曲轴抛光工艺的探究

针对不同材质的曲轴,使用两种抛光装置抛光,通过使用不同介质、不同切削速度,得出抛光数据,优化曲轴抛光工艺。     

CVD金刚石涂层拉伸模具内孔的抛光装置研制

在CVD金刚石膜抛光机理研究的基础上,采用模块化的设计思想,对抛光装置的模具装夹及传动模块、抛光头及传动模块、高频感应加热模块、抛光装置床身模块进行了设计,完成了CVD金刚石涂层拉伸模具内孔的抛光装置的研制。用此装置抛光在保证较高的抛光效率的同时可以获得较好的表面质量。     

回转体内表面抛光装置

针对回转体内表面空间狭小、可达性差等缺点,设计了一种离心展开式回转体内表面抛光装置;分析了该装置的工作原理,建立了抛光力数学模型,提出了抛光力控制方法;抛光试验结果证明该装置能实现良好的抛光质量。     

往复式磁流变抛光装置的设计与仿真研究

磁流变抛光是一种新型抛光方式,近年来我国研究人员已经相继研究出了几种抛光装置。介绍了磁流变抛光的原理之后,介绍了一种新的磁流变抛光装置;并对该装置中结构进行了分析,详细地阐述了抛光装置所处的机床结构和内部的零部件名称。为了确定在抛光过程中磁场对抛光的影响情况,用ANSYS有限元软件对磁场发生装置中的磁场和温度场进行了仿真研究;将分析结果与实际的磁场和温度场的测量结果进行对比,可以观察到两者的结果十分接近;从而证明ANSYS软件分析的结果真实有效,这也为以后的磁场优化打下了良好的基础。     

一种曲面抛光装置的研制与试验研究

随着全球技术革新的不断发展,精密零件的工艺性能日益提升,同时对于超精加工的要求也越来越高,尤其是复杂的曲面类零件很难加工。本文针对曲面类零件具有多曲率的特性,研制出能够抛光曲面的新型抛光装置,可以实现曲面类零件高效和高质量的抛光。通过试验研究发现,不同抛光速度和磨料浓度对表面粗糙度、材料去除率及表面质量影响很大,使用新型的装置抛光曲面类零件,工件表面粗糙度可以达到Ra 10nm左右,达到了镜面的效果。     

表面光整加工技术及其应用（下）

3．水合抛光 水合抛光是利用在工件界面上产生的水合反应的新型高效、超精密抛光方法。主要特点是不使用磨粒和加工液,而加工装置又与当前使用的抛光机类似,只是在水蒸气环境中进行加工。为此,要尽量避免使用能与工件产生固相反应的材料作抛光盘。     

硅片边缘超声振动抛光实验装置的研究

研制一种新型硅片边缘超声振动抛光装置,利用抛光振子超声振动所产生的能量对硅片边缘倒角斜面进行抛光加工,以达到提高硅片边缘表面质量的目的。抛光振子的工作面与硅片一侧的整个倒角斜面完全接触,并且能够实现不同工艺条件下的抛光实验。实验装置由抛光振子、振子的固定装夹装置、硅片的定位安装装置以及抛光压力和抛光液供给系统组成。抛光振子由超声电机的振子改造而成,根据硅片尺寸及硅片边缘倒角斜面的角度确定抛光振子工作面的角度,利用ANSYS软件对振子进行有限元分析,并对加工后振子进行了实际测试。该实验装置能够实现硅片与抛光振子之间无宏观相对转动的实验,又能对抛光时间、抛光转速、抛光压力,抛光液流量等工艺参数进行控制,进而研究不同参数对抛光实验的影响。     

精密磁流变抛光装置的设计与应用

在介绍了磁流变抛光的基本原理基础上,对磁流变抛光的两种不同结构的装置进行了优缺点比较,从影响抛光效率和最终表面精度考虑,确定了最终的装置设计方案,给出了抛光装置的关键部件的设计,并用磁流变抛光加工了直径83mm的BK9光学平面玻璃工件,获得了Ra0.702nm的表面精度.     

某型曲轴抛光装置配重的计算方法研究

曲轴轴颈的表面尺寸质量是曲轴的关键特性指标之一，通常由最后的抛光工序保证。文中设计了抛光装置，以减小抛光过程中人为技能因素的影响。通过三维模型计算和实物验证相结合的方式，快速选择合适的配重质量，使抛光装置工作稳定、抛光质量最佳。     

基于气动技术补偿双重磨损的抛光涂蜡装置研究

针对目前抛光过程涂蜡技术的缺陷,结合气动技术,提出了一种双重补偿作用的自动抛光涂蜡装置设计方法。经过实验验证,气动抛光涂蜡装置能够自动补偿抛光轮和蜡条磨损,涂蜡均匀,提高抛光产品质量和效率。