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粉煤灰酸法提取氧化铝生产工艺过程中产生出的氯化铝晶体表面附有杂质,需要用氯化铝饱和液对其进行洗涤,洗涤完成后,杂质离子在母液中不断富集,母液中杂质离子富集到一定程度后排出系统进行处理。氯化铝晶体洗涤后母液中的细晶和杂质较高,回补蒸发系统造成氯化铝晶粒变小、纯度及产量降低等问题,运用结晶学、化学的基本理论知识,进行原因分析,提出应对措施。结果证明,经过洗涤后结晶氯化铝表面杂质降低明显,杂质在母液中大量富集,可以通过外排处理。 相似文献
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本文用717~#强碱性阴离子交换树脂对盐酸介质中的镓进行了富集和纯化,对717~#树脂富集镓、分离杂质铝的特性,对实际料液在交换柱中的操作特性和条件做了实验研完,并对镓的交换动力学做了初步探讨,得到了浓度较高、含杂质铝很少的三氯化镓溶液,对降低电解制金属镓的生产成本有一定实际意义。 相似文献
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高炉瓦斯泥含碳、铁较高,含有害杂质锌、硅、铝、硫等亦较多。直接返回利用,不但降低高炉利用系数,还会因锌的循环富集,导致炉况不顺并降低高炉使用寿命。文章总结了高炉瓦斯泥的利用现状以及当前国内对含锌高炉瓦斯泥回收处理技术的现状。 相似文献
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采用Kroll法,以TiCl4和液态金属镁制备海绵钛,对海绵钛分部位取样,对高Fe, Ni和Cr含量样品进行MLA检测,计算Ti?Mg?Fe, Ti?Mg?Ni和Ti?Mg?Cr三元系的混合焓,研究海绵钛中Fe, Ni和Cr杂质的来源及引入过程。结果表明,海绵钛中Fe, Ni和Cr杂质主要来自钢制(1Cr18Ni9Ti)反应容器,其引入经历了在液态金属镁中溶解和与海绵钛合金化两步。当海绵钛于反应器壁处生成后,其与以单质形式溶于液态金属镁中的Fe, Ni和Cr原子结合将杂质富集。采取反应容器镀膜处理、控制反应区温度、使用低杂质含量的液态金属镁、将海绵钛坨底部与边部分离等措施可有效降低海绵钛中杂质含量。 相似文献
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《化工进展》2017,(5)
控制和消除天然气净化过程中醇胺溶剂的发泡对于确保净化装置安全、高效、优质运行至关重要。本文在模拟实验条件下考察了不同工艺参数对UDS溶剂抗发泡性能的影响,并建立了UDS溶剂抗发泡性能的半经验模型。实验结果表明,表面张力、溶剂黏度、溶剂密度等对UDS溶剂的抗发泡性能影响显著。建立的半经验模型能够较好地预测不同工况下UDS溶剂的抗发泡性能。各工艺参数对溶剂抗发泡性能影响大小顺序为:气体流量CO_2负荷温度溶剂浓度。外界引入的杂质组分会改变UDS溶剂的表面性质,且杂质组分在溶剂中的富集导致溶剂理化性质对酸性组分浓度更为敏感,降低了溶剂的抗发泡性能。在工业装置上通过降低杂质组分浓度同时增加闪蒸气吸收塔塔径,有效提高了操作稳定性,实现了工业净化装置的安全平稳运行。 相似文献
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一、前言目前,国内电镀厂家对电镀工艺用水,大多数还是用自来水。众所周知,自来水中的无机阳、阴离子及有机杂质等,通过在镀槽中不断富集之后,往往会引起电镀的多种故障。影响生产和电镀质量。笔者通过对电镀用水水质的对比发现,未经净化的自来水,用于电镀不仅会降低镀层的防锈性能和使镀层粗糙、发白、针孔及套铬困难,而且 相似文献
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水,是人类生产和生活中最基本的必需品;水污染及其治理越来越引起人们的重视;水分析技术正在迅速发展。测定水中Pb、Zn、Cd、Ni的方法很多,但以原子吸收法居多而且通常需要进行分离和富集。富集方法中应用较广泛的是离子交换法和溶剂萃取法。使用ICP-AES技术分析水中的杂质元素是一种理想的方法,采用光电光谱仪不经分离富集即可直接进行测 相似文献
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对降低磷精矿中铁杂质含量进行了试验研究,发现硅酸钠是提高精矿品位和降低铁杂质含量的有效抑制剂。在浮选前加磁选,把部分铁原矿绕过浮选,降低原矿铁品位对降低磷精矿中的铁含量有显著效果。 相似文献
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本工作研究了Ba^2 ,Pb^2 ,Ca^2 等9种金属离子在Sr(NO3)2晶体生长过程中的分凝行为,采用蒸发溶剂方法生长晶体,蒸发溶剂的温度固定在45℃,掺杂离子在初始溶液中的浓度的摩尔分数为0.2%-0.02%,使用等离子发射光谱和电子探针测定了杂质离子在溶液和晶体中的分布,研究发现:主体相Sr(NO3)2和杂质硝酸盐结构的类同性,是杂质离子易于进入晶格的关键因素;杂质硝酸盐的溶解度越小,杂质越容易进入晶体;在同一晶体中Ba^2 离子在(100)扇形富集,它与晶体在不同结晶方向的的表面结构有关。 相似文献
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甲苯法己内酰胺中290nm吸光值的杂质分析 总被引:1,自引:0,他引:1
利用VP-ODS 250 mm×4.6 mm液相色谱柱,流动相为乙腈/水(体积比12/88),1.25 mmol/L磷酸调节酸度,流速1 mL/m in,建立了甲苯法生产的己内酰胺(CPL)中影响290 nm吸光值的杂质的高效液相色谱分析方法。采用大孔径离子树脂和活性炭吸附富集这些微量的杂质,通过液相色谱-质谱联用(LC-MS)和气相色谱-质谱联用(GC-MS)对杂质进行了定性分析。结果表明:该方法稳定可靠,可用于CPL杂质含量控制。LC-MS和GC-MS分析表明,CPL中影响290 nm的吸光值的主要杂质为苯甲腈、2-甲基-8-羟基喹啉、2,6-二氨基吡啶、邻-乙基环己酮肟和相对分子质量为220的物质。 相似文献
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