纯氮气氛下活性屏离子渗氮处理及其影响因素

利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对38CrMoAl钢在纯氮气氛下进行离子渗氮处理,对渗氮层的硬度、深度、组织结构以及收集粒子的形貌、结构等进行了分析研究.结果表明,电压较低时,Fe主要与O结合生成大量的氧化铁而不能进行ASPN处理,氧起主导作用;只有在电压较高、Fe与N的结合能力较强时才主要生成吸附大量活性氮原子的氮化铁进行ASPN处理.     

40Cr钢富氮层快速离子渗氮技术的探索

用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对40Cr钢进行快速离子渗氮技术的研究.本项研究是利用氮在奥氏体与铁素体中分别具有不同的溶解度和扩散速度的特性,采用了在共析温度以上短时间溶氮和在共析温度以下长时间扩散渗氮的两种不同的渗氮机制,进行交替渗氮处理.试验结果表明,采用这种新的渗氮工艺不仅可以显著提高渗氮处理中氮在钢中的内扩散速度,而且渗氮层具有较高的硬度.这种快速渗氮工艺可以用"吸收-扩散"渗氮模型进行解释.     

偏压对45钢离子渗氮行为的影响

在直流脉冲等离子体渗氮炉内放置一由双层圆筒组成的活性屏,双层圆筒与阴极相接,由于其直径不同可以产生空心阴极放电.将45钢试样放置在活性屏内,一组试样处于悬浮状态,另一组试样施加负偏压(-50～-150 V),同时在400～550℃下进行离子渗氮处理.并用金相显微镜、XRD和显微硬度计对渗氮层进行对比分析.结果表明:偏压显著影响渗氮层的组织结构和性能.偏压试样渗氮层与悬浮试样相比,具有更厚的化合物层,表面硬度更高,扩散层更厚.     

国内外渗碳和渗氮热处理工艺的新进展（三）

5活性屏离子的渗氮技术 [22-26]钢铁工件渗氮的典型处理温度为450~590℃,一般工件处于铁素体或铁素体＋渗碳体状态。依靠辉光放电的离子渗氮技术自上世纪70年代以来已获得愈来愈广泛的应用,但气体渗氮和盐浴渗氮（硫碳氮共渗）仍占65%的比例。离子渗氮过程中工件的打弧和空心阴极效应以致损坏处理工件表面是必须予以克服的。5.1离子渗氮过程中氮传递的本质T.Bell等1987年综述了这个问题,Ederihofer和Keller等认为由于离子轰击使工件表面溅射出来的原子和气氛中的活性氮原子结合沉积,后来,     

纯氮气氛活性屏离子渗氮的研究

在纯氮气氛中，利用活性屏离子渗氮(ASPN)技术对38CrMoAl钢进行了离子渗氮处理，并对渗层的组织结构、硬度、深度等进行了分析。结果表明，只有直流辉光放电电压高于800V时，在纯氮气氛中才能进行活性屏离子渗氮处理。通过对等离子放电空间的粒子进行XRD分析发现，放电电压低于800V时，沉积在基材表面的粒子主要是氧化铁(Fe3O4)；放电电压高于800V时，沉积在基材表面的粒子才是能进行活性屏离子渗氮处理的铁的氮化物(ε，γ‘)。     

论制动轮的渗氮

分析了渗氮对加强制动轮表面硬度的效果,并讨论了渗氮过程中的铁原子和氮原子结合的原理.     

真空渗氮

渗氮处理通常指在低于钢的临界点Ac1,基体不发生相变的前提下,将活性氮原子渗入钢的表层,形成氮化物层的化学热处理工艺。氮化物具有高的硬度、热稳定性和弥散度。因而渗氮件能获得高的表面硬度、耐磨性、疲劳强度、抗咬合性、抗回火软化能力以及抗大气和过热蒸汽的腐蚀能力,并降低缺口敏感性。如38CrMoAl钢渗氮后表面硬度可达1100~1200HV(68~72HRC),光滑试样抗疲劳强度提高20%~40%,缺口试样抗疲劳强度提高1~2倍,高硬度可在500℃下长期保持或在600℃短期保持。当前渗氮新工艺和新设备不断涌现,离子渗氮、真空渗氮、催化渗氮以及复合渗氮等已应用生产。     

纯氮离子渗氮工艺及机理研究

采用高电压低气压、闭炉保温的渗氮工艺对合金钢在纯氮气氛下进行离子渗氮，测定了渗氮层的硬度梯度、渗层深度和相组成。在相同的渗氮时间里，纯氮离子渗氮获得了比以氨气作为渗氮气源进行离子渗氮更好的效果。而且克服了氨气渗氮容易产生环境污染的缺点。通过对纯氮渗氮不同工艺的对比试验，发现只有在足够高的电压下才有明显的渗氮效果。分析了离子渗氮过程中阴极位降区离子的行为，也对渗氮电压如何影响活性氮原子的产生进行了定量的计算，探讨了纯氮离子渗氮的机理。     

活性屏与工件的距离对40Cr钢活性屏离子渗氮行为的影响

为提高40Cr钢的抗磨及耐蚀性能,用304不锈钢冲孔板制成的活性屏对40Cr钢进行离子渗氮(ASPN)处理,研究了活性屏与工件的距离对渗层组织结构和性能的影响,并与普通直流离子渗氮(DCPN)进行了比较。用光学显微镜(OM)、X射线衍射仪(XRD)、辉光放电光谱仪(GDOES)、显微硬度计、往复摩擦磨损试验机和电化学工作站对渗层组织、相成分、硬度、耐磨及耐腐蚀性能进行分析。结果表明:经不锈钢活性屏离子渗氮处理后,试样表面得到了致密均匀的渗氮层,渗层主要由ε-Fe2-3N、γ′-Fe4N和CrN相组成,且随着试样与活性屏距离从10mm、20mm增加到30mm,对应的渗层厚度从6μm、4.7μm减小到3.5μm。经氮化处理后,40Cr钢的耐磨性和耐腐蚀性都有显著的提高,ASPN处理后试样的耐腐蚀性较DCPN有明显的提高。     

工件电位对奥氏体不锈钢活性屏离子渗氮的影响

用活性屏离子渗氮技术分别对处于悬浮电位和阳极电位的AISI 316L奥氏体不锈钢进行低温渗氮处理.并对渗氮层的组织、形貌、相结构、显微硬度和耐蚀性能进行分析.结果表明,在这两种电位状态下处理的试样均可获得具有S相结构特征的单相硬化层.渗氮层不仅具有高的硬度,还有良好的耐蚀性能.在活性屏离子渗氮过程中,从活性屏上溅射下来的中性S相粒子也可以起到氮载体的作用.活性屏空间中性粒子和电子的撞击足以消除不锈钢表面钝化膜对氮的阻隔作用.     

丝网类零件的成形

丝网类零件成形时主要存在收缩变形、漏光和断丝现象,通过对两类零件的分析,阐述了简单零件用常规模具结构分步操作,使弹性变形充分释放的加工方案,获得高生产效率;复杂零件用适宜的成形方向,非同理论的展开料形状,成形尺寸的精确计算,细化工步的模具结构,使易漏光和断丝的零件加工合格。     

不锈钢筛网的焊接

随着改革的不断深入 ,国外各大公司纷纷在华投资 ,有些原来在其国内生产的配套件也开始相应在华寻求合作伙伴。不锈钢筛网便是日本某株式会社在华寻求合作伙伴的一种要求较高的易耗品。在国外 ,此类产品的焊接生产已实现了自动化 ,生产效率高 ,焊接质量好。而在国内目前的情况下 ,还不可能实现自动化。因此 ,摸索一套利用现有的焊接设备、进行切实可行的焊接工艺是很有意义的。1　基本情况不锈钢筛网是不锈钢丝网与不锈钢薄板焊接而成的类似筛子的产品 ,其产品结构见图 1。主要由两部分图 1　产品结构构成 ,即不锈钢丝网和不锈钢薄板。不锈…     

Active screen plasma nitriding of materials

Abstract

The rapid development and the uptake of plasma nitriding technology into industrial surface engineering have slowed down in recent years. This is attributed to some of the inherent shortcomings of conventional dc plasma technology, for example, difficulties in maintaining a uniform chamber temperature, instability of the plasma and potential surface damage to parts caused by arcing. Efforts in overcoming these problems have led to the development of active screen plasma nitriding (ASPN) technology. This review demonstrates that with all its technological and environmental advantages, ASPN can be used to treat low alloy steels, tool steels, stainless steels and other steels which can conventionally be nitrided with dc plasma technology. In addition, ASPN can be used to treat non-conducting materials such as oxidised steels and polymeric materials which are not suitable for a dc plasma nitriding system. In the longer term, environmental friendly and technologically advanced plasma nitriding will outperform conventional salt bath and gaseous methods. Active screen plasma nitriding is a novel way of possibly achieving the full potential of plasma technology for thermochemical surface engineering.     

Differences in nitrided layer between classic active screen plasma nitriding and active screen plasma nitriding with hemispherical cathodic cage

Abstract

Active screen plasma nitriding (ASPN) is commonly used when regular surface hardening is necessary. The ASPN technique produces a more homogeneous surface coating than direct current plasma nitriding (DCPN) due to different process principles. The term active screen in plasma nitriding refers to a cathodic cage with a defined geometry. The purpose of this work was to study the differences between ASPN using a hemispherical cathodic cage and ASPN using a normal cylindrical cathodic cage. Following some trials using similar parameters, the tests were carried out with three conditions: with DCPN, with a cylindrical cathodic cage in ASPN and with a hemispherical cathodic cage in ASPN. X-ray diffraction and scanning electron microscopy analysis together with energy dispersive spectroscopy were applied to characterise the nitrided layers. The nitrided layers are not the same for each of the conditions used. The ASPN with a hemispherical cathodic cage produced a layer of almost Fe₃N alone, while the other processes gave significant amounts of Fe₄N in the nitrided layer. Scanning electron microscopy analysis showed different surface morphology for each condition.     

触摸屏在普通车床上的应用

本文介绍了触摸屏在我公司普通车床上的应用，并用实例说明触摸屏在普通车床上的应用和优点。     

Complicated motion of particles on vibration screen surface

lINTRODUCTIONToday,them0tiontheoryofparticlesonscreensurfaceisanimp0rtantresearchdirectionofscreeningtechn0logyandtheory['~8].Bymeansofstudyingmotionregularityofparticles,wecanobtaintheoptimumkineticparametersfortheindustrialscreeningandraiseitsefficien-cy.Thematerialbeingscreenedhasvariableshapeandsize,withdifferentsurfacemoistureandclaymineralscontents.Themotionofparti-clesisaffectedbydisplacement,velocity,accel-erationofscreensurfaceandfrictionamongpar-ticles.S0theparticles'motiononscr…     

活性屏等离子体源渗氮技术原理及应用

活性屏等离子体源渗氮技术是一种先进的渗氮技术,消除了常规直流等离子体渗氮技术的固有缺陷,且可处理聚合物材料及表面附着氧化皮的金属材料.本文介绍了活性屏等离子体源渗氮技术传质机理的研究进展,在改性低合金钢、不锈钢、工具钢、聚合物材料以及抗菌功能材料等方面的最新结果,评述了活性屏等离子体源渗氮技术存在的问题和发展趋势.     

活性屏离子渗氮技术中偏压电源伏安特性

研究了活性屏离子渗氮技术中,气体成分、主电压、温度、压强以及笼子尺寸对偏压伏安特性曲线的影响,并用气体放电理论对曲线做出了解释。实验结果表明,在H2或N2/H2气氛中,偏压的伏安特性曲线呈线性增长;而在纯N2气氛中,偏压的伏安特性曲线则呈非线性,并在250 V时出现拐点。研究还发现,在偏压一定的情况下,偏流会随着主电压和气压的升高而增大,随着温度的升高而减小,而笼子尺寸对偏压的伏安特性曲线的影响比较小。