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相似文献
 共查询到16条相似文献,搜索用时 218 毫秒
1.
王豫 《热处理》2004,19(2):33-36
研究了在W18Cr4V高速钢基体上,用CO2连续激光诱导化学气相沉积TiN薄膜的工艺方法。激光功能600W,在H2、N2、TiCl4反应系统中沉积出TiN薄膜,薄膜的颜色呈金黄色,显微硬度为2500HV。  相似文献   

2.
Ti—Al—N薄膜的性能及应用   总被引:7,自引:0,他引:7  
利用多弧离子沉积技术在W18Cr4V高速钢表面沉积(Ti,Al)薄膜,实验结果表明(Ti,Al)N薄膜的硬度和抗氧化性能明显优于TiN薄膜,(Ti,Al)N膜层刀具的寿命大大高于TiN膜层刀具。  相似文献   

3.
利用自制的反应电火花沉积合成系统,以TA2为电极,以工业纯氮为保护气,在45#钢基体试件表面上原位反应合成了TiN金属基陶瓷复合涂层。利用X射线仪测定了涂层的物相组成,利用显微镜观察分析了涂层断面形貌及组织,利用硬度仪测试了涂层的显微硬度,利用磨损试验机对比了涂层与淬火W18Cr4V高速钢的耐磨性能。结果表明:涂层的平均维氏硬度为13230MPa,涂层中TiN物相的平均晶粒大小为50nm,涂层具有较好的耐磨性。  相似文献   

4.
电火花沉积反应合成TiN增强Fe基金属陶瓷涂层   总被引:3,自引:0,他引:3  
利用自制的电火花沉积充气密闭式保护装置和DZ-1400型电火花沉积/堆焊机,以工业纯钛TA2为电极,以工业纯氮为保护气和反应气,在45#钢基体试样表面制各出了厚度为60~80 μm的TiN增强金属基陶瓷涂层.采用扫描电镜(SEM)观测了涂层微观结构和界面行为,分析了涂层形成机理,利用X射线仪(XRD)测定了涂层的物相组成,利用显微硬度仪测试了涂层的显微硬度,利用自制磨损试验机对比了涂层与淬火W18Cr4V高速钢的耐磨性.结果表明:涂层主要由TiN和FeTi两相组成,涂层组织致密、均匀、较连续,涂层与基体形成良好的冶金结合,涂层显微硬度HV高达15.88 GPa,约是基体硬度的5倍,涂层具有较好的耐磨性.  相似文献   

5.
电火花沉积反应合成TiN增强金属基复合涂层   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
利用自制的电火花沉积充气密闭式保护装置和DZ-1400型电火花沉积机,以工业纯钛TA2为电极,以工业纯氮为保护气和反应气,在45钢试件表面上电火花沉积反应合成制备了TiN增强金属基陶瓷复合涂层.利用X射线衍射仪测定了涂层的物相组成,利用扫描电子显微镜观察分析了涂层的显微组织结构,利用硬度仪测试了涂层的显微硬度,利用自制磨损试验装置对比了涂层与淬火W18Cr4V高速钢的耐磨性能.结果表明,涂层与基体结合致密,涂层主要由电极材料钛、原位自生的TiN和基体材料铁组成,涂层的平均显微硬度可达1 323 HV0.1,涂层具有较好的耐磨性.  相似文献   

6.
陈二保 《金属学报》1991,27(6):122-125
在不同含碳量的钢基体上化学气相沉积TiN层,其沉积速度随基体含碳量增多而线性增大.TiN层的X射线衍射和扫描电镜能谱分析表明,除TiN衍射峰外,还有α Fe衍射峰。沉积温度升高,在Cr12MoV基体上TiN(220)面择优成长增加.TiN层表面白亮区和层内部只有Ti能谱,黑暗区则有Ti和Fe能谱。  相似文献   

7.
采用多弧离子镀技术在W18Cr4V高速钢表面沉积TiC薄膜,通过场发射电镜、能谱及X射线衍射研究了薄膜表面及界面的结构与组成,并利用微量磨损仪对TiC薄膜的耐磨性进行了对比.结果表明,多弧离子镀在高速钢表面获得的TiC薄膜硬度达2900 HV0.05,薄膜表面平整致密,在TiC薄膜与基体之间存在一扩散并不明显的伪扩散层.由于TiC膜的硬度高于TiN膜且具有更低的摩擦系数,TiC膜的耐磨性优于TiN膜.  相似文献   

8.
研究了3Cr2W8V钢基体离子镀TiN涂层在500-700℃的高温磨损性能。利用XRD法分析了涂层的相结构,用划痕法测定了涂层的结合力,并用SEM观察分析了磨损形貌和磨损机理。结果表明:随温度升高,TiN涂层和基体的磨损率及磨擦系数均上升。TiN涂层的高温耐磨性优于3Cr2W8V基体。涂层的主要磨损机制为粘着转移磨损和磨料磨损。  相似文献   

9.
利用高分辨透射电镜观察、能谱分析等实验方法,结合硬度试验、热稳定实验不同温度下的实验数据,对热作模具钢4Cr2Mo2W2V中的组织成分、碳化物的形态、大小及其演变规律和对材料高温性能的影响进行了研究。结果表明:热稳保温过程中碳化物的演变与马氏体回复过程是耦合出现的,4Cr2Mo2W2V钢在工作温度620~700℃下的热稳定性能优于传统热作模具钢3Cr2W8V,4Cr2Mo2W2V钢在650℃工作温度下的热稳定性与传统热作模具钢3Cr2W8V在620℃条件下相当。基体中的较多的Mn和相对稳定细小的Mo、V系碳化物保证了4Cr2Mo2W2V钢高温时效过程中能保持一定的硬度。  相似文献   

10.
负偏压对低温沉积TiN薄膜表面性能的影响   总被引:3,自引:0,他引:3       下载免费PDF全文
白秀琴  李健 《中国表面工程》2005,18(5):20-23,27
研究了在低温磁控溅射沉积TiN薄膜过程中,负偏压对基体温度、薄膜表面性能、薄膜与基体界面结合强度以及摩擦学性能的影响.研究结果表明,加负偏压条件下,明显提高基体温度,有益于晶粒细化,提高硬度,改善色泽,提高TiN/基体的界面结合强度,但会引起表面轻微的粗糙化;摩擦学试验表明,负偏压对低温磁控溅射TiN薄膜及其摩擦副的摩擦磨损性能的影响较明显.  相似文献   

11.
Effect of carbon content of steel substrate,on the chemical vapour deposition(CVD)ofTiN has been investigated.The increment of deposition rate is linearly related to the increaseof carbon content in own substrate.The α-Fe peak,besides TiN,is revealed in X-raydiffraction pattern of TiN coating.The(220)preferred growth of TiN deposited on steelCr12MoV substrate increases with the increase of depositing temperature.Only Ti energyspectrum was found from the bright region at coating surface and the interior,while bothTi and Fe energy spectra from dark region.  相似文献   

12.
电弧离子镀CrN涂层的制备及性能研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
用电弧离子镀技术在W18Cr4V高速钢试样上制备了CrN涂层,采用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱议、显微硬度仪、磨损试验机等对涂层的表面形貌、相结构、硬度和耐磨性进行了分析.对比研究了经工艺优化后的CrN涂层和TiN、TiAlN涂层以及未涂层钻头干式钻削7075铝合金的切削性能,得出了最佳的沉积偏压和切削转速.结果表明,偏压为-50~-150 V时,涂层均由Cr2N 相和CrN相组成,随偏压增加,涂层表面粗糙度降低,硬度和耐磨性增强;偏压过高,涂层的微观质量和性能反而下降.偏压为-100 V时,涂层的硬度和耐磨性最佳.CrN涂层可显著提高高速钢刀具的切削性能,减小刀具磨损,延长刀具寿命.其钻削性能优于TiN、TiAlN涂层,明显优于未涂层.2 230 r/min为CrN涂层的最佳切削转速,经工艺优化后的CrN涂层钻头平均寿命约为未涂层钻头的5倍,其破损机制属于粘着磨损.  相似文献   

13.
研究了3Cr2W8V基体电刷镀Ni-W过渡层和离子镀TiN复合涂层的结合力及强化机理.利用XRD、SEM和TEM分析了涂层结构,用划痕法测定了涂层结合力,并测定和分析了涂层的磨损特性.结果表明由于TiN沉积过程中的温度效应,混合晶态的电刷镀Ni-W层发生晶化和析出强化,并形成界面扩散层和双层复合,从而使TiN复合涂层的结合力和硬度明显提高;Ni-W过渡层对TiN涂层起有力的支撑作用.Ni-W与TiN复合涂层的耐磨性优于TiN单层.  相似文献   

14.
利用双层辉光等离子表面合金化技术,在Q235钢表面直接合成TiN渗镀层,该渗镀层由TiN颗粒均匀分布的扩散层及表面TiN沉积层组成。将TiN渗镀层与Q235钢基体和1Cr18Ni9Ti不锈钢在4%的NaOH溶液、l mol/L H2SO4溶液和3.5%NaCl溶液中分别进行电化学腐蚀对比试验。结果表明:在4%的NaOH溶液中,TiN渗镀层的耐蚀性能比Q235钢提高了26.8倍,与1Cr18Ni9Ti不锈钢相当;在l mol/L H2 S04溶液中,TiN渗镀层耐腐蚀性能比Q235钢提高了10.5倍,比1Crl8Ni9Ti不锈钢提高了1.65倍;在3.5%的NaCl溶液中,TiN渗镀层耐腐蚀性能比Q235钢提高了10.3倍,但比1Crl8Ni9Ti不锈钢稍差。TiN渗镀层耐酸碱性溶液腐蚀性能要比耐盐溶液腐蚀性能强。  相似文献   

15.
用工业型脉冲等离子体化学(PCVD)设备。在高速钢(W18Cr4V)和钴基硬质合金SC30基材表面沉积了TiN薄膜,用扫描电镜(SEM)和连续加载压入仪研究了脉冲电压幅值对膜基结合行为的影响,结果表明:随脉冲电压在550-750V之间逐渐增大,TiN晶粒增大,膜层脆性增加,沉积速率提高。但膜层结合力下降:在650V以下膜基界面有一伪扩散层出现,通过650V后伪散层消失,这是改善膜基结合行为的关键因  相似文献   

16.
W18Cr4V钢的低温盐浴渗铬研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
讨论W18Cr4V钢低温复合盐浴渗铬,分析复合渗铬层的成分、组织、结构和机械性能,并检验了复合渗铬层的耐磨性。结果表明,W18Cr4V钢经氮碳共渗加低温盐浴渗铬复合处理可获得良好的渗铬层及优异的耐磨性。  相似文献   

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