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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 31 毫秒
1.
本文简要介绍了GaInP/GaAs HBT的发展现状,用湿法工艺制作了自对准GaInP/GaAs HBT,其电流截止频率高达50GHZ,性能优于我们在同等工艺条件下制作的AlGaAs/GaAsHBP。  相似文献   

2.
研究了电压控制振荡器(VCO)的相位噪声与构成该振荡器的有源器件的低频噪声的关系,测试了SiBJT、AlGaAs/GaAs HBT和GaInP/GaAs HBT的低频噪声,并分析了各自低频噪声产生的原因,提出了选择GaInP/GaAs HBT VCO来实现微波固体振荡器低相位噪声化这一发展方向。  相似文献   

3.
吴杰  夏冠群  束伟民 《电子学报》1999,27(11):31-33,36
本文研制了Al0.3Ga0.22In0.48P/GaAs高温HBT器件,详细地研究了器件在300K~623K范围内HBT的直流电学特性。结果表明Al0.3Ga0.22In0.48P/GaAsHBT器件具有良好的高温特性,在300K~623K温度内,动态电流增益变化小于10%,Al0.3Ga0.22In0.48P/GaAsHBT可工作至623K,工作温度超过623K后,器件就不能正常工作,经分析发现  相似文献   

4.
X波段功率AlGaAs/InGaAsp-n-p异质结双极晶体管(HBT)=X-bandpowerAlGaAs/In-GaAsp-n-pHBT’s[刊,英]/Hill.D.G.…//IEEEElectronDeviceLetters.1993.14(4...  相似文献   

5.
新结构高性能In_(0.3)Ga_(0.7)As/In_(0.29)Al_(0.71)As/GaAsHEMT研究证明,InGaAsHEMT的结构优于GaAsMESFET和习用的AlGaAs/GaAsHEMT。在GaAs上制备的赝配结构HEMT(PM-HE...  相似文献   

6.
本文提出了一种台面型全自对准结构AlGaAs/GaAsHBT的制造方案,对其中的欧姆接触金属系统的制备,AlGaAs/GaAs材料的选择性腐蚀及聚酰亚胺的反应离子刻蚀终点监控等关键工艺技术进行了研究,并给出了应用该工艺研制的HBT器件的初步结果。  相似文献   

7.
势垒厚度在2.5~50nm AlAs/GaAs隧道发射极HBT的奇特电流增益近几年来,人们对用隧道势垒作为有效质量滤波器的兴趣越来越大。曾有人提出一种新型TEBT结构AlGaAs/GaAs双极晶体管。在这种结构中,由于其电子和空穴穿过势垒的几率有很大...  相似文献   

8.
AlGaAs/GaAs毫米波HBT的研制吴英,钱峰,陈新宇,邵凯,郑瑞英,肖秀红,葛亚芬,金龙(南京电子器件研究所,210016)TheDevelopmentofAlGaAs/GaAsMillimeterWaveHBT¥WuYing;QianFeng...  相似文献   

9.
X波段输出功率2W GaInP/GaAsHBT据((Microwav&RF))1994年第4期报道,AIGaAs是GaAs为基底的HBT发射区选用的材料。而GalnP发射区具有以下特性:最高振荡频率超过100GHz,大于100的高电流增益。据报道,已...  相似文献   

10.
最高振荡频率为46 GHz的GaInP/GaAs异质结双极晶体管   总被引:2,自引:2,他引:0  
最高振荡频率为46 GHz的GaInP/GaAs异质结双极晶体管钱峰,陈新宇,肖秀红,姚晓峨,周天舒,潘菁,陈效建(南京电子器件研究所,210016)齐鸣,李爱珍(中科院上海冶金所,200050)Af_(max)=46GHzGaInP/GaAsHBT...  相似文献   

11.
介绍了一套用于AlGaAs/GaAsHBT集成电路的CAD软件,它可完成HBT的器件模拟、模型参数提取及电路模拟。应用该软件对HBT运算放大器进行了模拟,为电路的研制提供了依据。  相似文献   

12.
介绍了一套用于AlGaAs/GaAs HBT集成电路的CAD软件,它可完成HBT的器件模拟、模型参数提取及电路模拟。应用该软件对HBT运算放大器进行了模拟,为电路的研制提供了依据。  相似文献   

13.
高温稳定电路用的AlGaAs/GaAs/AlGaAsDHBT在深级钻探、工业加工控制和航天航空等领域所使用的电子设备都要设计得能在350℃,甚至更高的温度下工作。GaAs/AIGaAs系统正好能够适合这一温度范围的要求,因为其带隙大于1.4eV。据《...  相似文献   

14.
从异质结构流体动力学模型方程(HHTM)出发,经适当近似,得到了Npn型HBT准中性均匀基区饱和电流密度的解,定义了一个判别基区是否存在准弹道输运的判别因子─-弹道比rB,指出为了实现基区准弹道输运,应使rB《1.对(Al,Ga)As/GaAsNpn型HBT而言,这一条件意味着基区宽度Wa《100nm。因此为了实现准弹道基区输运,应将(Al,Ga)As/GaAsNpn型HBT的基区宽度从目前的50~100nm降低到30nm以下。  相似文献   

15.
重掺碳基区GaInP/GaAs异质结双极晶体管初探严北平,潘静,蔡克理,章其麟,罗晋生(西安交通大学电子工程系,710049)(河北半导体研究所,石家庄,050051)AStudyofGaInP/GaAs-HBTwithaHeavilyC-doped...  相似文献   

16.
fmax为66GHz的HBT最近D.B.Slater等人报道了一种高fmax的PNPAlGaAs/GaAsHBT。这种HBT结构是用低压有机金属汽相外延技术生长的。其发射极帽层、梯度层、发射极层和下收集极层采用碳掺杂,而基区采用碲掺杂。他们通过采用薄...  相似文献   

17.
用分子束外延技术生长了InGaAs/GaAs异质结材料,并用HALL效应法和电化学C-V分布研究其特性。讨论了InGaAs/GaAs宜质结杨效应晶体管(HFET)的优越性。和GaAs MESFETS或HEMT相比,由于HFET没有Al组份,具有低温特性好,低噪声和高增益等特点。本文研究了具有InGaAs/GaAs双沟道和独特掺杂分布的低噪声高增益HFET。  相似文献   

18.
富士通研究所开发3.5VGaAsHBT日本富士通研究所已研制成作为新一代便携电话的3.5VGaAs异质结双极晶体管(HBT)和新结构HBT。GaAsHBT具有与用于便携电话的发射部分的GaAsFET相比,芯片面积减少1/2,大功率增益和单一电源工作等...  相似文献   

19.
目前GaAs基低噪声HEMT,包括用于DBS的InGaAs/N-AlGaAsPHEMT已经商品化,且GaAs基功率HBT也将很快进入市场。尽管InP基HEMT或HBT仍处于研究与发展阶段,但由于它们特殊的电性能,它们将有希望成为下一代异质结构器件。在继续改进器件结构和工艺过程中,晶格生长工艺的改进激发了一种新的趋势,提出并实现了一种用InP做有源层的新型器件结构。这篇文章主要描述了这样一种InP基HEMT和HBT器件结构的最新进展。  相似文献   

20.
本文综述了InGaAsHBT技术在高速电子电路中的应用,讨论了对集成电路有重要意义的Al_0.48In_0.52As/In_0.53Ga_0.47As和InP/In_0.53Ga_0.47As两类异质结系统的性质。最后,给出了光通信中应用高速和低电源电压集成电路的实例。  相似文献   

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