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| 流态化CVD包硅的Fe3O4的氧化行为 | |
| 作者姓名： | 朱以华 吴秋芳 李春忠 |
| 作者单位： | 华东理工大学技术化学物理研究所, 上海 200237 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金!29506045 |
| 摘 要： | 采用流态化ＣＶＤ包硅技术制得了表面均匀包覆ＳｉＯ2的Ｆｅ３Ｏ４磁粉．对该包硅Ｆｅ３Ｏ４磁粉的氧化机理和动力学进行了研究．结果表明,氧化反应机理符合三维球对称扩散模型,氧化反应活化能随包硅量的增加而增加,流态化ＣＶＤ包硅能提高Ｆｅ３Ｏ４磁粉的抗氧化作用在于粒子表面形成了均匀的ＳｉO2保护层． |
| 关 键 词： | 流态化包覆 氧化铁 磁粉 氧化动力学 |
| 收稿时间： | 1999-02-02 |
| 修稿时间： | 1999-03-26 |
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