非过滤空气环境下塑料基片溅射膜层的针孔缺陷分析

真空镀膜过程实际上是高真空状态下的膜层材料微观粒子连续随机沉积于基片,即镀膜工件表面的过程,基片表面的不洁净,如灰尘等会破坏镀层材料粒子在茯片表面的连续沉积,致使镀层出现不连续的缺陷区。作者利用光密度计,对非过滤空气环境下预处理的基片的磁控溅射膜层的针孔缺陷进行了定量测试和分析,测试的结果表明：在镀膜时间达到某一特定值后,针孔缺陷区的面积并不因为过分地延长度膜时间而临到相应的减小;和静止基片相比,     

紫外光截止镀膜玻璃的射频磁控溅射法制备及表征

制备了摩尔比为1：1的TiO2和CeO2陶瓷靶材。采用射频磁控溅射法在O2和Ar比例为5：95的混合气体中制备了玻璃基TiO2-CeO2薄膜。溅射过程中，工作气压保持在1．8Pa不变，玻璃基片温度从室温（RT）～220℃之间变化。用x射线衍射（XRD）、X射线光电子能谱（XPS）、扫描电镜（SEM）、透射电镜（TEM）和紫外-可见光谱仪研究了薄膜的物相结构、表面组成、表面形貌和镀膜试样的紫外-可见光透过率。结果表明，薄膜表面结构平滑、致密，呈微小晶粒结构，薄膜中Ti和Ce仅以Ti^4＋和Ce^4＋的形式存在；随着基片温度升高，薄膜中的细小晶粒略有长大；TiO2-CeO2镀膜玻璃可以有效地截止紫外线。     

激光触发真空电弧镀膜方法及其应用

介绍了一种新的表面处理方法－激光触发真空电弧镀膜技术。针对典型的镀膜装置，描述了其结构组成，分析了基本工作原理和过程，并就其应用进行了论述与展望。     

多种材料上金刚石膜的成核和生长研究

采用改进的热丝化学气相沉积装置，在四类六种不同性质衬底材料上研究了金刚石膜成核与生长特性。研究了基片材料特性，沉积条件及基片预处理对金刚石膜成核与生长特性的影响。实验结果表明，在六种不同性质的材料上都能生长多晶金刚石膜，与是否形成碳化物中间层无关。反应气压，衬底温度和ＣＨ４／Ｈ２比例对其形貌，质量，成核密度的影响趋势是一致的，但也有它们各自的特点，对提高金刚石摸的质量及膜与基片的结构强度提出了一些     

氯碱工业用镍硫合金镀膜的耐蚀性研究

研究了Ｎｉ－Ｓ合金镀膜在ＮａＯＨ，ＮａＣｌ，Ｈ２ＳＯ４，ＨＣｌ溶液中的耐性。分别以镀膜的腐蚀速率，孔隙率以及自腐蚀电位，阳极极化曲线来描述Ｎｉ－Ｓ合金镀膜耐化学和电化学腐蚀的能力，并结合镀膜结构给予解释。     

专利名称：一种镀膜多功能玻璃

本实用新型公开了一种镀膜玻璃。它是在钢化玻璃或普通平板玻璃其中的一个表面上，采用真空磁控溅射镀膜方式镀上两层或两层以上的金属层。以这种镀膜玻璃而构成的钢化镀膜中空玻璃、钢化（或普通平板）镀膜夹层中空玻璃、双层钢化（或普通平板）镀膜夹层安全玻璃、多层钢化（或普通平板）镀膜防弹玻璃都具有抗辐射和防紫外线、红外线的能力；既能隔热、保温，又能防爆、防盗，还能清除共振和吸收低频及高频噪音；而且它们色彩丰富可在许多领域中应用。     

可编程序控制器在镀膜玻璃生产线中的应用

一．前言我院设计研制的镀膜玻璃生产线，是采用集微机技术、自动控制技术、汛通技术为一体的可编程序控制器，进行全自动控制的连续式、双端、高真空、旋转磁控溅射镀膜工艺，年产十五万平米镀膜玻璃的生产线。若用人工操作，缺点甚多。第一是不易保证镀膜质量；第二是生产线的设备众多，分布广，造成启停设备的操作繁琐，难以相互协调，如启停设备不当，易损坏玻璃，影响设备正常运行；第三是缺少有效手段检测各种故障，而且由于生产规模较大，设备分散，若操作不当，易造成真空污染、设备损坏，即使操作人员发现了问题，也往往不能及时处…     

复合涂层附着力的研究

对复合涂层工件的离子镀膜因附丰力而引起泡和露白现象，从生产的角度进行了分析和研究，并提出了提高离子镀膜着质量的措施。     

多层PMI泡沫微波吸收材料的设计及性能检测

以金属靶材为原材料，PMI泡沫为基体，采用磁控溅射法制备PMI泡沫镀膜材料。开展多层PMI泡沫镀膜材料的电性能优化设计，并采用压力成型机辅助制备多层PMI泡沫微波吸收材料。结果表明:在PMI泡沫镀膜材料的制备过程中，反射率由大到小的靶材依次为Al、Ti、Ni、Co；采用Ti靶材进行磁控溅射镀膜制备的PMI泡沫镀膜材料，随着镀膜时间的增加，反射率先变小再变大；采用Ni、Co靶材进行磁控溅射镀膜制备的PMI泡沫镀膜材料随着镀膜时间的增加，反射率逐渐变大；将采用Co靶材制备的不同镀膜时间PMI泡沫镀膜材料进行优化组合搭配，得到6种优化匹配方案，最终优化出一种多层PMI泡沫镀膜材料微波吸收性能最佳；利用模压方法制备了多层PMI泡沫微波吸收材料，该多层PMI泡沫微波吸收材料的实际反射率曲线有一定程度的整体前移，但整体趋势与搭配反射率曲线趋势相同。     

钢板的真空溅射镀膜

近年来，钢板的真空镀膜技术在国内外发展很快，由于真空镀膜后的钢板提高了耐蚀性、耐磨性、耐热性、电学性能以及装饰性，从而大大提高了加工处理后的钢板价格，所以国外称钢板镀膜为“效益镀膜”。以高档装饰用仿金镀膜不锈钢板为例，进口镜面贴塑不锈钢的原料尺寸为１２２０ｍｍ×２４００ｍｍ，厚度为０．８ｍｍ，每块价格约为１３５０元，而经真空多弧离子镀成仿金色钢板后，其每块售价在３０００～４０００元。据了解，国外钢板真空镀膜工业化生产的方法主要有真空溅射法和前述真空多弧离子镀法，而后者在国内小型装置上已有生产，产…     

专利名称：镀膜装置中的遮板

一种镀膜装置中的遮板，是用以在一基板上形成两种以上特定厚度的镀膜层，其中遮板的形状是由多数条同心圆弧线所构成，同心圆弧线的弧度是依据镀膜层的特定厚度设成。具有遮板能够精密控制镀膜层每一点的膜厚的功效。     

MAIP镀TiN工艺对膜基结合的影响

本文介绍了用多弧离子镀膜（MAIP）技术在高速钢基片表面镀TiN工艺。通过离子轰击清洁和加热后,工件施加高的偏压并同时打开弧源,在膜基界面形成Ti、N、Fe、W、Mo的交混层。这层伪扩散层的存在,提高了膜基结合强度,为该膜的应用奠定了良好的基础。     

表面工程应用实例 [例8] 真空蒸发镀膜技术在高端汽车灯具上的应用

真空蒸发镀膜是在真空环境下将镀膜材料加热熔化后蒸发,使其大量原子、分子离开镀膜材料表面,凝结在被镀件基体表面形成膜层的过程。相对于其它物理气相沉积技术,该技术具有设备简单,价格便宜,工艺容易掌握,可进行大规模生产等优点。我国已在超大容积室体的高真空动态快速获得、镀膜过程组态控制和复合镀制高性能保护膜、复杂曲面结构的均匀镀膜、     

激光触发真空电弧镀膜方法及其应用

介绍了一种新的表面处理方法——激光触发真空电弧镀膜技术。针对典型的镀膜装置,描述了其结构组成,分析了基本工作原理和过程,并就其应用进行了论述与展望。     

32Cr2MoV复合镀膜处理的组织及磨损行为

对32Cr2MoV进行了复合镀膜处理，并与离子氮化后的试样进行了比较。结果表明，经复合镀膜处理后在表面层形成更多的氮化物，其分布范围更宽；表面硬度梯度更为合理；通过对比磨损试验，复合镀膜处理比离子氮化处理的耐磨性更好。     

钛,锆,铪及其化合物在光学镀膜技术中的应用

新材料新功能的开发是新技术发展的物质基础.新技术的迅速发展必然加速了新材料的开发.钛、锆、铪氧化物的应用使光学镀膜工艺得到迅速发展,使天文、海洋观测仪器和激光设备的性能得到完善,出现了耐磨耐腐蚀、适应严酷环境工作的光电仪器.新技术的发展更进一步促进镀膜材料向新的广度和深度发展.钛锆铪及其氧化物在镀膜材料中占有很重要的位置.     

镁合金表面功能纳米薄膜的制备

通过有机镀膜技术，对镁合金表面进行改性。对有机镀膜处理后的镁合金表面的接触角，表面自由能进行了测定。研究了不同有机镀液，在恒电流作用下，有机镀膜时间对镁合金表面性能的影响。结果表明，经过TTN溶液有机镀膜后，镁合金板表现出亲水性，其表面能比未处理镁合金板的表面自由能要高；而经过DHN和DAN溶液有机镀膜后，镁合金板表现出良好的疏水性，其表面能比未处理镁合金板的表面自由能要低，在二者中DHN处理后的疏水效果最好。实现了对镁合金表面疏水、亲水表面改性，能够很好的扩大镁合金在工业中的应用领域。     

镀膜工艺对复配十八烷胺膜层抗腐蚀性能的影响

研究了镀膜工艺对复配十八烷胺缓蚀剂膜层抗腐蚀性能影响,并分析了膜层的腐蚀机理。结果表明,镀膜液pH=6的膜层腐蚀发生在微观缺陷上,pH=8～12的膜层腐蚀发生在晶界上;随着镀膜液pH值升高,膜层结构完整,抗腐蚀性能增强;在镀膜液pH=8～12时,随镀膜温度升高,膜层的组织致密,抗腐蚀性能增强。镀膜液pH=10、镀膜温度250℃为复配十八烷胺缓蚀剂最佳镀膜工艺。     

铝膜的低价硫化铝歧化反应制备法

对用低价硫化铝的歧化反应进行钢基镀膜作了定性研究。用两种蒸发源(2Al2O3 6C Al2S3)和(4Al Al2S3)分别进行反应蒸发镀膜，系统真空度为5Pa左右，基材温度为1100℃。研究结果表明：以(2Al2O3 6C Al2S3)为蒸发源的钢基镀膜层为α-Fe及Al13Fe4相，对硝酸酒精溶液具有抗蚀性好的特点，但其平整性稍差，扩散层薄；以(4Al Al2S3)为蒸发源的镀膜层为Fe3Al及AlFe相，其镀膜层表面光滑，平整，扩散层厚等特点。     

LOW-E薄膜光学性能的计算机辅助模拟

自从七十年代末开始，在玻璃基底上沉积光学薄膜的真空镀膜进入了一个稳定的增长期，近几年低辐射（LOW－E）镀膜层的结构逐渐成为一个研究热点。本文就低辐射镀膜层的理论光学特性的计算机辅助模拟（CAS）进行了探讨。在可见光和红外区范围内进行的光学测量显示了理论计算与实验结果的不同之处。