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二硅化钼材料低温氧化的研究进展
引用本文:王刚,赵世柯,江莞.二硅化钼材料低温氧化的研究进展[J].无机材料学报,2001,16(6):1041-1048.
作者姓名:王刚  赵世柯  江莞
作者单位:中科院上海硅酸盐研究所
基金项目:中科院“百人计划”项目资助(2000.8-2003.8)
摘    要:介绍了二硅化钼低温氧化的研究进展,对当今几种二硅化钼材料低温氧化发生“Pesting”现象的机理模型及改善低温抗氧化的方法进行了评述,在此基础上提出了今后的二硅化钼低温氧化研究的重点和方向。

关 键 词:二硅化钼  低温氧化  Pesting  热力学  动力学
文章编号:1000-324(2001)06-1041-08
收稿时间:2000-11-24
修稿时间:2000年11月24

Progress in the Low Temperature Oxidation of MoSi2
WANG Gang,ZHAO Shi-Ke,JIANG Wan.Progress in the Low Temperature Oxidation of MoSi2[J].Journal of Inorganic Materials,2001,16(6):1041-1048.
Authors:WANG Gang  ZHAO Shi-Ke  JIANG Wan
Affiliation:StateKeyLabofHighPerformanceCeramicsandSuperfineMicrostructure;ChineseAcademyofSciences;Shanghai200050;China
Abstract:
Keywords:molybdenum disilicide  low temperature oxidation  Pesting  
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