刷镀镍-磷合金工艺的研究

研究了电刷镀Ni-P合金镀液的组成以及工艺参数对镀层中磷含量和镀层沉积速度的影响。结果表明：在最佳工艺条件下，可以获得良好的Ni-P合金刷镀层，且该镀层具有较高的耐蚀性能。     

流态化气相沉积过程中稀释气体流量对颗粒表面SiO2沉积的影响

利用Fe(Si)合金球形粉末为沉积基底,正硅酸乙酯为SiO2气相介质前驱体,采用引入流化环节的化学气相沉积工艺合成了Fe(Si)/SiO2复合粉末。考察了沉积过程中Ar稀释气体流量对Fe(Si)基底粉末表面SiO2绝缘介质沉积过程的影响规律及形成完整核壳异质结构的稀释气体流量范围。实验结果表明,随着流态化气相沉积过程中Ar稀释气体流量的逐渐增大,SiO2绝缘介质在Fe(Si)粉末基底表面的微观形貌从亚微米级团簇转变为完整薄膜再向多孔薄膜转变,沉积速率先减小后增大再降低,在250 sccm时SiO2绝缘介质均匀性最好,沉积速率为0.069 nm/s。此外,形成完整Fe(Si)/SiO2核壳异质结构的Ar稀释气体流量范围为200~300 sccm。     

不锈钢表面真空镀膜方法研究进展

综述了国内外真空镀膜方法,包括化学气相沉积与物理气相沉积方法对不锈钢表面镀膜的研究进展,介绍了热化学气相沉积方法,重点阐述了溅射镀膜方法(包括直流二极溅射、磁控溅射及离子束溅射)及离子镀技术在不锈钢表面镀膜时对薄膜种类、沉积速率、结合力等方面的特点。最后对不锈钢表面各种真空镀膜方法进行了分析对比,指出了存在的问题及今后的发展方向。     

气相沉积涂层技术与模具表面强化处理

介绍了在模具表面上气相沉积涂层的方法，分析了物理气相沉积和化学气相沉积的工艺特点及应用，指出模具表面气相沉积技术的发展方向。     

氮化硼纤维表面涂层的研究现状

综述了高性能连续氮化硼纤维表面涂层的研究现状,目前研究的氮化硼纤维表面涂层方法主要有物理气相沉积法(PVD)、化学气相沉积法(CVD)、溶胶凝胶法(Sol-gel)、溶液浸渍法等,其中溶液浸渍法是最为常用的方法,用此方法涂层过的氮化硼纤维,其防潮性能和力学性能都有了较大程度的提高。     

旋转CVD技术及其在陶瓷粉体担载纳米粒子催化剂制备中的应用

担载型纳米粒子催化材料通常是指将金属或金属氧化物活性相以纳米粒子的形式分散到惰性担载陶瓷粉体表面而形成的复合粉体材料。提高纳米粒子催化材料的分散均匀性是获得高催化性能的关键。传统的溶胶-凝胶法、浸润法等处理步骤冗长,易导致纳米粒子的团聚长大,降低催化效果。流化床化学气相沉积方法则比较适合处理粒径在40mm~500mm的担载粉体。本文着重介绍了粉体旋转化学气相沉积技术的原理,并以镍纳米粒子为例阐述了这种技术的相关应用。采用旋转化学气相沉积技术,在六方氮化硼(hBN)、立方氮化硼(cBN)、氧化铝(Al_2O_3)、氧化硅(SiO_2)等粉体表面沉积(包覆)了镍纳米粒子,显示出了优越的催化性能。本文同时分析了旋转化学气相沉积技术存在的问题及未来的研究前景。     

提高可溶性阳极快速刷镀镍沉积速率的方法

随着电刷镀技术的不断发展和广泛应用,对镀层的厚度和沉积速率的要求越来越高。对可溶性阳极快速刷镀镍溶液的组成及工艺参数进行优化,探讨了提高可溶性阳极快速刷镀镍沉积速率的方法,比较了可溶性阳极快速刷镀镍溶液与不溶性阳极快速刷镀镍溶液的异同。     

化学气相沉积(CVD)炭/碳复合材料(C/C)研究现状

主要介绍了炭／炭复合材料（C／C）的化学气相沉积（CVD0制备方法及其影响因素，以及热解炭的组织与沉积机理。概括了VCD的基本方法，如等温法、压差法、热梯度法等。分析了温度、气流速率、气体浓度、预制体及孔隙的形状大小状况等对CVD过程的影响。列举了热解炭的组织，包括光滑层、粗糙层、各向同性体碳以及它们的变体，并对其生长特征及性能进行了较详细的描述。综述了热解炭的沉积机理，典型的有分子沉积、固态沉积、液滴沉积机理等。     

炭/炭复合材料化学液气相沉积致密化技术研究

介绍了炭/炭复合材料化学液气相沉积工艺的基本原理.化学液气相沉积工艺与热梯度化学气相沉积工艺在本质上是相同的,不同之处是化学液气相沉积用液态烃作前驱体,提高了原料的利用率,加快热解炭沉积的速率.研究了不同沉积温度对炭/炭复合材料微观组织结构的影响.采用偏光显微镜观察了材料的粗糙层、光滑层热解炭微观组织结构.研究发现用环己烷作前驱体当沉积温度为1 100℃时可以得到粗糙层结构的热解炭.     

流态化气相沉积中FeSi5Cr5.5/SiO2核壳结构的演化过程

以正硅酸乙酯为SiO2绝缘介质前驱体，FeSi5Cr5.5合金球形粉末为基体，研究了流态化气相沉积中FeSi5Cr5.5/SiO2核壳结构的形成时间及演化过程。利用X射线衍射仪、场发射扫描电镜和X射线光电子能谱仪对不同沉积时间下制备粉末样品的显微特征进行了分析，利用振动样品磁强计和四探针电阻率测试仪表征了粉末样品在室温下的磁滞回线和电阻率。结果表明，在流态化气相沉积过程中，从原料FeSi5Cr5.5合金粉末到完全转换成FeSi5Cr5.5/SiO2核壳结构粉末至少需要30 min，且转换过程符合三维岛状形核生长模型。在FeSi5Cr5.5/SiO2核壳结构中分别存在5种氧元素结构和4种硅元素结构，形成FeSi5Cr5.5/SiO2核壳结构后粉末电阻率提高了3~4个数量级，但饱和磁感应强度降低了约9.6%。     

以环己烷为前驱体制备炭/炭复合材料

以环己烷为前驱体利用化学液气相沉积工艺,采用针刺炭纤维毡为预制体,制备了具有光滑层和粗糙层结构的炭/炭复合材料。利用金相显微镜、高分辨扫描电子显微镜进行了材料的微观组织结构的分析,分析了在不同位置不同织构热解炭的形成机理。同时阐述了化学液气相沉积工艺原理。实验结果表明,通过调整工艺参数,利用化学液气相沉积工艺可以制备具有不同微观组织结构的炭/炭复合材料。     

化学气相沉积致密针刺C/C复合材料的结构及力学性能研究

以T300炭纤维无纬布、网胎为原材料,层叠针刺成型炭纤维预制体,并采用化学气相沉积工艺对预制体进行致密,制成密度为1.55 g/cm3的针刺C/C复合材料。对针刺C/C复合材料的微观结构进行了观察分析,并对材料力学性能进行了测试。结果表明:化学气相沉积致密的针刺C/C复合材料呈现出以层间大量垂直纤维束为节点的类钉板状网状结构,这种特殊结构使材料层间结合更好,材料整个结构更加紧密;针刺C/C复合材料内部纤维被沉积形成的热解炭所包裹,热解炭的织构类型为光滑层(SL)和粗糙层(RL)并存;针刺C/C复合材料的各项力学性能均达到了较高水平,并且高温力学性能比常温力学性能有了很大幅度的提高。     

两种配位剂对刷镀镍-磷合金协同效应的分析

研究了刷镀镍-磷合金溶液中乳酸、柠檬酸对镍-磷合金沉积速率及其耐蚀性的影响.实验表明:随乳酸的质量浓度增加,沉积速率先增加后降低;随柠檬酸的质量浓度增加,沉积速率降低.当乳酸的质量浓度一定时,柠檬酸为5～20 g/L时,刷镀层沉积速率变化不大.同时添加乳酸和柠檬酸两种配位剂,能明显提高刷镀层的沉积速率和耐蚀性能.     

CVD制备各向同性热解炭的微观结构表征及沉积机制研究

利用化学气相沉积设备及自行设计的沉积室,以高纯石墨为沉积基体,天然气为前驱体,沉积温度1200℃,在不同气体流量下(0.10,0.15,0.20m3/h)制备出了各向同性热解炭块体材料。利用XRD、Raman、SEM、TEM分析手段对材料的微观结构进行了研究。结果表明:各向同性热解炭由粒径为1.5～2.5μm的颗粒组成;热解炭微晶的Lc和La随着气体流量的增加而增大;TEM中选区电子衍射图谱中d002环为圆环,取向角为180°,定量地揭示制备的热解炭为各向同性。     

SiC沉积的机理研究

在石墨基底上采用低压化学气相沉积法沉积SiC,沉积室是热壁.H2载气通过鼓泡法将三氯甲基硅烷(methyltrichlorosilane,MTS)送入沉积室,沉积基底的面积和沉积室的体积比为1×10-2mm-1.沉积参数为:压力5kPa,温度1 100℃,H2的流量为150mL/min,气相成分中H2和MTS的流量比为10.结果表明:较大的液态聚基体表面能低,小液滴在大液滴表面沉积.H2流量小时,小液滴沿大液滴的生长锥顶部环状沉积,各生长锥问有间隙.H2流量增加时,小液滴无序的分散在大液滴的表面上.据此提出了一种可能的SiC的沉积和生长机理.     

常压化学气相沉积法制备氟掺杂TiO_2自清洁薄膜

以四异丙醇钛[Ti(OC3H7)4,TTIP]和三氟乙醇(CF3CH2OH,TFE)为前驱体,采用常压化学气相沉积制备了氟(F)掺杂TiO2自清洁薄膜。通过扫描电镜、X射线衍射、紫外-可见透射光谱等手段对样品进行分析,研究了前驱体TFE的流量与薄膜性能之间的关系。结果表明:前驱体TFE的引入会在TiO2中掺入F并抑制薄膜中锐钛矿相的形成。光催化性能和亲水性能测试表明,沉积F掺杂TiO2薄膜的最佳TFE流量为5.94L/min。     

低浓瓦斯浓缩用碳分子筛的制备研究

以煤为原料,通过炭化、活化、气相沉积制得碳分子,研究了气相沉积时间和温度对碳分子筛孔隙结构的影响。实验结果表明:气相沉积时间为125 min时,气相沉积温度为850℃时,制得的碳分子筛满足实验要求。     

气相法制备ZnS薄膜材料研究进展

综述了近几年ZnS薄膜材料的气相沉积制备方法及其应用,主要讨论了真空蒸发、磁控溅射、脉冲激光沉积、分子束外延、金属有机物化学气相沉积、原子层沉积等制备方法的最新研究进展,指出了ZnS薄膜的各种气相沉积方法的优点和不足以及今后的发展趋势。     

热梯度化学气相沉积工艺与设备的发展

用化学气相沉积法增密多孔坯体，尤其是炭纤维增强坯体，使坯体沿横截面建立起一定的温度梯度，控制碳源气体仅在坯体高温带上裂解、沉积。沉积增密的坯体的电导性和热导性提高，区域温度升高，使高温区向低温区扩展，沉积区逐步扩大。该工艺较能保证获得所需要的材料的显微组织结构，并能大大提高沉积效率。为克服当前广泛使用的等温等压法CVD及压差法CVD的工艺设备生产周期长和生产成本高的不足，本文介绍了几种热梯度化学气相沉积的工艺与设备，同时也比较了其可行性与优缺点。     

化学气相沉积六方氮化硼涂层的制备及应用

六方氮化硼(h-BN)涂层是一种性能优异的功能陶瓷材料,介绍了化学气相沉积( CVD)六方氮化硼涂层的制备工艺,综述了h-BN涂层的优异性能和应用现状,并对其研究发展趋势进行了展望.认为先驱体性能存在缺陷、沉积机理复杂、工艺可控性差、生产成本高是目前CVD制备h-BN涂层存在的主要工艺问题,指出今后还需在新型先驱体的研发和使用、沉积机理的深入探究、工艺优化和放大等方面开展深入研究,以实现h-BN涂层的大规模工业化生产和应用.