抗深紫外光损伤镀膜新工艺的研究

准分子激光因其独特的光学特性很适合各种精密材料加工和生物医学.至今,用于导光的光学元件特别是光学件镀膜层受损是制约准分子激光在该领域稳定可靠工作的根本原因.光学镀膜工艺师已经找到了一种行之有效的方法来解决这个问题.采用该方法,光学膜的寿命可提高一个数量级以上.新的研究计划表明抗损伤镀膜工艺研究将会有进一步的提高.     

抗深紫外光损伤镀膜新工艺的研究

准分子激光因其独特的光学特性很适合各种精密材料加工和生物医学。至今，用于导光的光学元件特别是光学件镀膜层受损是制约准分子激光在该领域稳定可靠工作的根本原因。光学镀膜工艺师已经找到了一种行之有效的方法来解决这个问题。采用该方法，光学膜的寿命可提高一个数量级以上。新的研究计划表明抗损伤镀膜工艺研究将会有进一步的提高。准分子激光增长最快的应用领域是光折变角膜术（PRJK）＃显微光刻术。在PRK应用中，烧蚀眼科医生用准分子激光去校正视力，必须准确地控制激光光束的均匀性和激光脉冲能量的稳定性，方能保证手术万无…     

准分子激光电化学复合工艺中热-力效应研究

为了探寻准分子激光电化学刻蚀硅工艺中的热-力效应特性,采用功率密度大的248nm准分子激光聚焦照射浸在KOH溶液中的n-Si表面,实现了一种激光电化学复合刻蚀工艺.通过数值仿真与实验比较的方法,对该工艺的刻蚀速率进行了分析.研究结果表明,该复合工艺存在激光直接刻蚀、电化学刻蚀和激光与电化学耦合刻蚀等三种刻蚀作用;在耦合作用中,溶液中激光加工的热效应较小,光热效应导致的刻蚀小;而溶液中激光加工的力学效应对材料的刻蚀作用很大.通过对准分子激光与溶液中靶材相互作用过程的热-力效应分析,更深入地探讨了准分子激光电化学工艺的刻蚀机理.     

高亮度紫外准分子激光器

短波长稀有气体卤化物准分子激光系统的峰值功率迄今远低于固体激光系统，但由于准分子激光短波长和气体介质光学畸变较少，被认为是产生高强度（Ｉ≥１０＾２０Ｗ／ｃｍ＾２）激光的最佳侯选者。当短波长聚焦光学系统经过改进，且提高准分子激光的提取效率后，以上目标更容易达到，本文介绍一些新技术，包括空间包络调制脉冲放大、非轴向放大和相干多角路放大，且报道一些获得桌面高亮度准分子系统的考虑。     

ArF准分子激光光刻的研究现状

193nmArF准分子激光光刻是21世纪提高超大规模集成电路(VLSI)集成度的一项关键技术,已成为高技术领域的研究热点。作者从193nm激光光刻的光学系统设计、光学材料、光源、光致抗蚀剂及器件应用等方面综述了深紫外激光光学光刻技术的近期发展及应用。     

基于准分子激光加工技术的内嵌光纤型微流控器件的制备

为了方便、快速、低成本地检测样品,提出一种内嵌光纤型微流控芯片的制备方法.利用248 nm的KrF准分子激光在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基片上进行微加工,构建芯片结构,并嵌入腐蚀过的直径35μm的单模光纤,从而形成内嵌光纤型芯片.探讨了准分子激光加工参数以及嵌入光纤的方法.结果表明,用准分子激光加工芯片,可控性好、简便可靠、加工过程可实现无人化.内嵌光纤实现了光纤的相互对准以及光纤对流道中央的对准,可以灵敏地获取样品的光学信号.     

溶胶-凝胶膜光学表面激光清洗工艺研究

为了解决光学元件表面的颗粒污染问题，在单发次激光干式清洗的基础上，提出了气流置换系统辅助的激光清洗方法，使用波长为355nm的Nd:YAG激光器，针对镀溶胶-凝胶SiO₂薄膜熔石英光学表面粒径为1μm~50μm的典型SiO₂颗粒污染物，进行了理论分析和清洗实验，取得了可用于激光清洗的工艺参量。结果表明，对于镀溶胶-凝胶膜熔石英样品的单发激光干式清洗，最佳激光能量密度为2.29J/cm2，与未镀膜石英的激光清洗工艺参量存在一定差异；在最佳工艺参量下，单发次激光清洗对于粒径1μm以上的SiO₂颗粒清洗效果明显，移除率可达82.96%；当污染密度过高时会导致清洗效果的减弱及对基底的损伤，而气流置换系统辅助的激光清洗方法可进一步增强对光学表面颗粒污染的去除效果。该研究对大型高功率固体激光装置中的光学元件在线清洗及清洗装备的设计具有重要的研究意义与实用价值。     

基于透镜阵列的眼科准分子激光光束整形与匀光系统

为提高屈光手术中准分子激光的能量利用率和光斑均匀性,设计了一套由双排透镜阵列和会聚透镜组成的准分子激光光束整形与匀光系统。借助近轴光学计算发现,通过调节双排透镜阵列的间距可以改变聚焦光斑的尺寸,通过调节透镜阵列与会聚透镜之间的距离可以改变光学系统的整体长度而不影响聚焦光斑的形态。利用光线追迹方法对该系统进行了模拟分析,在会聚透镜像方焦平面上获得了呈均匀分布的方形聚焦光斑,并给出了聚焦光斑尺寸随双排阵列透镜间距的变化过程。分析了接收面离焦对光斑尺寸和能量分布产生的影响,指出所设计的光束整形与匀光系统可以满足准分子激光屈光手术对激光光斑质量的要求。     

连续分振幅式高功率准分子激光角多路编码光路设计

在高功率准分子激光系统中,一般采用光学角多路技术来获得高能量窄脉冲输出。文中介绍了角多路技术原理,提出了一种采用矩形阵列和空间层叠光路结构的连续分振幅两次编码方式,并针对该实验室的XeCl高功率准分子激光系统进行了具体的编码光路设计,给出了设计实例。该方法具有编码结构紧凑,编码精度高,与光路准直、激光参数测量系统等兼容性好,便于加工制作和安装调节等优点,目前已在系统中应用,效果良好。     

小型化准分子激光器气体性能的优化

对于新研制的准分子激光系统而言,激光气体的性能具有非常重要的作用,激光系统的混合气体配比与单脉冲能量、放电稳定性和寿命等性能参量有密切关系。为了获得最佳气体配比,在自行研制的小型化Xecl准分子激光器的基础上进行了激光气体性能优化实验,分析了Xe,HCl气体比例对激光性能的影响,通过理论分析和实验结果给出了Ne和He两种不同缓冲气体下的激光性能差异,并给出了该激光系统的优化气体成分和有效提高激光效率方法。实验结果为研制商业化小型准分子激光器件提供了支持和依据。     

脉冲激光沉积β-FeSi2/Si(111)薄膜的工艺条件

用FeSi2合金靶作为靶材,采用准分子激光沉积法在Si(111)单晶基片上制备了单相的-βFeSi2薄膜,并将飞秒脉冲激光沉积法(PLD)引入到-βFeSi2薄膜的制备工艺中;用X射线衍射仪(XRD),场扫描电镜(FSEM),能谱仪(EDS),紫外可见光光谱仪研究了薄膜的结构、组分、表面形貌和光学性能。基片温度为500℃,采用KrF准分子脉冲激光沉积法可获得单相的-βFeSi2薄膜。衬底温度为550℃时,-βFeSi2出现迷津状薄层。采用飞秒脉冲激光法-βFeSi2薄膜的合成温度比准分子脉冲激光沉积法制备温度低50~100℃;薄膜的晶粒分布均匀连续,没有微米级的微滴;飞秒脉冲激光沉积效率比准分子激光的高1000倍以上,是一种快速高效的-βFeSi2薄膜沉积技术。     

抗光学损伤的深紫外膜层

准分子激光的输出特性使它能很好地适用于多种精密材料处理和生物医学应用。然而，至今对光束传输元件尤其是膜层的光学损伤始终限制着这些系统的稳定性。光学元件制造商曾致力于这一问题，将典型的膜层寿命延长了一个数量级以上。新的研究方法将抗损伤能力得到进一步的提高。图1光折变角膜切割系统使医生能用准分子激光烧蚀角膜，以修正近视眼准分子激光发展最快的应用领域是光折变角膜切割（PRK）和微细光刻。在光折变角膜切割中，一种为校正近视而进行部分切割的眼外科手术，为了确保手术成功，光束均匀性和脉冲能量必须得到严格控制。…     

超高性能激光反射镜

超高性能激光反射镜１．前言在近年激光技术的进展中，不乏使人耳目一新的成就，自由电子激光器高效率波长转换，高功率紫外激光器等新激光光源相继涌现。随着上述技术的进展，对构成谐振腔和周边光学系统的光学镀膜元件的性能提出前所未有的高要求。其中之一便是镀膜的低...     

离子准分子研究的进展

到目前为止,已观察到许多碱金属卤化物离子准分子(AX)+、稀有气体碱金属离子准分子(RgA)+、稀有气体卤化物离子准分子(RgX)+、同核和异核稀有气体离子准分子的荧光谱以及Cs2+F-离子准分子的光学增益现象和Ar的离子准分子激光振荡现象.从光谱学和动力学的角度描述这些离子准分子研究的进展,并指出快速、高强度、大体积和均匀泵浦是实现离子准分子布居反转的关键所在.     

激光CVD

光CVD作为薄膜气象合成方法之一和热CVD、等离子CVD同样在薄膜生长技术中占有重要位置,近年来,由于准分子激光技术的发展,准分子激光CVD技术适应半导体工艺低温化和加工精细化的要求也迅速地发展起来。本文主要以准分子激光为重点介绍激光CVD的基本原理、目前发展概况及今后的研究课题与展望。     

准分子激光直接刻蚀聚酰亚胺技术研究

一、引言随着大规模集成电路和集成光学的不断发展,对加工技术的要求越来越高,如目前提出图形的精细化,过程低温化,掺杂薄层化及可控性优化等,而准分子激光器则以它能量高、波长短(200～400nm)等优点为解决这些问题提供了有利条件。于是,八十年代开始形成了准分子微细加工新兴技术领域。准分子激光微细加工大体可分为激光曝光技术,激光CVD     

带磁开关的冲击-自持脉冲放电技术及其应用

本文通过对带磁开关的冲击-自持脉冲放电电路放电过程的分析,指出了该电路在激发准分子激光时的优点,在考虑准分子激光形成过程特点的基础上,进一步指出了利用该电路有利于制成高效率、高功率、长脉冲准分子激光器件.     

Φ3英寸GaAs 0.5μm准分子激光光刻技术

详细叙述了准分子激光的工作原理和工艺特性，介绍了准分子激光光刻实验及Φ３英寸基片均匀性补偿试验的研制结果。     

Φ3英寸GaAs0.5μm准分子激光光刻技术

详细叙述了准分子激光的工作原理和工艺特性，介绍了准分子激光光刻实验及Φ３英寸基片均匀性补偿试验的研制结果。     

提高准分子激光打孔质量的方法研究

为了提高准分子激光打孔质量,分析了影响现行加工系统打孔质量的因素,在此基础上提出利用钻孔法改进打孔效果的解决方案。根据此方案设计了加工光路,进行了微孔加工实验。实验结果表明,采用248nm准分子激光加工有机材料聚甲基丙烯酸甲酯,微孔形状规则,孔径锥度可减小至0.055。该加工系统和方法提高了微孔加工的速度和质量,在微加工领域具有很好的实际应用价值。