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利用同步送粉法在Q235低碳钢表面激光熔覆了镍基合金涂层.用扫描电镜、X射线衍射仪、能谱仪、显微硬度计对熔覆层的微观组织、物相组成、成分分布及显微硬度进行了测定与分析.结果表明:在激光功率3kW,扫描速度300mm/min,光斑直径3mm等工艺条件下的激光熔覆质量良好,无气孔、裂纹等缺陷,且与基材呈良好的冶金结合;熔覆... 相似文献
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YAG投影管屏锥封接应力主要是由于玻璃和 YAG单晶的膨胀系统数不匹配造成的。玻璃和 YAG具有不一致的非线性 ,低熔点玻璃等效固化点温度改变将造成封接应力的变化。低熔点玻璃的化学组成 ,熔制条件 ,屏锥封接工艺和其它高温处理工序决定了低熔点玻璃的等效固化点温度。要得到小应力的屏锥封接 ,需控制低熔点玻璃和玻璃的化学组成和熔制参数以及屏锥封接工艺规范。对出现的封接应力在一定程度上可通过改变封接工艺规范和高温处理来消除。 相似文献
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ZrO2/SiO2双层膜膜间渗透行为初步研究 总被引:4,自引:0,他引:4
用溶胶-凝胶技术,采用提拉镀膜法在K9玻璃基片上镀制了ZrO2/SiO2双层膜和SiO2/ZrO2双层膜,研究了这两种膜层之间的渗透问题。用X射线光电子能谱仪(XPS)测量了薄膜的成分随深度方向的变化,用反射式椭偏仪对X射线光电子能谱仪测得的实验结果进行模拟与验证。结果表明,用X射线光电子能谱仪测得的实验结果建立的椭偏模型,模拟出来的椭偏曲线和用椭偏仪测量出来的椭偏曲线十分吻合;对于ZrO2/SiO2双层薄膜,膜层间的渗透情况不是很严重,在薄膜界面处薄膜的成分比变化非常明显,到达一定深度后薄膜的成分不再随深度的变化而变化;SiO2/ZrO2双层膜膜层界面间的渗透十分严重,渗透层的深度比较大,底层几乎发生了完全渗透。 相似文献
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研究了多晶硅铸锭过程中,硅锭内部红外探伤测试中显示黑斑位置晶体缺陷的杂质组成,并根据杂质成分推导了此种缺陷的形成机理和条件.采用光致发光(PL)技术、扫描电子显微镜(SEM)和X射线能谱仪(EDS)对杂质进行了表征与分析.结果显示,形成阴影的夹杂在晶界中存在的形态主要为针状或薄片状,其组成成分主要为C,N和Si元素.而Si3N4的出现可能有两个原因:一是Si3N4涂层脱落而沉积在晶界中;二是溶解在液相中的N局部过饱和.此外,结晶过程中,SiC也随之成核并生长,在晶界上形成夹杂物,同时伴随着微缺陷的增加.据此提出了去除多晶硅锭内部阴影的几点措施. 相似文献
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为了分析热处理对金属间化合物激光熔覆层组织、有序化以及性能等的影响,采用X射线衍射试验和硬度试验方法,对激光熔覆层进行了理论分析和实验验证,取得了涂层金属的X射线衍射曲线图、X射线衍射物相分析结果及激光熔覆层硬度试验数据。X射线衍射实验结果显示,在激光熔覆工艺条件下形成的NiAl相实现了有序化,而Ni3Al相未实现有序化;经1000℃,4h热处理后,Ni3Al相实现了有序化,而NiAl相的有序化在热处理中得到保留;硬度试验结果显示,熔覆合金层的平均硬度为440HV,热处理后的涂层平均硬度为412HV,硬度有所下降。结果表明,热处理有利于Ni-Al金属化合物相的有序化,也可以使激光熔覆层组织缺陷消失并且应力得到释放。 相似文献