| 锌膜氧化制备氧化锌薄膜的紫光发射 |
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| 引用本文： | 李赫,王昕.锌膜氧化制备氧化锌薄膜的紫光发射[J].材料导报,2007,21(Z2):139-141. |
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| 作者姓名： | 李赫 王昕 |
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| 作者单位： | 长春工业大学机电学院,长春,130012 |
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| 摘 要： | 通过锌膜在金属锌熔点(419℃)以上温度和50Pa的氧气压力下退火氧化的方法制备ZnO薄膜,研究了退火温度对ZnO薄膜组织结构及发光性能的影响.ZnO薄膜的室温光致发光谱是由发光中心在424nm处的单一紫光组成.随着退火温度的升高,紫光的强度增加,当温度超过600℃时紫光的强度反而降低.在50Pa氧气压力下,紫光的发射归因于电子从价带到锌间隙原子(Zni)缺陷之间的跃迁.
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| 关 键 词： | 脉冲激光沉积 紫光发射 X射线衍射 |
Violet Emission Properties of ZnO Thin Films by Annealing Metal Zn Films |
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| LI He,WANG Xi.Violet Emission Properties of ZnO Thin Films by Annealing Metal Zn Films[J].Materials Review,2007,21(Z2):139-141. |
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| Authors: | LI He WANG Xi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ZnO |
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