南玻玻璃镀膜自动控制系统

玻璃要实现镀膜要经历从正常气压到真空,再到正常气压几个过渡过程,为了控制镀膜厚度,保证镀膜质量,对工艺气体配气控制、阴极电源控制(化学反应部分)、真空泵抽气系统控制及传动系统控制等,以及相互间的联动提出了极高要求。     

伺服电机在玻璃镀膜电气控制系统中的设计和运用

本文介绍了在我国首条国产化设计的磁控溅射玻璃镀膜生产线电气控制系统中,伺服电机的设计和运用,着重描述了如何运用伺服控制组成一个高精度的运动控制方案。     

Mg储氢薄膜的制备及其生长方式研究

镁基储氢材料是非常具有应用前景的一类储氢材料,具有储氢量大、环境友好、成本低等优点.采用磁控溅射法在单晶Si和非晶玻璃基底上沉积了纳米纯Mg薄膜.通过改变沉积速率,获得了不同生长形态和形貌的镁薄膜.采用X射线衍射光谱法(XRD)和扫描电子显微镜法(SEM)研究了Mg薄膜在不同基片和沉积速率下的生长模式.研究结果表明:改...     

基于FPGA的真空镀膜机控制系统通讯模块设计方案

介绍了基于FPGA的太阳能真空集热管磁控溅射镀膜机控制系统通讯模块(UART)的设计和实现过程.该设计采用了可编程逻辑器FPGA,并基于超高速硬件描述语言VHDL在XC2S2005PQ-208芯片上编程实现;使真空镀膜机的检测设备复合真空计与FPGA控制器实现了先进的数据通讯,提高了镀膜机的镀膜工艺和技术.     

镀膜玻璃在线质量检测系统的研究和实现

基于光学的色散原理,本文研制了一种可以在线检测镀膜玻璃光学性质的仪器。该仪器采用光纤作为传光载体,利用线阵CCD与光栅的配合完成对玻璃透射和反射光谱测量。光纤对光的发射和接收避免了杂散光的干扰噪声;光栅和高灵敏度的线阵CCD可实现高精确度的光谱采集。通过计算机强大的计算能力,可以实现透射率、反射率、各种色差测量和显示,如CIE1931色坐标（x,y）以及CIE1976色坐标（U,V,W）等,并且能够反馈给生产线,实现对镀膜玻璃光学特性的在线检测及生产线的自动控制。     

绿色镀膜用磁控溅射电源的设计与实现

传统的化学电镀技术在生产过程中会产生大量的三废污染,而绿色镀膜技术可以很好地解决该问题。磁控溅射镀膜是绿色镀膜技术中的重要环节。针对大型绿色真空镀膜设备,介绍了一种大功率绿色镀膜用磁控溅射电源的设计方法,描述了电源控制算法,通过部分电路图和波形图介绍了主电路设计、开关管的并联和高频整流滤波电路等几个问题;同时给出了设计高频变压器的过程和方法。该电源已用于实际生产中,且运行效率高,工作可靠。     

脉冲电弧离子源镀膜均匀性的研究

镀膜均匀性是脉冲真空电弧离子源应用需要解决的一个重要问题。本文首先分析了在脉冲真空电弧离子镀膜过程中 ,采用不同阴极尺寸、不同辅助阳极尺寸引起所镀膜层透过率曲线的改变 ,进而讨论了脉冲真空电弧离子源电极几何尺寸对膜厚均匀性的影响。在基片下加一个圆筒形负电位电极 ,实现了脉冲真空电弧离子源镀膜的均匀性。实验结果表明 ,采用这一技术 ,在 70mm范围内 ,基片透过率的相对变化可达到± 6.8%范围内     

真空电弧镀膜新技术

真空电弧镀膜在现代表面工程领域中作为一种新的高速沉积技术近年来得到了迅速发展并已开始进入工业应用。本文试就此新技术的原理、应用和发展前景作一简要介绍。     

基于TiO_2镀膜材料的自洁净光伏玻璃研制与分析

研究了具备光催化性能和超亲水性能的TiO_2镀膜材料的自清洁作用机理。分别测试不同加水量、涂膜层数和水解时温度对TiO_2镀膜材料性能的影响,优化了传统的溶胶-凝胶镀膜材料的制备方法。基于TiO_2镀膜材料,分析掺入HPC、Si和钒,并分析掺杂后镀膜材料特性的变化。其结果表明,HPC改性导致TiO_2薄膜颗粒纳米化和表面粗糙度增加,使得镀膜材料的光催化性能得到提高,而掺入钒后,使得TiO_2薄膜保持长久的超亲水性。通过实验分析得出,在户外环境下,覆盖掺钒的TiO_2镀膜玻璃和纯TiO_2玻璃光伏组件相比于普通组件能够提升5.87%和2.78%的输出功率。可见这种基于TiO_2的混合镀膜光伏玻璃技术有望在将来的生产中得到具体应用。     

溅射法在YBCO高温超导带材制备中的应用

高温超导电缆的开发正成为全球的研究热点。钇钡铜氧(YBCO)高温超导涂层导体作为高温超导电缆的载流层材料,各国正对其进行长带化研究。作为典型的真空沉积技术,溅射法在制备YBCO缓冲层材料中发挥了巨大的作用。本文介绍了溅射法的分类,重点介绍了射频溅射、磁控溅射和离子束辅助沉积技术。随着薄膜材料研究的深入,溅射法必将在包括超导在内的材料领域发挥更大的作用。     

靶材密度对射频磁控溅射法制备ITO薄膜性能的影响

以不同密度的氧化锡铟（ITO））靶材为原料,采用射频磁控溅射法,在室温下沉积并经750℃退火,获得了电阻率为1．56×10^-4Ω·cm、可见光透过率为87％的ITO薄膜。对不同密度靶材制备的ITO薄膜的微观结构、电学及光学性能进行了表征与探讨。结果表明,采用射频磁控溅射法时,不同靶材密度对ITO薄膜的沉积速率、结构、电学和光学性能均无显著影响。该结果为采用低密度ITO靶材制备高品质ITO薄膜提供了一个新的思路。     

中空玻璃(双层)与镀膜玻璃门在冷冻箱上的应用比较

简述了中空玻璃（双层）与镀膜玻璃门的特性,且在冷冻箱上进行了对比试验,讨论了门体采用中空玻璃（双层）与镀膜玻璃对冷冻箱内温度的影响。     

抗菌玻璃技术及应用

本文对抗菌玻璃的种类、原理及特点进行了详细的论述,重点介绍了一种全新的材料——镀膜抗菌玻璃,并对其工艺原理、技术特点、功能特性、综合指标等进行了综合评价。对溶胶-凝胶(sol-gel)工艺特点进行了解析。介绍了一系列镀膜抗菌玻璃应用于医疗卫生、家电、日用品等领域的案例,并对其应用效果进行了的综合评价。     

抗菌玻璃技术及应用

本文对抗菌玻璃的种类、原理及特点进行了详细的论述,重点介绍了一种全新的材料——镀膜抗菌玻璃,并对其工艺原理、技术特点、功能特性、综合指标等进行了综合评价。对溶胶-凝胶（sol-gel）工艺特点进行了解析。介绍了一系列镀膜抗菌玻璃应用于医疗卫生、家电、日用品等领域的案例,并对其应用效果进行了的综合评价。     

脉冲激光沉积(PLD)法制备NiZn铁氧体多晶薄膜研究

采用脉冲激光沉积（PLD）法分别在硅和玻璃基片上沉积了NiZn铁氧体多晶薄膜。实验表明：基片温度、氧气压以及热处理对薄膜的沉积速率、磁性能有很大影响。     

中空玻璃（双层）与镀膜玻璃门在冷冻箱上的应用比较

简述了中空玻璃（双层）与镀膜玻璃门的特性,且在冷冻箱上进行了对比试验,讨论了门体采用中空玻璃（双层）与镀膜玻璃对冷冻箱内温度的影响。     

强流脉冲真空电弧镀膜技术

本文介绍一种新型镀膜工艺。该工艺是利用在真空环境下,两金属电极之间的亚秒级脉冲电弧放电产生的金属蒸发物来实现镀膜的。据报道可以镀各种金属和合金膜。     

基底及电解液对TiO_2纳米管阵列形貌的影响

通过中频脉冲磁控溅射的方法在ITO玻璃上沉积出致密的钛薄膜,分别以钛膜和钛箔为基底,在甘油和乙二醇为主的电解液体系中制备出TiO_2纳米管阵列,考察阳极氧化电压对纳米管形貌的影响,采用XRD、FESEM等测试手段对样品的组成、结构及形貌等进行表征。结果表明:氧化电压的增加会导致TiO_2纳米管管径和长度的增加,但氧化电压过高会造成钛箔基底TiO_2纳米管的坍塌,而ITO玻璃基钛膜上则会形成纳米深孔结构。     

循环流化床转折区磨损实验研究

本文应用磁控溅射工艺开发了镀膜式磨损测量元件,用来对循环流不内存在的转折区磨损总理实验研究。根据得到的磨损量增长曲线,循环流化床内受热面的磨损基本上以沿壁 滑的颗粒团引起的冲刷磨损为主;循环床内转折区的存在由于改变了边壁区下滑颗粒团的流各而引起颗粒团的反向作用力,其磨损速率大幅度上升。     

磁控溅射参数变化对铌膜超导特性的影响

介绍了磁控溅射镀膜技术和参数变化对Nb膜表面形貌、内部应力、超导特性的影响.探讨了制备高质量铌膜所需的最佳溅射参数.