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| Co掺杂对脉冲激光沉积CdO薄膜结构及性能的影响 | |
| 作者姓名： | 江凤仙 纪丽飞 仝瑞雪 |
| 作者单位： | 1. 山西师范大学化学与材料科学学院;2. 山西师范大学材料科学研究院;3. 磁性分子与磁信息材料教育部重点实验室;4. 山西先进永磁材料与技术协同创新中心 |
| 基金项目： | 国家重点研发计划项目(2017YFB0405703)；;山西省自然科学基金项目(201901D111283)资助； |
| 摘 要： | 透明导电氧化物是一类在可见光波长范围内具有良好导电特性和光学透明性的材料,由于其在光电器件中的潜在应用而备受人们的关注。在众多的透明导电氧化物中,立方结构的CdO因其具有低的电阻率和在可见光范围内高的透光率而成为人们研究的热点。采用脉冲激光沉积技术在蓝宝石(0001)单晶基片上制备了一系列Co掺杂CdO薄膜。X射线衍射(XRD)结果表明薄膜为均匀的单相立方结构,以CdO(200)和CdO(111)方向择优取向生长,没有发现Co金属及其氧化物二次杂质相。X射线光电子能谱(XPS)测量进一步表明Co以Co2+的形式存在于薄膜中,且处于高自旋电子态。紫外可见光谱测量表明,Co掺杂CdO薄膜在可见光范围内都具有较高的透光率,均在80%以上。改变沉积过程的氧气分压和基片温度可有效调节薄膜的光学带隙,即随着氧气分压和基片温度的升高,薄膜的吸收带边红移,光学带隙逐渐减小,从2.70 eV减小到2.33 eV。磁性测量结果进一步表明,Co掺杂CdO薄膜具有明显的室温铁磁性,且随着氧气分压的升高,薄膜的磁性明显减弱。Co2+提供局域磁矩,薄膜中氧空位提供的额外... |
| 关 键 词： | 透明导电氧化物 掺杂 CdO薄膜 脉冲激光沉积 |