蘸水笔刻蚀技术(DPN) 的机理与进展 |
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引用本文: | 蒋洪奎.蘸水笔刻蚀技术(DPN) 的机理与进展[J].中国工程科学,2008,10(7):173-179. |
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作者姓名: | 蒋洪奎 |
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作者单位: | 浙江师范大学交通学院, 浙江金华321004 |
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基金项目: | 浙江省教育厅资助项目(20060470) |
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摘 要: | 蘸水笔刻蚀(dip-pen nanolithography ,DPN)技术是近年来发展起来的基于原子力显微镜(AFM)的一种
扫描探针加工技术,有着广泛的应用前景。蘸水笔技术的刻蚀过程包括AFM 针尖对墨水分子的吸附、针尖与
基底间弯月液桥的形成、墨水分子在液桥中的传输、墨水分子在基底的扩散等四个阶段,并受温度、湿度、针
尖、扫描速度等多种因素的影响。文章具体分析了蘸水笔技术在不同阶段的作用机理,综合介绍了蘸水笔刻
蚀技术在近年来的进展,包括电化学DPN 技术、DPN 的多种加工模式、DPN 的复合加工及多探针的DPN 加工
等;分析了DPN的加工特点及其应用。
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关 键 词: | 蘸水笔 纳米刻蚀 原子力显微镜 纳米加工 |
收稿时间: | 2007/7/25 0:00:00 |
修稿时间: | 1/2/2008 12:42:51 PM |
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