彩色滤光片用光阻剂研究

彩色滤光片为液晶显示中的重要零组件,而光阻剂是彩色滤光片的关键材料,其性能好坏直接影响了彩色滤光片的性能,如色饱和度、色纯度、透过率和耐候性能.因此,光阻剂的制取技术是必须掌握的关键技术,而光阻剂的配方为其主要研究对象.本论文研究了光阻剂中分别增加环氧树脂和润湿剂对其性能的影响.     

彩色滤光片用光阻剂研究

彩色滤光片为液晶显示中的重要零组件,而光阻剂是彩色滤光片的关键材料,其性能好坏直接影响了彩色滤光片的性能,如色饱和度、色纯度、透过率和耐候性能.因此,光阻剂的制取技术是必须掌握的关键技术,而光阻剂的配方为其主要研究对象.本论文研究了光阻剂中分别增加环氧树脂和润湿剂对其性能的影响.     

彩色滤光片用颜料细化工艺研究

彩色滤光片是液晶显示器实现彩色显示的部件,而颜料光阻是彩色滤光片的关键材料,占彩色滤光片成本的27%左右。在颜料光阻内作为着色剂的光阻颜料,其性能好坏直接决定了颜料光阻的性能,因此本文在介绍彩色滤光片的基础上,对颜料的细化工艺进行深入研究。     

树脂对颜料分散体系的影响

在彩色光阻剂的调制中,颜料作为着色剂添加于其中,并且性能的好坏直接影响了彩色光阻剂的优劣。因此,为使颜料粒子微细、均匀、稳定地分散于感光树脂中,需要对颜料进行分散。本文通过对分散后颜料粒度分布和存储稳定性的分析,研究了树脂添加比例对颜料分散体系的影响。     

树脂对颜料分散体系的影响

在彩色光阻剂的调制中,颜料作为着色剂添加于其中,并且性能的好坏直接影响了彩色光阻剂的优劣.因此,为使颜料粒子微细、均匀、稳定地分散于感光树脂中,需要对颜料进行分散.本文通过对分散后颜料粒度分布和存储稳定性的分析,研究了树脂添加比例对颜料分散体系的影响.     

树脂对颜料分散体系的影响

在彩色光阻剂的调制中,颜料作为着色剂添加于其中,并且性能的好坏直接影响了彩色光阻剂的优劣.因此,为使颜料粒子微细、均匀、稳定地分散于感光树脂中,需要对颜料进行分散.本文通过对分散后颜料粒度分布和存储稳定性的分析,研究了树脂添加比例对颜料分散体系的影响.     

金属-介质薄膜型宽角度反射滤光片

为进一步提高彩色滤光片的角度容差性和光能利用率等性能要求,设计了一种金属-介质薄膜型反射滤光片。通过膜系优化方法获得了基于减色原理的青色、品红色和黄色三种颜色的反射光输出,中心波长分别为655 nm、555 nm和455 nm,反射谱带宽分别为70 nm、60 nm和60 nm。该彩色滤光片仅吸收可见光波段三分之一光能量而三分之二光能量被反射利用,具有光能利用率高的特点。测试结果表明,该结构彩色滤光片在±40°入射角范围内反射滤光特性基本不随角度变化,满足彩色滤光片宽角度特性要求。与其他结构彩色滤光片相比,薄膜制备工艺决定了该结构彩色滤光片还具有制备容易的优势。     

国外显示技术专利文摘

200810000202 滤色片阵列基板的制造方法 本发明涉及一种滤色片阵列基板的制造方法,它包括：在基板上形成黑矩阵;在印刷辊上沉积彩色光阻剂;制备具有突起的支撑板,所述突起被设置成能与黑矩阵和其它滤色片层相对应;让印刷辊在支撑板上旋转,以便通过让第一部分的彩色光阻剂粘到突起上从印刷辊上去除第一部分的彩色光阻剂,让第二部分的彩色光阻剂留在印刷辊上;     

CCD彩色滤光片的制备与集成技术研究

介绍了彩色CCD的器件结构和成像原理,采用彩色光刻胶光刻法实现了彩色滤光片的制备,并通过分析彩色滤光片缓冲层、滤光片厚度和固化工艺等对滤光片性能的影响,获得了彩色滤光片的片上集成技术,并将其集成在512×512帧转移CCD器件上,完成了性能评价与成像验证.测试结果表明:制备的彩色滤光片主线透过率大于80％,光谱串扰小于15％,色纯度大于75％,集成该滤光片的彩色CCD成像色彩空间与sRGB相当,能够满足大多数CCD相机彩色成像的要求.     

能传送亮丽色彩的微光学器件

国立Chiao Tung大学的研究人员正在研制一种新型微光学系统,以用于增加单板液晶投影显示器的光输出.普通商业单板液晶投影仪含有许多像元大小的吸收型或薄膜型红色、绿色和蓝色滤光片阵列,这些阵列滤光片在产生彩色的过程中,不可避免地浪费掉2/3的有用光能.该大学的研究人员已经使阵列光学概念的研究得到了进一步的发展,并已制造出许多微小的薄膜滤光片、棱镜、孔阑和透镜叠制的叠层板,其目的是利用滤光片的透射光和反射光,以构成几乎没有光能损失的彩色滤光片.     

滤色器的制造工艺

已经开发出几种新类型滤色器制造工艺,光刻法制造滤色器的工艺最成功。色料分散在光刻胶中的工艺也常使用。另外,还在研究用电镀法和印刷法制造滤色器。色料分散法制造的滤色器,有较高的光灵敏度,良好的色对比度,抗热、抗光、抗化学试剂的性能亦佳,现已大量用于生产。     

Fabrication and Performance of Color Filter Arrays for Solid-State Imagers

A technique has been developed for the fabrication of a color filter array (CFA) to be used in conjunction with a solid-state area sensor to provide three-color image information from a single sensor. The fabrication technique employs sublimable dyes which are heat-transferred through photoresist windows onto a polymer receiving layer. Good edge sharpness and a low dye penetration depth into the polymer have been achieved. The predicted and measured spectral response of the color channels of the composite device are in good agreement. The pattern noise associated with CFA transmittance fluctuations from element to element is on the order of 10 percent.     

Fabrication and performance of color filter arrays for solid-state imagers

A technique has been developed for the fabrication of a color filter array (CFA) to be used in conjunction with a solid-state area sensor to provide three-color image information from a single sensor. The fabrication technique employs sublimable dyes which are heat-transferred through photoresist windows onto a polymer receiving layer. Good edge sharpness and a low dye penetration depth into the polymer have been achieved. The predicted and measured spectral response of the color channels of the composite device are in good agreement. The pattern noise associated with CFA transmittance fluctuations from element to element is on the order of 10 percent.     

彩色滤光片制备方法概述

彩色滤光片是液晶显示器中实现彩色显示的重要部件,其制备工艺直接影响决定了彩色滤光片的性能。本文介绍了彩色滤光片结构及原理,比较分析了各种彩色滤光层的制作方法的优势和劣势,提出喷墨法由于具有快速、精准、材料利用率高等一系列优点,其已经成为制备大尺寸彩色滤光片极有竞争力的一项技术,并简要阐述喷墨法国内外的发展现状及。     

TFT-LCD用彩色滤光片

彩色滤光片作为液晶显示器件的关键组件,其性能直接影响显示器的对比度、亮度、视角乃至画面质量。本文阐述LCD用彩色滤光片的结构、特性和制取方法,着重介绍目前最常用的制取彩色滤光片的颜料分散法。彩色滤光片产业属于技术密集型产业,只有掌握相关的技术知识,打破国外在颜料领域的垄断,拥有自主知识产权,才能带动国内整个行业的发展。     

基于制作COF精细线路的液态光致抗蚀液性能研究

卷对卷丝网印刷机在超薄挠性覆铜箔层压板上丝网印刷液态光致抗蚀液,实现COF精细线路的制作。研究了液态光致抗蚀液的感光性能与分辨率力等性能,考察了制作出COF的线路效果。实验结果表明,液态光致抗蚀液网印的针孔数随厚度的减小而增加,液态光致抗蚀剂曝光级数随曝光能量的变化趋势与干膜是一致的,11μm厚液态光致抗蚀剂分辨的最小线路宽达到25μm,满足COF精细线路制作的要求。     

一种MEMS复合牺牲层工艺的研究

以MEMS滤波器中的MEMS开关牺牲层的工艺为例,通过同时运用聚酰亚胺和正胶作为牺牲层材料的方法,避免了牺牲层单独使用聚酰亚胺做材料难于去除,或单独使用光刻胶做材料,叠层旋涂光刻胶时会出现龟裂的缺点.改善了牺牲层固化和刻蚀的效果,减小了刻蚀的时间.此研究应用在表面微细加工工艺中,对MEMS加工工艺具有一定的参考价值.     

谈彩膜工艺划伤鉴定的新设备与方法

TFT-LCD行业中,彩膜工艺玻璃基板在各线传输过程中,由于各种原因,很容易出现划伤的情况,划伤分为膜面划伤(基板表面的光刻胶被划伤)和基板划伤(基板本身被划伤)两种:膜面划伤按照严重程度进行Rework判定,基板不报废;而Glass本身被划伤,很容易在后续跑片中发生碎片,污染重要设备,因此划伤Glass需立刻报废处理.目前的分辨膜面划伤和基板划伤的主要方法为:工程师在宏观检测机(Macro)内通过强光照射,人眼进行观察.这种方法只能分辨程度很重和程度很轻的划伤,并且准确率不高,很容易由于判断错误导致基板在后续跑片时破损在重要设备(涂布机、曝光机等)处,引起产线严重Down机.本文作者提出一种能够准确鉴别膜面划伤和基板划伤的设备及方法,通过探针在恒定压力作用下伸入光刻膜和Glass表面的速度的不同,准确区分出探针接触的为光刻膜还是Glass表面,以此确定划伤是否伤及Glass.这种方法自动化高,准确度高,能够准确区分出基板划伤,避免后续影响产线正常运行.     

纳米压印光刻胶

光刻胶是纳米压印的关键材料,其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时刻蚀选择性。提出了成膜性能、硬度黏度、固化速度、界面性质和抗刻蚀能力等压印光刻胶的性能指标。并根据工艺特点和材料成分对光刻胶分类,介绍了热压印光刻胶、紫外压印光刻胶、步进压印式光刻胶和滚动压印式光刻胶的特点以及碳氧类纯有机材料、有机氟材料、有机硅材料做压印光刻胶的优缺点。列举了热压印、紫外压印、步进压印工艺中具有代表性的光刻胶实例,详细分析了其配方中各组分的比例和作用。介绍了可降解光刻胶的原理。展望了压印光刻胶的发展趋势。