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以二氧化硅(Si O2)和氯甲烷(CH3Cl)为原料,在铜粉催化下,采用直接法合成甲基氯硅烷。研究了催化体系及助催化剂用量、反应温度和压力对CH3Cl转化率及甲基氯硅烷产率的影响。结果表明,较佳合成工艺是:在Si O2用量300 g、CH3Cl流量50 m L/min条件下,催化体系组成是Fe(60 g)+Cu(15 g)+Mg(30 g)+Al Cl3(25 g),反应温度280℃,压力0.3 MPa;在此条件下,CH3Cl的转化率为62%,甲基氯硅烷的产率为60.3 g/h。 相似文献
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直接法合成甲基(氢)二氯硅烷具有原料易得、可以连续化生产的显著特点。传统的合成工艺路线有两条:(1)以 Si、CH_3Cl 和H_2为原料合成(2)以 Si、CH_3Cl 和 HCl 为原料合成。本文通过催化作用原理研究,提出了以 Si、CH_3Cl 为原料直接法合成 CH_3SiHCl_2的新工艺。采用 Cu-Cl—Ni—Zn 催化体系不但能使 CH_3Cl 适量分解产生 HCl,而且还能促进 HCl 与 Si、CH_3Cl 反应并有效地转化为目的产物 CH_3SiHCl_2,由小试和400mm 流化床中试所得的混合单体中,CH_3SiHCl_2含量>15%,(CH_3)_2SiCl_2>50%,为工业化生产有机硅含氢单体开辟了新的途径。 相似文献
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本文主要探讨了硅中不同金属相在直接法合成甲基氯硅烷反应中与CuCl、CuCl+CH_3Cl、CH_3Cl的反应,及其对活性和选择性的影响。 相似文献
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光纤通信技术具有通信容量大、传输损耗低、保密性能好等优点,是一种极有前途的多路通信手段。相关技术中利用硅基电子气SiCl4经化学气相沉积法制备光纤预制棒,但是SiCl4中的含金属杂质和含氢杂质因对光子产生很大的振动吸收而增加光纤传输中光的吸收损耗。光纤用SiCl4对纯度的要求极高,其中含氢杂质甲基氯硅烷的含量需降低到5mg/kg或者更低。通过光氯化法结合精馏工艺提纯SiCl4是目前为止制备光纤用高纯SiCl4最合适的方法。本文针对光氯化法去除甲基氯硅烷杂质的工艺过程进行分子层面的反应分子动力学模拟研究,重点比较分析了Cl2与Cl自由基及反应温度对甲基氯硅烷的去除效果,并探究了不同的模拟体系中形成的主要的中间产物及其主要的转化路径,为光氯化除杂反应提供了基础的化学反应机理及工艺的改进方向。模拟结果表明,在反应体系中引入Cl自由基后对甲基氯硅烷的去除效率能够达到相同模拟条件下Cl2的2倍;体系的反应温度与甲基氯硅烷的去除效率之间的相互关系并不是单调变化的,存在最佳反应温度(373K)使甲基氯硅烷的去除效率达到最大;甲基氯硅烷分子中的C—H键及C—Si键因具有较大的键能而难断裂,只有当体系内反应温度升高到一定值后(423K)才可观察到C—H键的断裂,只有在体系内引入活泼的Cl自由基后才可观察到C—Si键的断裂。 相似文献
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直接法合成DDS过程中催化剂的分散及其影响 总被引:4,自引:4,他引:0
引 言有机硅材料是半无机、半有机结构的一类高分子化合物 ,具有优良的耐温特性、介电性、生理惰性和低表面张力等性能 ,因此被广泛地应用在航空航天、军事技术、电子电气工业、纺织造纸、建筑工业、化学工业、金属和油漆工业、医药医疗等领域 .甲基氯硅烷是制造有机硅材料的重要原料 ,而二甲基二氯硅烷 (DDS)则是其中需求量最大的一种[1] .目前普遍采用由美国通用电气公司的罗乔(RochowEG)和康宁玻璃厂的海德 (HydeJF)发明的“直接法”生产有机硅单体 ,其主反应为[2 ]Si+2CH3Cl Cu(CH3) 2 SiCl2 ( 1)此过程的主要副反应是[2 ]Si+C… 相似文献
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对发展我国甲基氯硅烷生产的思考 总被引:11,自引:7,他引:4
通过比较我国甲基氯硅烷生产的技术水平与国际先进水平的差距,从氯甲烷和硅粉的制备及质量、铜催化剂与触体配方,工艺流程与工艺装备,工艺过程与工艺条件、单体精馏与富余单体利用、三废治理7个方面提出了如何提高我国甲基氯硅烷生产技术水平的建议。 相似文献
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笼形八聚(二甲基硅氧基)倍半硅氧烷的合成与表征 总被引:3,自引:1,他引:2
以四乙氧基硅烷〔Si(OEt)4〕与五水合四甲基氢氧化铵(Me4NOH.5H2O)为原料水解缩合得到笼形八聚四甲基铵硅酸盐([SiO1.5ONMe4]8),继而与二甲基氯硅烷〔HSi(CH3)2Cl〕反应,一锅法合成了笼形八聚(二甲基硅氧基)倍半硅氧烷(Q8M8H),最佳反应条件为:反应温度25℃,反应时间36 h,n〔Si(OEt)4〕∶n(Me4NOH.5H2O)∶n〔HSi(CH3)2Cl〕=1∶1∶4,产率80%。FTIR和NMR研究证明,所得产物为Q8M8H;SEM、EDS和XRD研究表明,所制备的Q8M8H具有较高的纯度和完整的晶型结构,属于单斜晶系,a=1.18 nm,b=1.52 nm,c=1.51nm,α=γ=90°,β=108°;TG表明,Q8M8H热失重5%时的温度为210℃。 相似文献
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一、概论在有机硅单体的生产过程中,所获得的反应产物总是含有多种组分的混合物。以直接法生产的甲基氯硅烷单体为例,反应产物中的组分大致如下: 相似文献
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介绍了甲基氢聚硅氧烷在有机硅下游产品合成领域的作用以及理论研究价值,叙述了有机氢氯硅烷与有机氯硅烷共水解缩合法、有机氢氯硅烷与其他硅氧烷催化平衡法、有机氢氯硅烷(或与三甲基氯硅烷的混合物)先醇解后水解催化平衡法和含Si—Cl键的硅油还原法合成制备甲基全含氢硅油(高含氢硅油).混合有机氯硅烷共水解缩合法和混合硅氧烷平衡法合成制备部分含氢硅油(低含氢硅油)的研究进展。探讨了各方法的优缺点。认为可以采用正压或常压进行非溶剂法水解反应,以石油醚为溶剂进行溶剂法水解反应;在水解物调聚之前.应采用相分离装置或别的过滤装置进行脱水和杂质. 相似文献
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在直接法合成甲基氯硅烷单体过程中,除目标产物二甲基二氯硅烷外,还产生了大量的高沸物。本文介绍了催化裂解歧化有机硅高沸物制备二甲基二氯硅烷的研究进展。 相似文献