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| 第37届(1993)国际三束会议及顺访美国FEI公司 | |
| 引用本文： | 陆家和.第37届(1993)国际三束会议及顺访美国FEI公司[J].微细加工技术,1993(4). |
| 作者姓名： | 陆家和 |
| 作者单位： | 清华大学电子工程系 北京 |
| 摘 要： | 1.1 会议概况 国际三束会议是由美国真空学会(AVS)、美国电机和电子工程师学会(IEEE)、美国光学学会(OSA)联合举办的学术性年会。会议主要内容为电子束、离子束、光子束(三束)的科研、技术、工程和应用,涉及电子束技术、离子束技术、光学曝光和X射线曝光技术、微米和纳米加工、纳米结构和纳米器件、干法刻蚀和薄膜淀积、计量测量和诊断、电子离子光学、三束引起的化学物理过程等方面。这些内容直接应用于微电子学(硅集成电路)、 |
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