扫描电镜生物标本制备的超快微波处理技术

由于生物标本含有较多的水分,而扫描电镜内部是高真空的,它要求放入的标本必须干燥,但在样品空气干燥时由于液体表面张力的作用样品发生皱缩、龟裂,样品表面发生塌陷,使细胞外形发生明显改变、与生活形态的形状相差太多。为此,须对扫描电镜观察的生物样品进行固定、脱水,最后用临界点干燥器进行干燥,临界点干燥是传统的常规干燥方法。国外曾有人使用连续的微波照射固定扫描电镜样品,我们根据自己的实验经验,改进了微波固定样品的方法,使用微波照射干燥扫描电镜洋品取得很好的效果。胃和小肠,经缓冲液洗后,放入磷酸缓冲的2.5％戊二醛(pH7.3)中。实验共分三组:第1组为对照组;第2     

一种用扫描电镜制作表面纳米结构的方法

提出了一种用扫描电镜制作表面量子点、纳米孔和纳米线阵列的方法，该方法是在数字式扫描电镜的阴极自偏压电路中串联一个可控的负电压发生器，其内阻远小于自偏压电阻；用扫描电镜本身的行扫描时钟信号作为控制信号,经倍频和放大，加到电子枪栅极上控制电子束的通断，使电子束由连续扫描变为规则的点、线扫描，不需用模板即可以“直写”方式在涂有电子束光刻胶(PMMA)的样品上实现点、线曝光,形成周期性量子点、纳米孔和纳米线阵列.     

微波热效应在食品工业中的应用

微波作为一种新的加热能源,在食品工业中的应用发展极为迅速。本文介绍了微波热效应、微波加热的原理和特点及微波萃取、微波干燥、微波膨化、微波杀菌和微波灭酶保鲜等方面在食品工业中的应用和发展。     

一种用扫描电镜制作表面纳米结构的方法

提出了一种用扫描电镜制作表面量子点、纳米孔和纳米线阵列的方法,该方法是在数字式扫描电镜的阴极自偏压电路中串联一个可控的负电压发生器,其内阻远小于自偏压电阻;用扫描电镜本身的行扫描时钟信号作为控制信号,经倍频和放大,加到电子枪栅极上控制电子束的通断,使电子束由连续扫描变为规则的点、线扫描,不需用模板即可以"直写"方式在涂有电子束光刻胶(PMMA)的样品上实现点、线曝光,形成周期性量子点、纳米孔和纳米线阵列.     

一种用扫描电镜制作表面纳米结构的方法

提出了一种用扫描电镜制作表面量子点、纳米孔和纳米线阵列的方法,该方法是在数字式扫描电镜的阴极自偏压电路中串联一个可控的负电压发生器,其内阻远小于自偏压电阻;用扫描电镜本身的行扫描时钟信号作为控制信号,经倍频和放大,加到电子枪栅极上控制电子束的通断,使电子束由连续扫描变为规则的点、线扫描,不需用模板即可以"直写"方式在涂有电子束光刻胶(PMMA)的样品上实现点、线曝光,形成周期性量子点、纳米孔和纳米线阵列.     

微波辐射对稠油脱水降粘的影响及其工艺研究

针对目前稠油开采和利用存在脱水、降粘难等问题,基于微波热效应与非热效应的原理,利用自行设计的微波辐射实验设备进行研究,系统分析了微波辐射功率和时间对脱水率的影响,以及辐射对胶质和沥青质的影响,并详细介绍了微波辐射工艺中的具体流程。结果表明：微波辐射平均脱水率为90.7%,与普通加热脱水技术的脱水率为34.8%相比,脱水效率高;频率为915 MHz、功率为1 kW 的微波作用1min 后（热效应）,油样温度迅速升高到71.2℃,反应速度快;微波辐射（非热效应）后运用四组分测定法,测得油样中沥青质含量减少了2.5%和胶质含量减少了1.2%,油样粘度在低温区发生明显的改变。研究结论为该项技术在工业应用中提供了重要的参考和展望,证明了该技术具有良好的应用前景。     

简讯

第5届全国微波化学会议于2004年lO月20日至22日在武汉举行，会议的主题包括微波化学合成反应及机理、微波化学合成反应技术及应用、微波烧结技术、微波等离子体技术及应用、微波加热及相关技术应用等。本次研讨会共收到论文45篇，来自国内外三十多个单位的专家学者及研究人员就微波化学合成、微波的热效应和非热效应、微波萃取、微波烧结、微波干燥、微波技术、微波等离子体技术及其应用等进行了研讨。     

基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理

根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响。实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀。结果表明,利用表面张力作用可使熔融状态下的光刻胶光栅刻槽表面变得平滑,粗糙度降低,并且成功地在K9玻璃基底上得到了槽形较好的全息光栅。     

新型高抗粘紫外纳米压印光刻胶的工艺研究

为了减少紫外纳米压印技术脱模过程中的接触粘附力,开发了一种新型高流动、抗粘的紫外纳米压印光刻胶。光刻胶以BMA为聚合单体,添加特定配比的交联剂和光引发剂配置而成。紫外纳米压印实验在本课题组自主研发的IL-NP04型纳米压印机上完成。实验得到光刻胶掩膜膜厚为1.21μm,结构尺寸深246nm,周期937.5nm。实验结果表明,在没有对石英模板表面进行修饰的情况下,该光刻胶依然表现出高可靠性和高图形转移分辨率,有效减少了紫外纳米压印工艺中的模板抗粘修饰的工艺步骤。     

微波生物非热效应的量子理论及其机理

根据已有的微波生物非热效应的实验,应用量子力学推导出微波生物非热效应的公式。该公式表明:微波生物非热效应与辐射功率无关,仅取决于生物组织的结构。根据共振吸收的普遍性和生物组织的结构所具有的自适应性,提出“共振自适应”理论,并用其来解释微波生物非热效应。     

运用精确电压衬度像技术实现精确定位的原位电子束纳米刻蚀：制造具有悬挂纳米线结构的纳米器件

本文演示了运用精确电压衬度像技术实现原位电子束纳米刻蚀技术的精确定位,并运用该技术制作成具有悬挂结构的纳米开关。通过运用精确电压衬度像定位技术,能够很好地控制偏转电极的定位,误差可减少到大约10nm。通过该技术,不用通过任何刻蚀过程只运用一次电子束纳米刻蚀,便可实现将分散的纳米线夹在两个电阻层中间形成悬挂结构。在原位电子束刻蚀的整个过程中,无需移动样品台从而消除了样品台的移动误差。因此,整个过程中不需要高精确的激光台和定位标记,从而简化了传统的电子束纳米刻蚀工艺。通过该方法制作的纳米开关随着施加电压的改变很好地实现了闭合和断开的状态。这种简化的过程提供了一种简单、低成本、快速的通过改装过的场发射扫描电子显微镜（FESEM）来制作纳米线悬挂结构的方法,并可运用该技术进一步制造多层结构和特殊的纳米器件。     

乙醇辅助激光烧蚀切割硅晶圆工艺

为了减小激光切割硅晶圆时的热效应,选择去离子水作为辅助液体进行激光切割实验,研究了水下切割时激光烧蚀激发气泡对硅片表面造成的不良影响。为解决水下激光切割进程中诱导气泡大面积粘结在硅片表面的问题,提出了去离子水混入乙醇溶液的实验方案,分析了水下激光切割中激光参数和乙醇浓度对切割质量的影响。实验结果表明,采用乙醇溶液作为辅助介质能明显减少粘结气泡的数量,减轻气泡破溃冲击带来的负面影响。实验采用乙醇浓度5 wt.%时切割得到的硅片比纯水中切割得到的硅表面影响区减小50%以上、切缝宽减幅约20%,有效提升了激光切割质量。     

Effects of reaction conditions on the structural,morphological and optical properties of solvothermal synthesized ZnS nanostructures

Structural and morphological controlled ZnS nanostructures were synthesized with solvothermal method by using the mixed solvent of ethylenediamine (En) and deionized water. ZnS nanowires were synthesized successfully. The mechanism of the morphological evolution of ZnS nanostructures was concluded by studying the influences of different synthetical conditions on the properties of ZnS nanowires, which included the volume ratios of En and deionized water, the mole ratios of two precursors, different zinc precursors, reaction temperatures and times. The optical properties of ZnS nanostructures were also examined by photoluminescence and absorption spectra.     

Investigation of the Photoresist Pattern Profile Contrast Improvement in Interference Lithography Technique Using 488-nm Laser

The interference lithography technique at 488 nm is explored theoretically and experimentally, and the effect of photoresist pattern profile contrast improvement is presented. In order to produce high contrast photoresist patterns using interference lithography, the system setup and process have to be optimized strictly, and process optimization can be facilitated by simulation. In the proposed simulation method, the absorption coefficient of photoresist varying with wavelength is considered by using photoresists with lower absorption coefficients, or, for the same photoresist, using laser sources with longer wavelengths. The visibility of aerial fringe patterns of the photoresist can be improved greatly. However, after developing, the contrast of photoresist patterns was not improved. The reason is that the photo sensitivity and etching rate V of photoresist decrease at 488 nm. This offsets the effect of lower absorption coefficients even though a 488-nm argon ion laser source is useable for some photoresists. This opens up a new window for the interference lithography technique.      

High density self assembled nanoparticle film with temperature-controllable interparticle spacing for deep sub-wavelength nanolithography using localized surface plasmon modes on planar silver nanoparticle tunable grating

A novel photolithographic technique using a periodic hexagonal close packed silver nanoparticle 2D array photo mask has been demonstrated to transfer a nano-pattern into a photoresist using G-I line proximity photolithography. This method can be made to precisely control the spacing between nanoparticles by using temperature. The high-density nanoparticle thin film is accomplished by self assembly through the Langmuir-Schaefer (LS) technique on a water surface and then transferring the particle monolayer to a temperature sensitive polymer membrane. A 30 nm hexagonal close packed silver nanoparticle 2D array pattern with a 50 nm period has been successfully transferred into S1813 photoresist using I-line exposure wavelength. The resultant feature sizes were 34 nm with a period of 46 nm, due to the surface plasmon resonance where the S1813 photoresist feature is approximately 11 times smaller than I-line exposure wavelength.     

Static charge removal with IPA solution

Due to the an increase in pattern densities and wafer diameters, it is extremely difficult for wet chemical processing to perform complete cleaning, rinsing and drying for highly rugged surface of very fine pattern ULSI devices. IPA Vapor Drying is a widely used drying method in semiconductor manufacturing. As IPA has low surface tension and very high solubility to water, it is suitable for IPA vapor process to perfectly eliminate contamination of the wafer surface. This drying system also has an ability to eliminate static charge and can essentially achieve the high quality of the surface cleanliness. Therefore, the mechanism of static charge removal was studied using a quantitative method for the direct measurement of static charge     

微波多模腔体对水性聚氨酯涂膜加热仿真分析

水性聚氨酯为水与高分子聚酯材料的混合材料,工业上采用热风和红外干燥方式对水性聚氨酯材料进行干燥存在干燥效率低同时时间长等问题。为解决在传统干燥过程中存在的问题,本文通过使用有限元方法对水性聚氨酯涂膜在多模微波腔体内进行建模,通过测试并拟合水性高分子聚氨酯乳液介电常数随温度的变化曲线;仿真了微波干燥方式下涂膜的温度分布,获得了涂膜整体平均温度随微波功率的变化仿真结果,确定了在相同的时间内有利于水性聚氨酯涂膜干燥的微波功率,仿真了在该微波功率下涂膜整体温度随时间的动态变化过程。     

射频同轴传输线的设计仿真与加工工艺

基于SU-8和BPN紫外负性感光胶,结合微电镀工艺加工制作射频同轴传输线,以实现射频器件信号的传输与耦合。首先确定在阻抗匹配情况下同轴传输线特性阻抗为50Ω的同轴传输线的具体尺寸,然后通过HFSS仿真软件对设计的结构进行模拟仿真。通过仿真结果验证设计的可行性,采用紫外光刻技术利用SU-8光刻胶做出内导体支柱,并用BPN光刻胶做出结构,对结构进行电镀。最后将BPN光刻胶剥离,即可得到射频同轴传输线。此方法制得的同轴传输线具有介质损耗小、辐射损耗小、无色散、带宽大和抗干扰强的优点,适用于高性能射频和微波电路。另外,它的制作工艺能与其他射频和微波器件及集成电路工艺兼容,便于与射频和微波电路集成。     

微波在煤泥低温脱水提质的应用研究

利用微波能对煤泥低温脱水提质,探讨了微波干燥的影响因素;分析了微波干燥对煤泥性质的影响;寻求煤泥资源化利用的途径。微波时间、功率和煤泥形状、质量对微波干燥效果影响显著。在微波作用下,煤中水分的蒸发过程分三个阶段:煤加热,外在水分减少,内在水分减少,因而干燥速度较快。烘干重量为200g,水分25%的煤样所需时间不超过700s。试验表明:干燥200s后,煤样温度可达110℃;600s后,温度可达240℃。不仅蒸发了水,也排出了挥发成分。煤泥在微波低温干燥条件下具有较好的脱水效果,干燥后煤泥的含水率和热值提升幅度均达到了预期目标,证明了微波在煤泥干燥提质方面应用的可行性。煤泥微波脱水后,由于微波加热在加热物料内形成的特殊传热传质机理,煤泥内部的矿物盐等会在煤泥表面积聚,形成"硬壳",煤泥不易粉化、破碎,且水分回吸不明显,有助于后续运输和利用。