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为了保护环境、消除污染,实现以无氰镀铜工艺代替氰化镀铜工艺,经实验研究,采用羟基乙叉二膦酸电解液镀铜工艺应用在铝合金零件表面镀铜/镍/铬工艺路线中预镀铜工序。经过生产实践证明,羟基乙叉二膦酸镀铜电解液深镀能力和均镀能力优良;镀液维护简单;镀层与铝合金基体结合力良好,产品合格率达99%以上。 相似文献
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钢铁基体上碱性无氰镀铜 总被引:1,自引:0,他引:1
给出了一种钢铁基体上碱性无氰镀铜的工艺配方。介绍了镀液的配制方法和稳定性,并将本工艺与氰化镀铜工艺的深镀能力进行了比较。测试了电流效率、镀层的受热性和结合力。提出了工艺流程中需要注意的问题。结果表明,本工艺的深镀能力优于氰化镀铜工艺,得到的镀层经烘烤和弯曲试验均无脱皮、起泡现象,镀层与基体结合良好。 相似文献
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焦磷酸盐镀铜迄今仍无对钢铁件、锌压铸件与浸锌铝件不经预镀而直接电镀的工业化成功应用先例.在适当配方及pH等工艺条件下,钢铁件在镀液中虽能不产生明显置换铜,结合力仍不可靠,其根本原因在于使基体表面快速活化的困难很大.取代氰化预镀,实现预镀铜的无氰化势在必行.就如何能达此目的条件再进行一些讨论. 相似文献
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氰化镀铜、铜锡合金工艺,具有镀液深镀和分散能力好、质量稳定、劳动生产率高等优点,尤其适用于铸件和几何形状复杂件、管状件的电镀.由于近年来含氰废水处理日趋完善,且金属镍成倍提价,因而国内不少单位仍采用氰化镀铜锡合金套铬工艺.氰化镀液的特点之一,是镀液中碳酸盐积累较快,氰化镀铜锡合金镀液尤为明显.当镀液中碳酸盐含量达160g/L以上时,就会使镀液电阻增加,分散能力下降,电流效率降低,阳极发生严重钝化,结果又会导致碳酸盐的急剧增加.作者就氰化镀铜锡合金镀液中碳酸钠 相似文献
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钢件直接镀铜性能研究 总被引:3,自引:0,他引:3
本文对硫酸铜-柠檬酸钠-磷酸氢二钾直接镀铜液与氰化镀铜液的性能进行全面对比,从溶液的分散能力、深镀能力、电流效率、电导率、阴极极化和极化度、时间-电位曲线及稳定性等试验结果表明溶液无毒、稳定、电化学性能好、电流效率高和沉积速度快。从镀铜层外观、内应力、孔隙率、氢脆性、定性定量结合力及防渗碳渗氰等试验结果证明,铜层与钢件基体之间的结合力很好,通过试生产说明能达到实际生产要求。从而初步解决了钢件在不含氰化物的镀液中,不要预镀或预浸处理就能直接镀上结合力好、孔隙率小、无脆性铜层的问题。 相似文献
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以丙尔金为主盐的高纯度可焊性镀金工艺 总被引:1,自引:1,他引:0
以清洁环保的丙尔金[即一水合柠檬酸一钾二(丙二腈合金(I))]代替有毒氰化亚金钾为主盐,用市售的可焊性镀金工艺配方及规范,生产高纯度(99.99%)的金镀层。所得镀金层呈浅柠檬黄色、无色斑,比亚硫酸盐纯金层更均匀、致密,金线键合强度经高低温循环试验后稳定,与载体焊接牢固、无空穴,满足美国军标MIL-STD-883H–2010中方法2011.8──键合强度测试规范的性能要求。镀金液性能与亚硫酸盐纯金镀液相近。镀金液使用3年多后,不论是在加热状态或是长期放置都很稳定。 相似文献
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研究了钾盐对氰化镀铜溶液性能的影响,结果表明,向镀液中加30~60 g/L的硫酸钾,能够明显提高镀层的光亮度和镀液的覆盖能力,当采用较低质量浓度氰化镀铜溶液时,硫酸钾能够提高镀液的分散能力.生产实践表明:在挂镀氰化镀铜槽中用硫酸钾取代有机光亮剂能够提高镀层与基体之间的结合力. 相似文献
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Copper strike baths are extensively used in metal plating industry as they present the ability to plate adherent copper layers on less-noble metal substrates such as steel and zinc die castings. However, in the last few years, due to environmental controls and safety policies for operators, the plating industry has been interested in replacing the toxic cyanide copper strike baths with environmentally friendly baths. A broad bibliographic review showed that the published papers, referring to the new nontoxic copper strike baths, are patents, having little or no emphasis focused on electrodeposition mechanisms. Therefore, it was decided to study the copper electrodeposition mechanism from a strike alkaline bath prepared with one of the most nontoxic chelating agents cited in many patents which is the 1-hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, known as HEDP. This acid forms very stable water soluble complexes with Cu2+ ions, thus cupric sulfate was used for preparing the plating bath. The results obtained through a cyclic voltammetry technique showed that Cu2+ ion reduction to Cu from an HEDP electrodeposition bath occurs via a direct reduction reaction without a formation of Cu+ intermediates. 相似文献
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钢铁浸镀铜锡合金工艺研究 总被引:4,自引:0,他引:4
采用硫酸铜、硫酸亚锡为主盐,加入络合剂、光亮剂、锡盐稳定剂,研究成功了一种新的浸镀铜锡合金工艺。探讨了主要成分的影响,检测了镀液镀层性能。所形成的浸镀层结晶细致、光亮,为银白色镀层,与钢铁基体结合力好,覆盖能力高,与其它镀层配套性好,是一种替代氰化镀铜锡合金的新工艺。 相似文献
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防渗碳碱性无氰镀铜新工艺 总被引:2,自引:2,他引:2
介绍了一种实用性防渗碳无氰碱性镀铜新工艺,先进行预镀铜,再进行柠檬酸盐镀铜。给出了工艺流程及工艺规范。经生产实践证明,该工艺操作简单,镀液维护方便,镀层细致、均匀,结合力强。该工艺复合环保要求,可以取代防渗碳氰化镀铜工艺。 相似文献
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