中国华晶电子集团公司掩模工厂电子束制版组!无锡，214035 |
| 摘 要： | 一、前言UltratechStepper1500是一种比较特殊的1：1投影光刻机。它只能使用3”X5”的掩模，掩模上除用户提供的主芯片图形和PCM图形外，还要由掩模制造厂附加许多辅助图形。UltrachStepper1500对俺模的特征尺寸控制、套准精度、缺陷检查、保护膜安装等都有很严格的要求。国内使用UltratchStepper1500光刻机的用户以前只能委托台湾或国外的掩模生产厂家制作掩模，制作周期长，成本也比较高。掩模工厂引进ZBA23电子束以后，客观上基本具备了制作1：IUTStepper掩模的条件。八年初开始。在用户的配合下，据模工厂开始研究1：IUTSteppe… |
| 关 键 词： | 掩模 光刻 集成电路 制造工艺 |
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