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蘸水笔刻蚀技术(DPN) 的机理与进展
引用本文:蒋洪奎.蘸水笔刻蚀技术(DPN) 的机理与进展[J].中国工程科学,2008,10(7):173-179.
作者姓名:蒋洪奎
作者单位:浙江师范大学交通学院, 浙江金华321004
基金项目:浙江省教育厅资助项目(20060470)
摘    要:蘸水笔刻蚀(dip-pen nanolithography ,DPN)技术是近年来发展起来的基于原子力显微镜(AFM)的一种 扫描探针加工技术,有着广泛的应用前景。蘸水笔技术的刻蚀过程包括AFM 针尖对墨水分子的吸附、针尖与 基底间弯月液桥的形成、墨水分子在液桥中的传输、墨水分子在基底的扩散等四个阶段,并受温度、湿度、针 尖、扫描速度等多种因素的影响。文章具体分析了蘸水笔技术在不同阶段的作用机理,综合介绍了蘸水笔刻 蚀技术在近年来的进展,包括电化学DPN 技术、DPN 的多种加工模式、DPN 的复合加工及多探针的DPN 加工 等;分析了DPN的加工特点及其应用。

关 键 词:蘸水笔  纳米刻蚀  原子力显微镜  纳米加工
收稿时间:2007/7/25 0:00:00
修稿时间:1/2/2008 12:42:51 PM
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