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纳秒无衍射贝塞耳光脉冲参量的分析与测定 总被引:1,自引:1,他引:1
从理论和实验两方面分析测定了纳秒无衍射贝塞耳光脉冲的相关参量.由广义惠更斯-菲涅耳衍射积分理论出发给出了平行光通过轴棱锥后的光场分布、最大无衍射准直距离、最小中心光斑半径等参量的表达式,并进行相关参量的数值模拟.实验采用平-抗共振环(ARR)腔被动调QNd∶YAG激光器和轴棱锥系统获得了高稳定的纳秒贝塞耳光脉冲,测定了其脉冲宽度、最大无衍射距离、横面光强分布及最小中心亮斑尺寸,实验结果与理论分析相吻合.利用胶片扫描法给出了光脉冲的截面光强分布精细结构,其分辨率远高于普通的光束分析仪. 相似文献
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涡旋光束经叉形光栅的衍射特性 总被引:1,自引:0,他引:1
利用惠更斯-菲涅耳衍射积分以及叉形光栅的透射率函数,推导出了涡旋光束经叉形光栅衍射后的解析表达式。详细研究了涡旋光束通过携带拓扑电荷数l的叉形光栅后的光强分布和拓扑电荷数。结果表明,中心零级光斑和入射涡旋光束的拓扑电荷数m相同;随着衍射级数n的变化,衍射光斑的拓扑电荷数变为nl+m。当满足nl+m=0时,该n级光斑中心为平面波形的亮斑,在此光斑两侧随着衍射级数的改变,衍射光斑的空心半径逐渐增大。根据平面波光斑所在位置的级数n以及叉形光栅携带的拓扑电荷数l,由nl+m=0可确定入射涡旋光束的拓扑电荷数m。将计算结果与实验结果做了比较,发现两者基本吻合。 相似文献
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提供了一种简便易行的靶面激光光斑尺寸原位测量的方法。从高斯光束的横向光强分布特性出发,建立了激光烧蚀斑半径与辐照激光能量、光斑尺寸、烧蚀阈值间的关系式,模拟分析发现辐照激光光斑尺寸对烧蚀斑半径随辐照能量变化曲线有较大影响。对于脉宽为2 ms,波长为1064 nm的激光,实验测量了不同能量激光辐照下相纸烧蚀斑半径,并用推导出的关系式拟合测量数据,获得了靶面处光斑尺寸和样品烧蚀阈值。同时,也测量了不同位置处的光斑尺寸和样品烧蚀阈值,对高斯光束束腰位置和样品烧蚀阈值的光斑尺寸效应进行了验证。研究结果表明该技术结果可靠,简单高效。该技术可以为高能激光与固体物质相互作用的基础研究和激光加工等应用领域中实现简单方便地测量靶面光斑尺寸提供帮助。 相似文献
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由衍射积分理论给出平行光通过轴棱锥后的光场分布表达式,模拟得到Bessel光束截面光强分布图.利用轴棱锥法,以平-抗共振环(ARR)介稳腔Nd:YAG调Q激光器为光源,获得高稳定的纳秒Bessel光脉冲.通过胶片扫描法和激光光斑能量分布的三维可视化方法,获得纳秒Bessel光截面光强的二维及三维能量分布图.实验结果与理论模拟基本吻合.实验结果表明,通过上述方法得到的分布图达到了比DataRay公司的Taper-CamD-UCM-20-15型光束分析仪要高的图像分辨率,是一种记录ps、甚至fs超短光脉冲空间能量分布的有效方法. 相似文献
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原型装置主放光路稳定性实验研究 总被引:1,自引:0,他引:1
为了研究高功率固体激光器光束指向的漂移情况,根据原型装置打靶误差预算中各部分的权重,分析了主放光路输出光束允许的角度漂移误差,即主放输出光束的角漂不超过10.6μrad。实验中选取了其中的一束,主放远场测量系统在37min内共采集到了144发次的远场图像,在MATLAB编程中使用阈值法和重心法处理每帧远场图像,将光束的漂移量在x和y方向上分解,利用均方根的概率统计方法,计算得到了主放输出光束的角度漂移误差,x方向为3.47μrad,y方向为4.09μrad。实验结果表明,主放光路的稳定性达到了设计指标,能够满足打靶要求。 相似文献
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在激光准直技术中,产生误差的主要因素有激光光束漂移、光线弯曲和随机抖动。对大尺寸激光准直测量,后两项误差的影响尤其突出。近年来产生了自适应准直的思想,即控制反射镜等元件的运动,使光束通过两个基准孔径,以期得到光线基准。这种方法是建立在“光直线传播”的基础上,然而这个条件在真实大气中是不满足的。本文根据对长距离激光准直光束特性的分析,提出了多点监测、综合补偿的准直方法,这种方法的特点是建立一个任意曲线的光束轨迹模型。由于这个模型是根据现场实测数据建立的,综合考虑了三个误差因素的相互影响和作用,因而具有较高的精度,较广泛的适应性和较大的应用范围 相似文献
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Vaida Auzelyte Mikael Elfman Per Kristiansson Christer Nilsson Jan Pallon Natalia Arteaga Marrero Marie Wegdén 《Microelectronic Engineering》2006,83(10):2015-2020
Proton beam writing was performed on a lithographic resist to determine the main parameters required to achieve the minimum feature size, maximum pattern lateral density and maximum aspect ratio. A 2.5 MeV proton beam focused to sizes between 1.5 and 2.5 μm was used to expose SU-8 negative resist. The number of protons per pixel was varied in the exposure of SU-8 with thicknesses between 5 and 95 μm. Patterns consisting of single pixels, single-pixel lines and multi-pixel areas with different densities were fabricated. The smallest structures achieved were posts 1.5 μm in diameter with 4:1 structure-space ratio in 15 μm thick resist and the highest aspect ratio structures of 20:1 in 40 μm resist were produced. It was found that the minimum feature size depended only on the beam size, and ±10% post size accuracy could be achieved within 40-70% variation of the number of protons. MeV proton beam allows a direct fabrication of complex shapes without a mask in single-step irradiation and, in addition, no proximity correction is needed. We present examples of MeV proton beam written single and multi-pixel microstructures with easily reproducible high aspect ratios and densities. 相似文献
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本文研究了透射式二元矩形位相光栅实现高斯光束空间整形的基本原理,并作了理论推导;提出了光栅加工的技术指标,对实验工作作了具体描述,并分析了实验结果。透射式二元矩形位相光栅的主要技术指标为:栅槽宽度:1.5mm;栅槽深度:0.55μm;光栅有效尺寸:15mm;透射率:大于90%;波长覆盖:0.55μm~0.65μm;破坏阈值:平均功率10W。整形参数:功率效率:大于75%;能量效率:大于90%;衍射距离要求:大于10m;整形后光束强度的径向非均匀起伏:小于9.3%。 相似文献
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聚焦离子束(Focusedionbeam)系统现在被广泛应用于大规模集成电路的修补中,FIB辐照对器件性能的影响受到广泛的关注。研究了两种栅尺寸的NMOS晶体管(20μm×20μm和20μm×0.8μm)在不同辐射剂量作用下的阈值电压变化情况,发现在辐射后的阈值电压都发生了明显的漂移,辐照后的晶体管阈值电压在室温环境下静置数日后有约30%的恢复,而在退火条件下阈值电压几乎完全恢复。文中从理论上对电离辐射引起阈值电压的漂移予以解释,使实际的电路修补工作最优化,从而确保器件在修补后的可靠性。 相似文献
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