| 大脑中动脉光化学栓塞模型的改良及免疫表型分析 |
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| 引用本文： | 徐帆,邓霞,许文,佘泓达,高亮. 大脑中动脉光化学栓塞模型的改良及免疫表型分析[J]. 集成技术, 2023, 12(2): 10-19 |
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| 作者姓名： | 徐帆 邓霞 许文 佘泓达 高亮 |
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| 作者单位： | 中国科学院深圳先进技术研究院 深圳 518055；中国科学院大学 北京 100049;中山大学附属第三医院神经科 广州 510630 |
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| 基金项目： | 深圳市科技计划项目(GJHZ20200731095205016) |
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| 摘 要： | 光照缺血模型是常用的脑卒中永久性缺血模型，其原理是：光敏感染料在光照射下被激活并产生活性氧自由基，生成的活性氧自由基会引起血管内皮损伤，导致血小板的黏附和聚集，并形成血栓。由于光照缺血模型产生的缺血半影带较小，同临床病理差异较大，限制了对于缺血半影带的研究，因此，该研究基于光化学法构建了一种改良的中动脉近端栓塞模型。具体地，向小鼠体内注射光敏感染料孟加拉红后，用激光照射中动脉近端3 min，以诱导血管栓塞，并通过氯化三苯基四氮唑染色、免疫荧光以及流式细胞术对模型进行评估。氯化三苯基四氮唑染色和免疫荧光结果显示，与传统的光照缺血模型相比，该模型能在纹状区和皮质区产生较大且稳定的梗死区域(9%～15%)，且能通过流式细胞术分离出梗死组织中的驻留小胶质细胞、浸润髓系细胞和淋巴细胞。上述实验结果表明，改良的中动脉近端光化学栓塞模型能够应用于缺血性脑卒中损伤后病理和免疫反应机制的研究。
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| 关 键 词： | 缺血性脑卒中 脑缺血模型 大脑中动脉阻塞 光照缺血 TTC染色 |
The Optimization of Photothrombotic Cerebral Artery Occlusion Model and the Poststroke Immune Phenotypic Analysis |
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| XU Fan,DENG Xi,XU Wen,SHE Hongd,GAO Liang. The Optimization of Photothrombotic Cerebral Artery Occlusion Model and the Poststroke Immune Phenotypic Analysis[J]. , 2023, 12(2): 10-19 |
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| Authors: | XU Fan DENG Xi XU Wen SHE Hongd GAO Liang |
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| Affiliation: | Shenzhen Institute of Advanced Technology, Chinese Academy of Sciences, Shenzhen 518055, China; University of Chinese Academy of Sciences, Beijing 100049, China;Department of Neurology, The Third Affiliated Hospital of Sun Yat-sen University, Guangzhou 510630, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ischemic stroke ischemia model middle cerebral artery occlusion photothrombotic ischemia TTC staining |
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