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新型金刚石薄膜场电子发射的特性
引用本文:陈光华, 张阳, 张生俊, 宋雪梅, 李英兰. 新型金刚石薄膜场电子发射的特性[J]. 北京工业大学学报, 2000, 26(3): 116-119.
作者姓名:陈光华  张阳  张生俊  宋雪梅  李英兰
作者单位:1. 北京工业大学材料科学与工程学院,北京, 100022
2. 北京理工大学材料研究中心,北京, 100081
基金项目:国家自然科学基金;19874007,69876003;
摘    要:介绍了用微波CVD法制备的一种新型低阈值电压大电流密度金刚石薄膜场发射冷阴极,阈值电压低于1.09 V/μm,场发射电流密度高达418 mA/cm2,这是目前文献中报道的最好结果之一.文中还探讨了金刚石薄膜场电子发射机制.

关 键 词:金刚石薄膜  场电子发射  负电子亲和势(NEA)
收稿时间:2000-05-12
修稿时间:2000-05-12

Field Emission Characteristic and Mechanism of a Novel Diamond Films Cathode
Chen Guanghua, Zhang Yang, Zhang Shengjun, Song Xuemei, Li Yinglan. Field Emission Characteristic and Mechanism of a Novel Diamond Films Cathode[J]. Journal of Beijing University of Technology, 2000, 26(3): 116-119.
Authors:CHEN Guanghua  Zhang Yang  ZHANG Shengjun  Song Xuemei  Li Yinglan
Abstract:Field emitter is the key of vacuum microelectronic devices. A novel diamond films field emission cathode, with characteristic of threshold voltage as low as 1.09 V/μ m and emission current density as high as 418 mA/cm2, was reported. It was fabricated with a microwave CVD technique. The emission mechanism was also investigated.
Keywords:diamond films  field electron emission  negative electron affinity (NEA)
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