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| 真空蒸镀SnO_2和In_2O_3透明导电膜的方法 | |
| 引用本文： | 益聪.真空蒸镀SnO_2和In_2O_3透明导电膜的方法[J].激光与红外,1980(1). |
| 作者姓名： | 益聪 |
| 摘 要： | 本文所介绍的SnO_2、In_2O_3薄膜是以透明导电膜的形式出现的,但它在红外高反射特性和可见区高透射特性方面引起了极大的注意。因此它们又是可见与红外很有用的材料。一、SnO_2和In_2O_3膜的制造方法关于它们的制造方法,国外报导很多,有化学法(CVD法)和物理法(PVD法),物理方法主要是溅射法和真空蒸发法。这里主要介绍真空蒸发法。 |
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