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200810000202
滤色片阵列基板的制造方法
本发明涉及一种滤色片阵列基板的制造方法,它包括:在基板上形成黑矩阵;在印刷辊上沉积彩色光阻剂;制备具有突起的支撑板,所述突起被设置成能与黑矩阵和其它滤色片层相对应;让印刷辊在支撑板上旋转,以便通过让第一部分的彩色光阻剂粘到突起上从印刷辊上去除第一部分的彩色光阻剂, 相似文献
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微透镜阵列的制备已经成为微光学领域的研究热点。利用两次X光移动光刻技术,以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)为正光刻胶,在PMMA基板上制造了微透镜阵列,并对其制作原理进行了详细说明。设计了制备微透镜阵列用的掩膜图形,并通过掩膜图形模拟仿真,预测了微透镜在两次移动曝光显影后的形状。第一次X光移动光刻后,理论上会得到半圆柱状三维结构;第一次光刻后将掩膜板旋转90,进行第二次移动曝光光刻,最终在PMMA基板上制备了面积为10 mm10 mm的3030个微透镜阵列,阵列中每个微透镜的直径约248m、厚度约82m。同时也研究了X光曝光量与PMMA刻蚀深度之间的关系。微透镜阵列形貌测试表明此种制备微透镜阵列的新方法是可行的。 相似文献
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分析了白色光阻材料在不同温度、不同厚度和不同化学品浸泡下色度值、分辨率和附着力的变化情况。验证了白色光阻材料在OGS(One glass solution)触摸屏生产中的工艺条件。首先,关注白色光阻材料的光密度值(OD值)、分辨率、耐化性、耐高温性能以及在不同厚度下白色光阻材料的色度变化。然后对白色光阻材料和触摸屏制作工艺进行工艺整合,提出了采用白色光阻加黑矩阵的双层结构,可以保证白色光阻材料的OD值,防止后面的金属线被透视出来,其中白色光阻的厚度控制在15 μm,黑矩阵的厚度在1.2 μm。在后续的Photo工艺时,调整工艺参数,加大了PR的厚度并加大曝光显影时间,成功解决了这种高段差造成的金属线Open和Remain问题,并采用OGS工艺制作了白色光阻触摸屏样品。 相似文献
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《光机电信息》1995,(3)
日本富士通研究所研制出可简单连接半导体激光(LD)阵列和光纤阵列的LD阵列组件.随着信息处理,通信系统的高速化、大容量化,电布线传输界限正在成为障碍.用光连接装置间的光并行连接作为解决上述问题的方法而引人注目.不过,就构成光并行连接的传输组件而言,因为LD阵列和光纤阵列的光耦合公差非常严格,所以能否简便地进行总的光连接成为制造成本上的课题.该研究所,为了解决上述问题而采用了能够简单调整光轴的光耦合系统,成功地实现了LD阵列组件化.图1(略)为研制出的LD阵列组件的外形.在硅基板上同时连接了振荡波长1.3μm的6个通道LD阵列和单模光纤阵列.每个器件配置间隔为250μm,组件尺寸为6×4×2mm~3非常小. 相似文献
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1.前言当今社会正迎来高度信息化的时代,而 LCD(液晶显示)等显示器件以及光敏阵列等感光器件则是构成信息输入、输出终端的关键性器件。为提高上述器件的性能,有源矩阵板的应用研究十分活跃。有源矩阵基板是在玻片等衬底上,按矩阵状配置以晶体管为代表的众多有源元件。其中采用有源矩阵基板的 LCD(AM-LCD),是一项旨在实现可与 CRT 匹敌的高象质平板显示的强劲技术,尤其受到人们的关注。 相似文献
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高度流行的印刷线路组装及更小尺寸的终端用户产品的发展趋势,形成了更普通的挠曲刚性基板或柔性基板的使用。挠曲刚性及柔性基板制造使用的最普通材料,为聚酰亚胺树脂。本文详细论述了采用聚酰亚胺作为基体材料,在挠曲刚性及柔性基板上混合的芯片上芯片(COC)与板上芯片(COB)的批量生产方面的问题。并分别叙述了在制造工艺期间,影响产品长期可靠性和效率的设计、工艺及制造技术方面的各种考虑,以及对产品的使用寿命的影响。 相似文献
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设计了用于太阳能聚集的全内反射(Total-internal-reflection,TIR)聚光器并采取措施进行优化,将多个TIR聚光器进行叠加放置在光波导板组成波导聚光模块。太阳光线经TIR聚光器阵列收集后照射到光波导板上并在其内部传播,由末端的光伏电池吸收。由实验结果可知,在光波导板长度为400 mm增至4 800 mm的过程中,光学效率由88.6%降低为40.2%,而辐照度由212 W/m2增长为980 W/m2。这样根据不同需求选取不同长度的光波导板,并在保证较高的输出功率的前提下大大减少所需使用的光伏电池面积,同时TIR聚光器只需水平放置在光波导板上,避免了透镜阵列与光波导板的严格对准要求,降低了制造与装配成本。 相似文献
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