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fe-ni-w合金代铬镀层的清洁电镀生产工艺与性能研究
引用本文:何凤娇,鞠辉.fe-ni-w合金代铬镀层的清洁电镀生产工艺与性能研究[J].数字制造科学,2008,6(4).
作者姓名:何凤娇  鞠辉
摘    要:在中国国家高技术发展计划(863计划)项目“水溶液电沉积法生产薄膜磁性材料”,中国国家科技支撑项目“含有毒有害元素材料的替代技术”共同支持下,针对镀铬的严重环境污染问题,以环境友好和可持续性制造为目标,提出Fe Ni W合金代铬镀层的清洁电镀方案,研究了电镀的机理、工艺、镀层结构及性能,并将该工艺推广到工程应用。 电沉积机理研究表明,Fe Ni W的电沉积是通过活性中间体完成的。W在水溶液中不能单独沉积,但可以同时与Fe、Ni发生共沉积,即诱导共沉积;Fe Ni W合金通过活性物质[(Fe)(Ni)(HWO4)(Cit)2]3-的电化学还原生成三元络合物;Fe元素和Ni元素通过两种平行的电化学反应途径沉积出来。合金中的各种组分均匀混合,形成非晶态的FeNiW三元固溶体结构。 所提出的Fe Ni W电沉积溶液配方,从源头上消除Cr6+电镀所造成的污染。研发出镀前阳极活化处理工艺,镀后热处理工艺,中间自动检测及补加系统和筒式电镀法,实现了钨合金电镀稳定和清洁生产。

关 键 词:诱导共沉积  三元固溶体  非晶态合金镀层  电沉积活性中间体三元络合物  Fe-Ni-W代铬镀层  Cr6+电镀  清洁电镀  自动检测及补加系统  筒式电镀法

The Study of Cleaner Production Process of Electrodeposited Fe-Ni-W Alloys for Replacement of Chromium Deposit
He Fengjiao,Ju Hui.The Study of Cleaner Production Process of Electrodeposited Fe-Ni-W Alloys for Replacement of Chromium Deposit[J].Digital Manufacture Science,2008,6(4).
Authors:He Fengjiao  Ju Hui
Abstract:This research is funded by the Production of Magnetic Thin Film Material by the Method of Electrodeposition from Aqueous Solution of National High Technology Research and Development Program of China (863 Program) and the Alternative Techniques of the Material Containing Toxic or Hazardous Element of National Science & Technology Pillar Program. Aimed at environmental friendliness and sustainable manufacture, this paper proposes the cleaner electroplating process —tungsten alloy electrodeposition for replacement of chromium plating process with serious environmental pollution, presents the electrodeposition mechanism and technology and introduces the structure and properties of Fe Ni W deposit. This electroplating technology is widely applied in the field of engineering.
Keywords:induced codeposition  ternary solid solution  amorphous alloy  electrodeposition  reactive intermediate  Fe NI W deposit for replacement of chromium  hexavalent chromium plating  cleaner production  automatic detecting & adding system  barrel type plating
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