一种保持真空真空度稳定的控制系统

本项工作是配套“８６３”项目金刚石镀膜装置而进行的。由于沉积金刚石膜的时间长达几十个而真空室真空度的稳定性对成膜质量的好坏有很大的影响，所以保持真空度的稳定将成为一个关键性的技术问题。本文简要地介绍了利用单片机实现真空度稳定控制的工作原理，阐述了软，硬件的具体实现方法。     

MWPCVD制备金刚石膜装置的大功率稳定运行的研究

介绍了水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜装置的结构和工作原理,着重讨论了该装置长时间大功率稳定运行的措施。该装置在微波输入功率为3．0kW时能长时间稳定运行。用该装置成功地在硅衬底上沉积出金刚石膜。     

简易触点真空控制器及其在减压精馏脂肪酸中的应用

目前,在精馏工艺中,真空精馏得到了愈来愈广泛的采用。其优点是:精馏温度低,消耗热量少,质量有保证,产品纯度高。但是,往往有较好的真空获得设备,而精馏的效果并不佳,这是由于对获得的真空度没有进行稳定控制所造成的结果。因此,对于真空技术的应用,除了真空获得和测试以外,控制真空度的稳定也是一个很重要的因素。稳定真空度是真空精馏的重要条件。我们在740mmHg减压精馏合成脂肪酸的中型装置上,采取了几个稳定真空的有效措施,并设计了一个结构简单,容易制造,控制灵敏的     

第十四讲:真空工程用焊接技术

（上接2006年第6期第63页）热态真空度又称工作真空度，是指从开始加热到充气冷却这段时间的炉内真空度，这是由于加热时，零件、夹具要析出气体；使用膏状钎料时粘结剂要挥发。这些因素都会不同程度地引起冷态真空度的降低。但是在钎焊温度下，要求炉内真空度基本恢复到冷态真空度，通常是采用适当延长稳定时间的方法来实现的。如果钎料中含有蒸气压较高的合金元素，为了防止合金元素大量挥发而污染炉膛，这时热态真空度与冷态真空度相差较大。例如用铜基钎料时，因为铜在940℃时的蒸气压为1Pa，     

组态软件在电子束炉真空系统中的应用

西北有色金属研究院有一台20kW电子束炉，真空度不稳定严重影响该该设备生产质量提高。本文在分析电子束炉真空度不稳定原因的基础上，阐述了新的真空系统控制方案及其算法。新系统真空度稳定，调节方便，极大的提高了产品质量和产量。     

基于CVD厚膜金刚石刀具的超声振动切削模具钢实验

采用化学气相沉积（chemicalvapordeposition,CVD）厚膜金刚石刀具进行模具钢超声振动切削实验．首先阐述刀具的材质特点,观测其刀尖微观形貌和切削刃截面轮廓．然后搭建了适应精密／超精密加工需求的超声振动切削实验装置,其中激振机构可稳定实现频率42．0kHz、振幅峰峰值8～9μm的振动输出．通过切削无氧铜实验证明该超声振动切削装置工作有效、稳定后,选用AISI420模具钢进行切削实验,研究切削工艺条件及切削用量对加工质量的影响,得到适用于CVD厚膜金刚石刀具的切削用量选取范围,对比研究发现超声振动切削在提升加工表面质量、减少金刚石刀具磨损方面均优于常规切削．本研究可使切削模具钢时的金刚石刀具磨损VBmax由500～600μm减少至40μm,模具铜表面粗糙度Ra由0．93μm改善至0．09μm．本研究为金刚石刀具超声振动切削模具钢的实用化积累工艺经验,并探索提供可行的技术实现途径．     

水冷反应室成MWPCVD制备金刚石膜装置研制

微波等离子体化学气相沉积（MWPCVD）是制备金刚石膜的一种重要方法。为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积,研制成功了水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜的装置,装置在微波输入功率为3.0kW时能长时间稳定运行,并在硅衬底上沉积出金刚石膜。     

MPCVD金刚石膜装置的研究进展

微波等离子体(MPCVD)法因其独特的优势,成为高速、大面积、高质量制备金刚石膜的首选方法,MPCVD金刚石膜装置的研究受到科研人员和工业界的广泛关注。文章对金刚石膜的性质和各种制备方法进行了简要概述,论述了CVD金刚石膜的生长机理,着重阐述了各种MPCVD装置的结构特点及工作原理,并对各种装置的优、缺点进行了分析。研究结果表明:研制具有高品质因数谐振腔能激发均匀微波等离子体的MPCVD装置,是进一步开发金刚石膜工业化应用所需解决的主要问题。     

水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜装置研制

微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)是制备金刚石膜的一种重要方法.为了获得金刚石膜的高速率大面积沉积,研制成功了水冷反应室式MWPCVD制备金刚石膜的装置.装置在微波输入功率为3.0 kW时能长时间稳定运行,并在硅衬底上沉积出金刚石膜.     

真空测量装置的流导对测量真空度的影响

夹层真空度是影响低温容器真空绝热性能的主要因素。真空度测量结果不仅与真空规管本身的测量精度有关,还与真空测量装置的流导有关。搭建了真空测量系统,设计两种不同流导的真空测量装置,模拟高真空多层绝热低温容器真空测量系统的实际工况,测量这两种装置下的真空度并进行分析。结果表明真空测量装置的流导大小对该装置的真空度测量有较大影响,流导大的测量装置需要较短的抽气时间就能保证该装置上规管的测量值有较好的精度。结果可为低温容器真空测量系统的设计、试验和使用提供参考。     

类金刚石碳膜的制备工艺

用射频－直流等离子体化学气相沉积法制备出类金刚石膜，用多因素和单因素正交试验设计方法对类金刚石的沉积工艺进行了研究，结果表明，极板偏压、真空度和气体成分是影响膜沉积速率的主要因素。沉积速率与ＰＶ成正比，且随反应气体深度单调增加，但当Ｃ２Ｈ２浓度低于１０％时，几乎不能成膜。     

热丝化学气相生长金刚石温度场流场模拟计算和反应器设计原理研究

在对于现有金刚石气相生长工艺特点综合分析的基础上，通过对于热丝化学气相生长金刚石工艺过程状态参数的空间场模拟及相应的实验研究，揭示了热阻塞、热绕流等背离反应基本条件的现象，以及状态参数高度不均匀性的场分布，导致偏离金刚石生长所需合理条件。这些正是当前热丝化学气相生长金刚石速率低、成本高、质量不稳定的重要原因。空间模拟及生长实验结果证明，通过选择合理的反应器结构和反应条件，可以控制反应状态参数空间场，使其符合气相生长金刚石要求，达到在保证质量稳定南时，实现大面积高速生长。这些结果为大面积高速度高质量气相生长金刚石明确了新的发展前景和具体实现途径。     

微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置的研究进展

综述了各种微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）金刚石膜装置的结构及工作原理,并对它们各自的优缺点做了比较分析;基于MPCVD金刚石膜装置的发展现状,构想设计了一种新型高效的大功率大面积快速沉积CVD金刚石膜装置,并对其可行性做了初步分析研究。     

30MeV电子直线加速器真空系统的改进

简要地介绍了改进前３０Ｍｅｖ电子直线加速器真空系统的性能。改进的重点是予抽管道系统。以提高 加速系统的真空度，为防止油蒸汽污染微波系统和加速系统设置了防止运油装置并采取了其他措施，合 理的安排抽气泵组，使整个加速器真空系统获得１０－７托的工作真空度，保证加速器顺利工作。     

溴化锂吸收式制冷机的真空管理

总结介绍了溴化锂吸收式制冷机对于机组真空度要求高的原因，以及目前主要的真空管理方法。阐述了几种溴化锂机组的抽气装置和钯管、真夺泵等气体排出装置，以及缓蚀利对于机组真空度的重要作用。     

"准分子激光制备纳米金刚石膜"项目研究简介

该项目采用高功率准分子激光照射固体碳靶,产生高能等离子体,在室温条件下快速沉积高品质大面积均匀纳米金刚石膜。经过三年攻关,已顺利完成各项任务指标。1 自行设计、研制出“准分子激光制备纳米金刚石膜装置” 该装置主要由生长腔、多功能辅助装置及控制系统等组成。主要性能如下①生长腔容积60L,真空度可达到1.33×10~(-4)Pa。②腔内设有旋转+摆动多工位衬底台、旋转靶台、多种强场发生装置。③腔壁设监测窗口、红外、紫外光学窗口和电力、动力、辅     

金刚石薄膜阴极电子发射特性研究

宽带隙半导体材料金刚石的负电子亲合势特性使其在电子场发射应用方面备受瞩目。材料的功函数对其热电子发射或场电子发射都有决定性的影响，本从热电子发射的角度出发，对钨基金刚石薄膜阴极有效功函数进行了测量，章阐述了实验方法，装置及结果，测得金刚石涂层阴极的有效功函数为０．７０ｅＶ，并对实验结果进行了理论分析。     

多功能真空校准装置校准软件的概要设计

在多功能真空校准装置研制过程中,根据装置需具备的真空计校准、漏孔校准、在线校准、真空度测试、气体成分分析、漏率测试功能,进行校准软件的概要设计,介绍了软件运行环境及属性特点,分析了软件结构及相互关系,阐述了校准软件各子系统工作原理及工作流程图,同时对装置控制系统进行介绍。     

氦低温恒温器内绝热真空度破坏过程的研究

制作了一台带有氦低温恒温器的装置，并研究了低温恒温器内氦绝热真空度的破坏过程。在本工作中，改变了氦容器内绝热类型、安全阀的开启压力，进入绝热空间的氦喷射装置上的孔及其它参数。测定了氦低温恒湿器典型工作情况下的进入液氦的最大比热流。     

水介质中纳米金刚石表面改性研究

对纳米金刚石在水介质中的分散进行了探讨,利用机械力和化学力共同作用,对纳米金刚石表面进行改性,从而实现纳米金刚石在水介质中的分散和稳定,采用不同的机械化学处理工艺,可以使得体系在酸性和碱性介质条件下均保护良好的分散。对表面改性过程进行了机理分析。