紫外激光探测对常见现场生物物证DNA检验的影响

目的：研究在刑事案件现场勘查中使用的紫外激光物证探测仪对现场指印、血迹等常见生物检材探测后，对这些检材的DNASTR分型结果是否会产生影响。方法：以紫外激光物证探测仪输出的波长为266nm的紫外激光照射检材，照射距离约30cm，照射时间分别为5分钟、10分钟和30分钟，然后再对检材作DNA提取，采用Identifiler试剂盒扩增，3130遗传分析仪进行STR分型。结果：波长为266nm的紫外激光对指印、血迹、唾液斑、脱落细胞、有毛囊的毛发5种常见生物物证照射后，会对指印、脱落细胞的DNA检验结果产生严重影响．但对血迹、唾液斑、有毛囊的毛发的DNA检验结果影响较小。结论：短波紫外激光照射会对指印等检材的DNA检验结果产生严重影响，因此在现场勘查过程中应慎用紫外激光。     

紫外激光特性参数与医用生物学软组织消融应用

100nm～400nm的紫外激光依靠光化学能对物质产生分解作用,这一不产生热能的特性优势正被生命科学应用领域所瞩目.本文通过引用近年来国际国内实验室获得的基础性研究数据,追溯了紫外激光的测量技术及目前临床应用的紫外光的规格由来.     

紫外激光器的发展及应用

本文收集记录了随着光电子技术的发展中紫外激光器的革命过程以及最新激光仪器,不同的激光仪器各有千秋,避免了上代仪器的缺点,以高重复率激光器和高功率激光器为例,分别代表了两种不同的脉冲激光器产品。多年来紫外激光由气体激光器到固体激光器产生了一大飞跃,目前人们广泛使用的对宽禁带半导体进行打标的高重复率紫外激光器对半导体工业市场产生了巨大的影响。未来科学家将努力把纳米技术运用到微型光电器件的组成中。     

深紫外非线性晶体KBe2BO3F2的倍频转换效率

深紫外(Duv)相干光源对于光刻技术、激光微加工、激光光谱仪等均具有重要的意义.KBe2BO3F2(KBBF)晶体是目前唯一可直接倍频产生深紫外激光的非线性光学晶体.本文通过分析KBBF晶体的光学倍频特性,分别得到了Nd:YV04激光2倍频、4倍频和6倍频以及Ti:Sapphire激光4倍频输出的相关技术参数;在此基础上,详细分析了KBBF晶体用于高斯光束的Ⅰ类和Ⅱ类倍频的转换效率.结果对于KBBF晶体用于产生深紫外全固态激光(DPL)的实验研究提供了重要的理论依据.     

我国成功研制国际领先真空紫外激光角分辨光电子能谱仪

由中国科学院物理研究所和理化技术研究所共同攻关和研制的真空紫外激光角分辨光电子能谱仪获得成功。中国科学院综合计划局和基础科学局在京召开了“超高能量分辨率真空紫外激光角分辨光电子能谱仪”成果鉴定会。专家组一致认为，该项仪器使用KBBF非线性光学晶体和通过棱镜耦合PCT专利技术实现激光倍频产生的真空紫外激光，在国际上首次成功地应用于高分辨角分辨光电子能谱仪上。     

紫外、深紫外非线性光学晶体的最新研究进展

深紫外相干光源对于光刻技术、光电子能谱仪、激光精密机械加工等均具有十分重要的意义。本文系统地阐述了可产生深紫外谐波光输出的非线性光学晶体的发现、基本线性、非线性光学性质，以及用它产生深紫外谐波光的方法。最后简介了深紫外谐波光的几个实例。     

紫外、深紫外非线性光学晶体的最新进展

深紫外相干光源对于光刻技术、光电子能谱仪、激光精密机械加工等均具有十分重要的意义.本文将系统地阐述可产生深紫外谐波光输出的非线性光学晶体是如何被发现的,这些晶体的基本线性、非线性光学性质和使用它们产生深紫外谐波光的方法.最后还简单介绍深紫外谐波光的几个典型例子.     

LD抽运355nm连续紫外激光器

报道了一台LD端面抽运Nd:YVO4晶体的内腔三次谐波转换的全固态连续紫外激光器.在谐振腔内,1064 nm的基频波经Ⅱ类相位匹配KTP晶体进行二倍频产生532 nm波长激光,二者再经Ⅰ类相位匹配LBO晶体进行和频获得355 nm紫外激光输出.在Nd:YVO4晶体的外端镀1064 nm/532 nm双波长高反膜作为输入镜,其与输出镜构成平-凹腔结构,并考虑到Nd:YVO4晶体所产生的热透镜效应,对腔长进行了详细的分析计算.当LD抽运功率为3W时,获得4.2 mW连续运转的355nm紫外激光.     

NIST新开展193nm激光功率计校准服务项目

ＮＩＳＴ新开展一项计量服务 ,即对用氯化氩激发物激光产生的１９３ｎｍ的激光功率与能量计的校准。由于眼科手术和高分辨率的光刻技术的ＡｒＦ激发物激光的广泛应用 ,需要对这些激光产生的脉冲紫外辐射进行更好的测量和建立更准确的标准。而且现在计算机的微处理器和记忆芯片 ,其特性尺寸也只有利用此类激光光源产生的短波长辐射才能获得。ＮＩＳＴ制造了两台电校准的量热计作为特殊设计的基准进行校准测量。NIST新开展193nm激光功率计校准服务项目     

紫外光纤的激光传输特性测试

为适应紫外激光传输需要，试制了高透过紫外石英光纤，设计了实验装置，并测量了该种光纤的紫外传输损耗、弯曲损耗、激光损伤阈值和非线性光学效应，并与普通商用石英光纤作比较。分析并获得了紫外光纤的激光传输特性。     

福建物构所发现新型无铍深紫外非线性光学晶体材料

正深紫外激光由于波长短、加工精度高的优点,在半导体光刻、激光光电子能谱仪和激光切割等方面具有重要应用。目前,KBe_2BO_3F_2(KBBF)是唯一能实际输出深紫外激光的非线性光学(NLO)晶体,但是,KBBF含剧毒铍元素且其晶体层状生长习性严重。因此,急需探索新型深紫外NLO晶     

一种非线性光学晶体材料相匹配区间蓝移方案

<正>非线性光学晶体是通过频率转换拓宽固态激光器输出波段的关键材料。随着激光微加工,激光通讯和现代科学仪器的持续发展,对紫外/深紫外非线性光学晶体的需求日益增加。但是,很多拥有宽的紫外透过范围和大的倍频效应的晶体因其双折射无法满足深紫外相匹配而无法输出深紫外激光。中科院新疆理化技术研究所光电功能晶体材料实验室科研人员在深入分析了自主研发生长的非线性光学晶体氯硼酸钾KBOC(K3B6O10Cl)后,基于计算模拟,提     

紫外激光对触摸屏产品中不可视区域刻蚀实验研究

采用紫外激光对触摸屏产品中不可视区域进行刻蚀分析,探究了紫外激光刻蚀原理,讨论了银浆薄膜激光刻蚀与传统印刷工艺异同点,并在此基础上完成一套紫外激光刻蚀系统方案的设计和建造。实验结果表明,选用波长为355nm的紫外激光器,当激光器功率为10W,重复频率100kHz,刻蚀速度为1500mm/s,刻蚀次数1次时,薄膜被完全刻蚀,最终获得功能良好的银浆线路。经测试后发现,所刻蚀后银浆线条平直而光滑,边缘热影响区域较小,最小刻蚀线宽可以达到10μm,基板未受到损伤;与传统印刷工艺相比较,简化了工艺步骤,产品良品率得到提升,是一种无排放的绿色环保先进的刻蚀工艺。     

激光剥离Al2O3/GaN中GaN材料温度场的模拟

对激光剥离Al2O3/GaN技术,建立了紫外脉冲激光辐照过程中GaN外延层内热传导理论模型。计算分析了不同能量密度脉冲激光辐照时,GaN外延层内的温度场分布,由此得到激光剥离的阈值条件。采用紫外KrF准分子激光器对Al2O3/GaN样品进行激光剥离实验,样品表面显微镜和端面扫描电镜(SEM)测试照片说明,计算结果与实验现象相符。进一步分析表明,脉冲激光的能量密度和频率是实现激光剥离的关键参数,适当选取这些参数能将GaN材料内的高温区控制在100nm以内,实现高效低损伤激光剥离。     

紫外激光烧蚀铜诱导电子辐射的研究

通过时间分辨技术对XeCl紫外激光烧蚀金属Cu过程中收集板上电荷的时间分辨测量,获取收集板电压信号的时间分辨,分析了激光烧蚀过程中电子与离子到达收集板的特征.结果表明,电子首先从靶面出射,离子紧随其后.收集板上的正、负电压信号分别由激光烧蚀金属Cu产生离子和电子发射而引起,高能电子对环境气体具有碰撞电离的作用.连续辐射的产生与持续时间和收集板上接收电子的负电压信号相对应.结合连续辐射强度的空间分布,对电子辐射的机理进行了探讨.认为电子辐射主要为韧致辐射,韧致辐射来源于近靶处高能电子与等离子体中的粒子相互作用,它是产生连续辐射的主要成因.     

脉冲紫外激光改性对聚碳酸酯表面润湿性能的影响

355nm脉冲(100kHz)紫外激光刻蚀改性的功率密度对聚碳酸酯(PC)材料表面润湿性能的影响存在规律性:当激光功率密度小于0.27×108W/cm2时,可得到亲水性的PC表面;当激光功率密度在1.15×108～10.19×108W/cm2之间时,可得到疏水性的表面。用扫描电镜技术(SEM)和X射线光电子能谱技术(XPS),详细探讨了紫外激光刻蚀改性对PC表面润湿性能的影响机理。当激光功率密度大于1.15×108W/cm2时,尽管改性后PC表面的含氧极性基团有所增加,但由于"V"字形沟槽结构的存在,使其表面仍然呈现疏水性。探讨了用Cassie模型解释在一定的激光功率密度刻蚀改性条件下,PC材料表面的水接触角和润湿性能变化的可行性。     

金刚石薄膜抗激光破坏研究

介绍了金刚石优异的光学和力学特性,对金刚石薄膜在从紫外到红外波段以及不同脉宽激光参数下的激光损伤行为和损伤阈值进行了评述。分析了不同激光工作参数对金刚石薄膜的激光损伤机理,认为石墨化导致晶格失稳是金刚石薄膜激光损伤的主要原因。金刚石薄膜石墨化有两种方式:垂直表面向体层方向石墨化和平行表面按分层的方式逐层石墨化。     

纳秒脉冲激光对316L不锈钢微抛光效果的影响

激光微抛光过程中,激光的能量密度对微抛光效果的影响很大.采用纳秒紫外脉冲激光(波长为355 nm,脉冲宽度为35 ns)对316L不锈钢材料进行微抛光实验研究,分析了工件表面的形貌、扫描速度和离焦距离等因素对激光微抛光效果的影响.通过对4种不同表面形貌的抛光效果比较,发现不仅表面粗糙度会影响抛光质量,而且表面的形貌也对激光微抛光的效果有很大影响;激光微抛光时对确定的激光能量密度存在最佳微抛光效果的扫描速度和离焦距离.提出了355 nm紫外纳秒脉冲激光器对316L不锈钢微抛光效果的最佳工艺参数:激光能量密度为0.14 J/cm2,激光脉冲重复频率为20 Hz,扫描速度为18.6 mm/min,离焦距离为81.2μm.在此工艺参数下,316L不锈钢经过微抛光之后,表面粗糙度由123.23 nm降低至80.96 nm.     

熔石英在3ω激光下输入输出面的阈值分析

在紫外激光条件下对熔石英样品输入输出面进行了损伤阈值测试,测试结果表明熔石英样品输入面损伤阈值是输出面的1.25倍.其损伤形貌基本表现为小麻孔聚集和烧蚀疤痕,表明其损伤由激光驻波场和烧蚀共同引起,并用激光压力模型对其损伤机理进行了分析.     

脉冲激光沉积生长单相的Nd_(1.85)Ce_(0.15)CuO_4薄膜及其激光感生热电电压效应

采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在SrTiO3单晶衬底表面外延生长单相的1.85 Ce0.15 CuO4(NCCO)薄膜,并首次在斜切衬底上生长的NCCO薄膜中探测到激光感生热电电压(LITV)信号.实验研究表明,在低沉积温度、高沉积氧压和较大的激光脉冲重复频率下生长的NCCO薄膜中存在Nd1-xCexO<<1.75>,(NCO)杂相,是由于衬底表面吸附粒子扩散迁移困难所致;而高温下真空退火导致杂相的产生,则与NCCO的结构相变引起的热分解有关.通过提高沉积温度、降低沉积氧压和激光脉冲重复频率、并采用低温(T≤800℃)真空退火的方式,可以抑制杂相的形成.制备得到的单相的NCCO外延薄膜是一种新型的原子层热电堆材料,能量为1mJ的紫外脉冲激光的辐照,可以在倾斜的NCCO薄膜中诱导产生0.8V的LITV信号.