氰化物镀铜的影响因素及其常见杂质的去除方法

阐述了影响氰化镀铜工艺和镀层质量的各种因素,介绍了都得益的氰化物镀铜光亮剂、促进剂以及阳极极化剂、锌杂质容忍剂和专用油污处理剂的用法,给出了去除铅、锌、碳酸盐、六价铬等常见杂质和槽液大处理的方法。     

硫酸盐三价铬镀铬工艺中杂质的影响及去除

研究了硫酸盐三价铬镀铬工艺中铜、锌、铁、镍离子(含量均为50mg/kg)对镀层外观和厚度、镀液极化的影响,比较了不同除杂方法的除杂效果。结果发现,金属离子杂质对镀液的污染使镀层外观发生变化,使镀层厚度减少、镀液极化增大;金属离子的去除可以采用加入除杂剂和电解相结合的方法。指出六价铬、镀镍光亮剂等杂质对三价铬镀铬工艺影响较大,加入双氧水可以去除六价铬;往循环过滤泵中加入活性炭,可以去除镀镍光亮剂。     

影响镀亮镍低J_K区光亮性的因素

本文从光亮剂、镀液成分、工艺条件、杂质,镀液分散力几方面分析对亮镍低JK区光亮性的影响。说明仅仅依靠光亮剂是不够的,应该做全方位的努力。     

南方88镀镍除杂水的应用

镀镍槽液中由于阳极和化工材料不纯或工件跌落等原因使各种金属杂质离子必然进入镀液,加上由光亮剂分解的有机残存物等杂质离子逐渐积累,就会给镀液性能带来危害,影响镀层的外观,恶化镀层的质量,出现发黑、发雾、针孔毛刺、脆性增加、结合力下降等弊病.镀镍液中允许的金属杂质含量为:Cu~(2+)10毫克/升,Fe~(3+)30毫克/升,Zn~(2+)20毫克/升,Cr~(6+)10毫克/升,若超出此范围必须进行处理.对这些有害杂质金属离子的处理方法通常是化学沉淀—过滤法和电解法两大类.长期的     

电镀槽液中有害产物的排除

该方法系采用H2O2和紫外光对电镀溶液进行氧化处理.电镀溶液中含有有机光亮剂以及在操作过程中产生的有害分解产物.通过氧化处理过程可以将有害分解产物从镀液中除去,同时也将有机光亮剂氧化,因此,氧化处理之后,还应将有机光亮剂补充到原始浓度.     

氯化铵镀锌的研究

介绍了一种新的氯化铵镀锌工艺及光亮剂,讨论了氯化铵镀锌光亮剂、镀液组分、pH值、电流密度、温度、杂质对镀层质量、极化曲线、分散能力和深镀能力的影响,并讨论了氯化铵镀锌的优缺点.     

第十八讲——解决电镀故障的步骤(二)

介绍了氯化物镀锌液中铁、铜、铅等金属杂质的产生原因以及对镀层的影响.其去除方法是:先以工业级高锰酸钾氧化,然后加入高纯细锌粉还原,最后沉淀过滤.处理后应采用双氧水将过量的高锰酸钾去除,调整pH,以及补加光亮剂.     

氯化物镀锌液中的金属杂质及其处理

介绍了氯化物镀锌液中铁、铜、铅等金属杂质的产生原因以及对镀层的影响.其去除方法是:先以工业级高锰酸钾氧化,然后加入高纯细锌粉还原,最后沉淀过滤.处理后应采用双氧水将过量的高锰酸钾去除,调整pH,以及补加光亮剂.     

钾盐镀锌液中有机杂质的去除

0引言 钾盐镀锌以其环保、节能、操作方便等优点获得广泛的应用[1].但镀锌液使用时间长后,镀液中就会积聚大量的有机分解物,电镀时在镀锌层表面会产生黑花,影响钝化后的工件表面质量.传统处理镀锌液中有机分解杂质的方法是加入双氧水[2].但随着新型光亮剂的应用,较长链的和不易分解的有机物越来越多.使用双氧水处理,就会出现有机物分解不彻底,镀液处理周期变短,处理费用提高[3].     

宽温光亮镀镍

介绍ＱＤ型宽温光亮镀镍工艺的镀液和镀层的主要性能。ＱＤ型宽温光亮剂可以单独作为光亮剂任用，也可以在镀镍液中作为促进剂使用，提高了镀液的稳定性、抗金属杂质的能力、镀层的致密度和镀层与基体的结合力。可在较宽温度范围内获得理想的光亮镀层。     

第一讲——毒害物、非毒害物、药物与灾害(一)

从2010年起,国家开始重点整治重金属污染,铅、镉、铬、汞与类金属砷是重中之重。国家有关部门与地方政府相继出台了更加严厉的污染事故惩罚措施,如明确各级政府的一把手是污染事故的第一责任人,将严追责任。四川省环保厅表示,对于直排、偷排企业,一旦查实,立即关门取缔。央视与地方台陆续曝光了一些电镀、印制板、采矿企业的严重重金属污染状况,各地新闻媒体与主管部门也分别加强了监督与执法力度。从2010年7月1日起,无论新旧电镀厂点都开始执行排放限值更严格的新排污标准GB21900–2008。众所周知,电镀作业会产生多种重金属与有害有机物,整治首当其冲。为什么要重点整治重金属污染?只有对其毒理学基本知识有所了解后才能主观自觉地、一丝不苟地执行。本刊开办金属毒理学知识讲座的目的正在于此。愿能对相关企业人员有所帮助,尽一份社会责任。     

BH-50氯化钠光亮镀锌的使用和维护

ＢＨ－５０氯化钠光亮镀锌工艺在生产中已应用７年多。实践证明：该工艺用于滚镀较挂镀锌更为优越。本文介绍了该电镀工艺参数的影响、镀液维护的要点、镀液中杂质的判断和处理,以及常见故障的处理等。     

返滴定法测定氯化钾无氰镀镉溶液中氯化镉

制定了氯化钾无氰镀镉溶液中氯化镉的返滴定分析方法,在强酸性和加热条件下用过硫酸铵氧化镀液中的配位剂,使镉离子从配合物中释放出来。用氟化钠掩蔽Al³⁺和Sn⁴⁺杂质,用三乙醇胺掩蔽Fe³⁺杂质。加入过量的EDTA标准溶液配位Cd²⁺,在pH≈9.3的条件下,以铬黑T作指示剂,用硫酸锌标准溶液返滴定EDTA,用差减法计算镀液中氯化镉的质量浓度。结果表明,测定结果的相对平均偏差为0.19%,回收率为98.03%。     

甲基氢聚硅氧烷概况及合成进展

介绍了甲基氢聚硅氧烷在有机硅下游产品合成领域的作用以及理论研究价值,叙述了有机氢氯硅烷与有机氯硅烷共水解缩合法、有机氢氯硅烷与其他硅氧烷催化平衡法、有机氢氯硅烷（或与三甲基氯硅烷的混合物）先醇解后水解催化平衡法和含Si—Cl键的硅油还原法合成制备甲基全含氢硅油（高含氢硅油）．混合有机氯硅烷共水解缩合法和混合硅氧烷平衡法合成制备部分含氢硅油（低含氢硅油）的研究进展。探讨了各方法的优缺点。认为可以采用正压或常压进行非溶剂法水解反应,以石油醚为溶剂进行溶剂法水解反应;在水解物调聚之前．应采用相分离装置或别的过滤装置进行脱水和杂质．     

航煤液相加氢产品腐蚀性因素分析及对策

航煤产品铜片腐蚀主要与某些活性硫化物和有机酸相关,这些活性硫化物主要包括元素硫、硫化氢、硫氢化铵、硫醇、硫的氧化物、磺酸和酸性磺酸酯等.另外,航煤产品中存在其他杂质,如碱性物质、氯化物等也能对铜片产生腐蚀.加氢精制后航煤原料中有机酸、硫醇和碱性物等基本脱除,但由于航煤原料中含有微量氮,加氢后能与硫、氯生成硫氢化铵和氯化...     

锌酸盐镀锌液中的金属杂质及其对策

分析了锌酸盐镀锌液对金属杂质的敏感性.介绍了几种消除阳离子杂质的方法,如配位掩蔽法和沉淀去除法.讨论了乙二胺四乙酸、酒石酸钾钠、三乙醇胺等掩蔽剂的利弊,以及硫化钠沉淀法的可行性.指出了使用高纯度阳极的必要性.     

The effect of impurities on the anodic process in an industrial pyrophosphate copper bath

The galvanic pyrophosphate copper bath is long-lasting, reliable, easy to run and produces a good quality deposit even in continuous operation. It is therefore widely used in industry both for the protection of ferrous materials and in the manufacture of brass-plated cords for radial tyres. However, this type of bath is particularly sensitive to impurities. This paper presents the results of a voltammetric study on the effects of chloride, sulphate, nitrate and phosphate anions and ammonia on the anodic process in an industrial pyrophosphate copper bath.     

湿法磷酸中有机物的脱除方法

湿法磷酸中含有多种杂质,有机杂质是其中的一种。介绍了采用活性炭和化学氧化相结合脱除湿法磷酸中有机杂质的方法,分别研究了试剂用量、反应温度、反应时间和搅拌速度对脱除湿法磷酸中有机杂质的影响。结果表明,采用活性炭吸附和化学氧化相结合的方法脱除湿法磷酸中的有机杂质,最显著的影响因素为活性炭用量和双氧水用量;在最佳工艺条件下,该法可以脱除湿法磷酸中80.2%的有机杂质,净化后磷酸中残余的有机杂质含量低于食品级磷酸对有机杂质所要求的含量。该方法是脱除湿法磷酸中有机杂质的有效方法。     

The effects of chloride ion and organic extradants on electrowon zinc deposits

The effects of chloride ion and the organic extractants: Kelex 100, Versatic 911, di-2-ethylhexyl phosphoric acid, tri-n-butyl phosphate, LIX65N and Alamine 336 on the structure of 1h zinc deposits electrowon from synthetic and industrial acid sulphate electrolytes are presented. Under simulated tankhouse conditions the effect of chloride ion concentration on the zinc deposit morphology and orientation becomes significant only at the 500 mgl^–1 level. The tolerance limit of the zinc deposits to organic extractants such as Kelex 100 is extremely low. In some cases the adverse effect of these organic impurities is offset by the presence of chloride ion in the electrolyte. Purification of electrolyte contaminated with organic extractants by activated charcoal results in a vastly improved zinc deposit structure. Organic extractants such as Kelex 100 and TBP which have an adverse effect on the zinc deposits, also have a pronounced effect on the zinc deposition polarization curve.     

增强型聚偏氟乙烯微孔膜的研制

通过相转化法制备无纺布支撑的增强型聚偏氟乙烯微孔膜,确定二甲基乙酰胺(DMAC)为溶剂,氯化锂为第二添加剂,以水作为凝胶浴.研究了添加剂组成和浓度、凝胶浴组成和浓度、凝胶浴温度、热处理条件等因素对聚偏氟乙烯膜性能的影响.