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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 328 毫秒
1.
NEC为1GDRAM开发最小的存储单元日本NEC公司已为1GbDRAM开发了世界上最小的DRAM存储单元─0.375μm2。这种单元与在ISSCC95'上宣布的用在1GbDRAM样品的单元有所不同,这种0.375μm2的单元技术包括对角开位线结构,相...  相似文献   

2.
NEC开发出了0.07μm线宽的CMOS大规模集成电路NEC开发成功了16GDRAM千兆位的动态存储器工艺需要0.07μm的线宽,NEC制成了在1.SV电压和低持续电流条件下延迟时间为16.7PS的超高速动态存储器。该成果是在去;年6月召开的VISI...  相似文献   

3.
0.1μm栅长的CMOS电路门延迟为11.8Ps据《NIKKIELECTRONICS》1993年第12—20期报道,1993年12月6~8日在美国召开的国际电子器件会议(IEDM)上,美国AT&T贝尔实验室,IBM公司,日本富士通研究所和东芝研究开发...  相似文献   

4.
世界最小的1GDRAM存贮器单元日本NEC公司采用0.2μm电子束曝光技术研制成功世界最小的1GDRAM存贮器单元。单元面积为0.375μm2。该公司采用了如下技术:①高密度存贮器单元结构,即DBL(对角位线)单元结构;②适用低电压工作的边缘工作晶体...  相似文献   

5.
王红飚 《移动通信》2002,26(1):63-65
雷卡1X-AIME(Air Interface Monitor/Emula-tor)系统是专门为手机的cdmaOne及 cdma2000 1X信令测试而设计的,广泛应用于新产品开发、兼容测试、评估和服务支持,是手机生产研发时必不可少的测试工具。 目前,1X-AIME系统可支持cdmaOne+cdma2000的标淮,包括:IS95A、IS95B、J-STD-008、ARIB-T53、KOREAN 800MHZ、KOREAN PCS、IS-2000 1X等,并且兼容CDG22、CDG53及CDG57的第二阶…  相似文献   

6.
256Mb、1Gb DRAM发展动态随着Gb级DRAM的问世,使存储器的发展又步入了一个新台阶。韩国三星采用0.25μmCMOSI艺制作的256MbDRAM,其驱动电压为2.2~2.4V,存取时间为40us。韩国现代电子已投资了15亿美元在京矾道本部...  相似文献   

7.
NEC推出新型256MDRAM日本NEC公司在日本电子机械工业会主办的“电子’93”展览会上展出新型256MDRAM。产品最小加工尺寸0.25μm,芯片面积13.6×24.58mm,集成度5.5亿个元器件,存贮单元面积0.72μm2,存贮单元容量30...  相似文献   

8.
介绍了国产操作系统COSIXV1.2和COSIXV.20国产系统软件平台COSAV1.0。COSAV1.0由国产操作系统COSIXV1.2,国产网络系统CONETV1.0,国产数据库管理系统COBASEV1.0以及国产编程软件C、C++、FGortran90等构成。COSIXV1.2遵循国际法标准POSIX.1、工业标准XPG3,与主流UNIX系统SVR4二进制兼容。COSIXV2.0是基于微内核  相似文献   

9.
存取时间为50ns的64MDRAM日本东芝、日立、三菱电机公司分别推出快速64MDRAM。东芝采用0.4μm工艺,存取时间50~70ns。日立采用0.3μm工艺,存取时间50ns,电源电压1.5V.三菱电机采用0.3μm工艺,存取时间50ns,电源电...  相似文献   

10.
精品展台     
微芯片工业和汽车用微控制器 Atmel公司推出CANary系列CAN基微控制器的新成员T89C51CC02。它具有系统内编程(ISP)能力,通过CAN总线或UART,设计人员可开发其应用。它支持带2.0A和2.0B结点的CAN网络。用内部时钟倍频器,该器件可达到1Mbit/s的最高CAN总线数据率。它包含16K字节片上程序闪存和CAN控制器、双数据指针、2K字节用户数据EEPROM、8通道10位A/D转换器、512字节RAM。它完全符合高速的ISO规范11989(2.0A和2.0B)和低速的11…  相似文献   

11.
尽管去年半导体界不景气,业界研发技术却未曾停歇,一些主要的科技甚至提前一年实现。美国半导体协会(SIA)在1997年所制订的半导体技术发展蓝图中,63个表格就有近一半表格需要修改。负责订立SIA蓝图的主席Gargini表示,1998年更新版的SIA技术蓝图将向前修正一年。例如,0.13μm工艺的DRAM量产,已由公元2003年提前至2002年,而0.10工艺也由原先的2003年,提前了一年,其他0.07μmDRAM技术以及0.50的微处理器(MCU),也提前一年到2008年。同时,SIA的制订技…  相似文献   

12.
东芝、IBM、西门子联合开发256MbDRAM据日本《SemiconductorWorld》1995年第8期报道,东芝、IBM、西门子联合开发256MbDRAM。通过采用0.25μmCMOS及单元阵列面积小型化技术,其芯片面积仅为285.5mm2。该...  相似文献   

13.
分析了AlxGa1-xAs/GaAsHBT外基区表面复合电流及外基区表面复合速度对直流增益的影响,用光致发光(PL)谱和Al/SiNx-S/GaAsMIS结构C-V特性,研究了GaAs表面(NH4)2S/SiNx钝化工艺的效果及其稳定性。结果表明,ECR-CVD淀积SiNx覆盖并在N2气氛中退火有助于改善GaAs表面硫钝化效果的稳定性。在此基础上形成了一套包括(NH4)2S处理、SiNxECR-CVD淀积及退火并与现有HBT工艺兼容的外基区表面钝化工艺,使发射区面积为4×10μm2的器件增益比钝化前提高了4倍,且60天内不退化。  相似文献   

14.
通过电脑编辑电视录像的需求正在迅猛增长。此次WPC PC EXPO上MPEG2规格的画面捕捉产品颇受欢迎。Ask展示了采用MPEG2规格录像的实时编码卡 “NAVIS系列”。其中最为引人瞩目的是具有8Mbps传送速率的最新款画面捕捉卡“NAVIS2”和配置USB接口的画面捕捉组件“NAVISUSB”等。支持Windows98/ 2000。Pixela展示了USB连接的MPEG1/2画面捕捉盒“PIXMPCCP/U1”,具有1~6Mbps的数据传送率,附带MPEG编辑软件“PixcDV3.0…  相似文献   

15.
本文着重研究了0.6μm自对准Ti-SALICIDELDDMOS工艺技术.TiSi2的形成采用两步快速热退火及选择腐蚀完成,Ti膜厚度的最佳选择使SALICIDE工艺与0.2μm浅结相容,源/漏薄层电阻为4Ω/□.上述技术已成功地应用于0.6μm自对准Ti-SALICIDELDDNMOS器件及其E/DMOS31级环形振荡器的研制,特性良好.  相似文献   

16.
OPTICALFIBER-MOBILECOMMUNICATION¥FENGXi-Yu;SUNTie-Cheng(DalianUniversityofTechnologyDalian116023)Abstract:Thetechniqueofmobil...  相似文献   

17.
宁波GSM系统LAC状况 目前宁波GSM系统共有LAC区22个,每个BSC分配一个LAC(除市区BSC23,BSC24外),这样,某些BSC的Location-Update占OK-ACC-PROC的比例(后称LU-RATE)相当高,如余姚BSC8,其LU-RATE高达79.42%,其SDCCH负荷相当重,且已导致SDCCH拥塞,具体每个BSC的LU次数,LU-RATEPAGE-REQUESTS/PAGE-RESPONSE,PAGES-PER-SECOND,SD-CONGESTION-RATE,…  相似文献   

18.
一、EMX2500与PSTN连接EMX2500与PSTN的连接见图1。二、EMX2500对B4信号处理MS拨打825#、823#忙用户(以拨8236030为例),信令配合如下:FWDSIG8236A3A38236A3A38238R2图1EMX2500...  相似文献   

19.
通用电路辅助分析软件包DESIGN CENTER的几种应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文主要讲述了通用电路辅助分析软件包DESIGN CENTER的特点及其在数字式双积分A/D转换器,三相全控桥式整流电路和饱和变压器的模拟分析中的应用,以此来说明如何方便快捷,灵活地应用DESIGN CENTER进行电路辅助分析。  相似文献   

20.
新品快递     
三星电子开发出整套ADSL核心芯片制造技术三星电子成功研发了用于ADSL网络设备核心芯片组的技术———离散多音频 (DMT,DiscreteMulti-ToneModulation)处理器集成电路、控制器集成电路以及用于制造传输速度可达8Mbit/s的数字调制解调器模拟前端 (AFE ,AnalogFrontEnd)集成电路。目前 ,市场上大部分ADSL芯片组都是由0.25μm技术制造而成 ,工作电压为2.5V ,而三星开发出的ADSL芯片组是由0.18μmCMOS技术制造而成 ,可以在1.8V的电压下工作 ,节省…  相似文献   

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