ALD反应室流场分析及优化研究

为解决用于钙钛矿SnO₂电子传输层镀膜工艺的原子层沉积(ALD)设备存在的镀膜均匀性问题，基于计算流体力学(CFD)仿真软件Fluent，从流场的角度对设备反应腔体进行了分析。根据流场分析的结果，进行了反应室结构优化设计。并通过工艺试验，验证了流场的改善对镀膜均匀性有明显帮助作用；对ALD设备流场分析及相关设备的设计优化具有一定参考意义。