| 基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术研究进展 |
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| 引用本文： | 马延琴,杜惊雷.基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术研究进展[J].激光与光电子学进展,2012(7):44-50. |
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| 作者姓名： | 马延琴 杜惊雷 |
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| 作者单位： | 西南科技大学理学院;四川大学物理科学与技术学院 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(10676029,10776028)资助课题 |
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| 摘 要： | 随着器件特征尺寸的不断减小,传统光刻技术的加工分辨率受限于衍射极限已接近使用化技术的理论极限且成本过高。无掩模光刻技术是解决掩模价格不断攀升而引起成本过高的一种潜在方案,以成本低、灵活性高、制作周期短的特点在微纳加工、掩模直写、小批量集成电路的制作等方面有着广泛的应用。基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术在提高分辨率和产出率方面取得了一定的进展,理论和实验上均取得了较好的效果。详细归纳介绍了基于空间光调制器的无掩模光学光刻技术的原理、特点以及研究进展。
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| 关 键 词： | 光学制造 无掩模光学光刻 空间光调制器 波带片阵列光刻 表面等离子体激元 |
Progress of Optical Maskless Lithography Based on Spatial Light Modulator |
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| Ma Yanqin,Du Jinglei.Progress of Optical Maskless Lithography Based on Spatial Light Modulator[J].Laser & Optoelectronics Progress,2012(7):44-50. |
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| Authors: | Ma Yanqin Du Jinglei |
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| Affiliation: | 1School of Science,Southwest University of Science and Technology,Mianyang,Sichuan 621010,China 2School of Physical Science and Technology,Sichuan University,Chengdu,Sichuan 610065,China |
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