电子式真空阴极弧离子镀引弧器的研制

研制了电子式真空阴极弧离子镀引弧器 ,分析了其工作原理及工作时序 ,给出了它的关键部分的电路 ,介绍了它的离子镀引弧器的性能及特点。     

电子式真空阴极弧离子镀引弧器的研制

研制具空阴极弧离子镀引弧器,分析了其工作原理及工作时序,给出了」它的关键部分的电路,介绍了它的离子镀引弧器的性能及特点。     

第二十讲 真空离子镀膜

<正>13真空阴极电弧离子镀13.l概述真空阴极电弧离子镀简称真空电弧镀(Vacuum arc plating)。如采用两个或两个以上真空电弧蒸发源(简称电弧源)时,则称为多弧离子镀或多弧镀。它是把真空弧光放电用于蒸发源的一种真空离子镀膜技术,它与空心阴极放电的热(接2019年第4期第80页)     

多弧离子镀设备阴极电弧蒸发源工作稳定性的研究

多弧离子镀技术近年来发展极为迅速，已生产出多种类型的多弧离子镀设备并已投产使用。设备中阴极电弧蒸发源工作性能的好坏直接影响到产品质量。本文在大量实验的基础上对蒸发源的工作稳定性，进行了探讨、研究，分析其影响因素和原因，并提出一些解决办法。     

离子镀铝青铜膜层显微组织研究

采用Ｘ射线衍射及透射电镜研究离子镀铝青铜膜层的生长形态及相分布，特别是利用透射电镜横截面膜技术，研究膜层组成相的深度分布及膜成核生长形态，为研究膜层性能提供实验依据。空心阴极离子镀技术能用以修复磨损超差失效的航空发动机油针，使用效果良好。     

离子镀铝青铜膜层显微组织研究

采用ｘ射线衍射及透射电镜研究离子镀铝青铜膜层的生长形态及相分布。特别是利用透射电镜横截面膜技术，研究膜层组成相的深度分布及膜成核生长形态，为研究膜层性能提供实验依据。空心阴极离子镀技术能用以修复磨损超差失效的航空发动机油针，使用效果良好。     

离子镀技术中基板偏压作用的研究

本文进行了离子镀机理的研究。用俄歇电子谱仪测定了不同工艺的离子镀膜与基板界面的过度层；用急冷忽热试验法评定了不同工艺的离子镀膜与基板间的结合力，用扫描电镜观察了不同离子镀基板偏压的膜层组织形貌。通过实验证明了离子镀中基板偏压有着以下几点重要作用：加基板偏压可以清除基板表面的氧化物污染层，直流二极型离子镀可以使固态不互溶金属组成的膜－基界面形成“伪扩散层”，其膜－基界面结合力比空心阴极离子镀膜－基结合力高；直流二极型离子镀随着基板偏压的提高可以细化膜层织组、消除柱状晶，提高镀层致密度。     

低压反应离子镀等离子源的研制

自动研制了一台用于低压反应离子镀的以硼化镧（ＬａＢ６）材料作阴极发射体的等离子源。介绍了该设备的工作原理,给出了设计参数的选择依据和具体结构形式,测量了放电电流与阴极加热功率、偏置电压、气体流量、励磁线圈电流的关系。该设备已与国产箱式真空镀膜机联调成功。     

磁控电弧离子镀阴极斑点特性的高速摄影研究

利用高速摄影技术，对磁控电弧离子镀中阴极斑点大小、寿命及运动轨迹进行了观测，获得了阴极斑点电流密度、运动速度随磁场、电弧电流及背景气体压力改变而变化的关系曲线。     

氮化钛涂复超硬刀具的研究

一、前言 自从Mattox将辉光放电技术与蒸发镀膜技术相结合创立离子镀以来,在工业发达国家里,离子镀技术受到了极大的重视。目前,在各种有效的离子镇方法中,活性反应镀(ARE)工艺、空心阴极离子镀(HCD)工艺和磁控溅射离子镀工艺最引人注目。其中采用 HCD 工艺制成了各种超硬的化合膜,例如:TiN,TiC,Al2O3等膜。HCD法的TiN涂复工艺已在装饰镀膜、超硬工具、模具等方面得到了广泛地应用。 八十年代初,我所研制成功了空心阴极离子镀设备。主要用来镀表带、表壳等金黄色氮化钛装饰膜。在此基础上,又研制了TiN涂复刀具的HCD设备,并在TiN…     

稀土Ce对电弧离子镀涂层颗粒和致密性的改善作用

电弧离子镀涂层的颗粒和致密度直接影响涂层的力学性能和表面质量.通过在阴极靶中引入约0.5%的稀土Ce,制得了TiN、Ti(Ce)N、(Ti,Cr)N、(Ti,Cr,Ce)N和CrN电弧离子镀层.SEM分析及研究表明:电弧离子镀涂层颗粒的形态除鹅卵状外,圆球形也很常见,炉灰夹杂也是一种涂层颗粒,它对涂层质量的影响更甚于液滴;在阴极靶和涂层中引入稀土Ce可显著减少液滴颗粒,提高涂层致密性.最后,还探讨了稀土元素改善离子镀涂层表面颗粒状况和提高涂层致密度的机理.     

阴极弧离子镀磁过滤器

在真空阴极弧离子镀的过程中,在阴极材料表面阴极斑点处的电流密度很大、斑点温度很高,发射出来的物质中包含有很多宏观粒子团（ＭＰ＇ｓ：ｍａｃｒｏｐａｒｔｉｃｌｅｓ）,构成对成膜表面的污染,人们采用了磁过滤器对ＭＰ＇ｓ进行过滤。采用的型式一般有直线结构,曲线型结构两种。本文介绍了ＭＰ＇ｓ的形成机理,各种磁过滤器的基本结构和工作原理,并着重介绍９０°弯曲弧磁过滤器的特点及离子分布规律。最后,概括介绍了阴极弧离子镀磁过滤器适用范围。     

工作真空度对HCD法离子镀的影响——氮弧与氩弧特性的比较

自七十年代Moley把空心阴极等离子电子枪应用于离子镀,创造出HCD离子镀法以来,小宫宗治又继续做了大量工作,使之得到了大规模的生产应用.在我国迅速发展起来的多种离子镀技术中,HCD法离子镀在生产应用中占有很大的比重,它最先被普遍地应用于耐磨仿金装饰镀和刀具的超硬膜涂覆中.HCD法离子镀具有设备简单,使用安     

真空阴极弧离子镀阴极斑点的移动研究

建立了真空阴极弧离子镀圆形平面靶侧面引弧时 ,阴极斑点的受力模型 ,分析了影响电弧运动的因素 ,改进了圆形平面靶侧面形状 ,大大提高了石墨靶阴极斑点从侧面到靶平面的过渡速度     

真空阴极弧离子镀阴极斑点的移动研究

建立了真空阴极弧离子镀圆形平面靶侧面引弧时,阴极斑点的受力模型,分析了影响电弧运动的因素,改进了圆形平面靶侧面形状,大大提高了石墨靶阴极斑点从侧面到靶平面的过渡速度。     

磁控电弧离子镀阴极斑点特性的高速摄影研究

利用高速摄影技术，对磁控电弧离子镀中阴极斑点大小、寿命及运动轨迹进行了观测，得到了极斑点电流密度、运动速度随磁场、电弧电流及背景气体压力改变而变化的关系曲线。     

氮分压对多弧离子镀TiN涂层相结构及性能影响的研究

本文利用多弧离子镀设备沉积了 ＴｉＮ薄膜，对不同工艺条件下沉积ＴｉＮ的薄膜用 Ｘ射线衍射方法进行了研究，给出了薄膜相结构随氮分压变化的实验结果，测定了薄膜 的显微硬度．用ＳＥＭ方法观察了 ＴｉＮ涂层的组织形貌。指出：氮分压为多弧离子镀 的一个重要工艺参数，我们适当地控制氮分压，可以制作出性能良好的ＴｉＮ薄膜。     

脉冲真空电弧离子源工艺参数对薄膜厚度分布的影响

薄膜厚度的均匀性是影响沉积方法应用的一个重要的因素，利用脉冲真空电弧离子镀技术在Si基片上沉积山类金刚石薄膜，采用轮廓仪对膜的厚度进行了测量，研究服不同工艺参数对薄膜均匀性的影响。实验结果表明：脉冲离子源阴极和基片的距离，主回路工作电压以及沉积频率对薄膜均匀性有不同程度的影响。根据分析结果，找出最佳工艺参数，通过比较两种离子源的结果表明，离子源结构对其镀膜均匀性有较大的影响。     

强流离子源新型LaMo阴极的制备

作为强流离子源新型的ＬａＭｏ阴极，其用于强流离子源阴极的实验结果表明ＬａＭｏ阴极是一种有效的热阴极发射体，且该阴极用于强流离子源时，离子源放电起弧正常，使用寿命大大延长（相对于ＬａＢ６阴极）。本试验对ＬａＭｏ阴极材料的制备进行了探索性的尝试，取得了较好的实验结果，但与样品ＬａＭｏ阴极材料（美国）还存在着一定的距离。     

多层复合真空离子镀膜技术的新发展

本文回顾了多弧——磁控溅射多功能离子镀膜设备的结构和功能，并且对该设备在氮化钛掺金离子镀（IPG）方面的典型应用，做了较为详细的膜层性能分析。同时，本文了对近年来一种新型的多功能离子镀设备——复合式离子镀膜设备的结构及特点做了介绍，给出了该类型设备的典型应用场合，并且向读者介绍了使用该设备镀制的金属/金属陶瓷多层膜的优异性能。