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Photolithography Process Simulation for Integrated Circuitsand Microelectromechanical System Fabrication 总被引:1,自引:0,他引:1
基于3D元胞自动机方法实现了影像成形、曝光、后烘和光刻胶刻蚀过程等集成电路和微电子机械系统加工过程中的光刻过程模拟模块的集成. 模拟结果与已有实验结果一致,表明基于3D元胞自动机方法的后烘和光刻胶刻蚀模拟模块的有效性,这对于实现集成电路和微电子机械系统的器件级的工艺模拟具有一定的实用性. 相似文献
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基于4H-SiC材料的微机电系统(MEMS)器件(如压力传感器、微波功率半导体器件等)在制造过程中,需要利用干法刻蚀技术对4H-SiC材料进行微加工.增加刻蚀速率可以提高加工效率,但是调节刻蚀工艺参数在改变4H-SiC材料刻蚀速率的同时,也会对刻蚀表面粗糙度产生影响,进而影响器件的性能.为了提高SiC材料的刻蚀速率并降低刻蚀表面粗糙度,满足4H-SiC MEMS器件研制的需求,本文通过优化光刻工艺参数(曝光模式、曝光时间、显影时间)获得了良好的光刻图形形貌,改善了刻蚀掩模的剥离效果.实验中采用SF6和O2作为刻蚀气体,镍作为刻蚀掩模,分析了4H-SiC反应离子刻蚀工艺参数(刻蚀气体含量、腔体压强、射频功率)对4H-SiC刻蚀速率和表面粗糙度的影响.实验结果表明,通过优化干法刻蚀工艺参数可以获得原子级平整的刻蚀表面.当SF6的流量为330 mL/min,O2流量为30 mL/min,腔体压强为4 Pa,射频功率为300 W时,4H-SiC材料的刻蚀速率可达到292.3 nm/min,表面均方根粗糙度为0.56 nm.采用优化的刻蚀工艺参数可以实现4H-SiC材料的高速率、高表面质量加工. 相似文献
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本文提出了一种适用于VLSI工艺模拟的反应离子刻蚀(RIE)速率模型。模型的建立采用统计数学方法,结合较少次数的实验。该模型精度高,实用性强。对CF_4/O_2刻蚀二氧化硅和SF_6/O_2刻蚀掺磷多晶硅的实验表明,模型精度达到5%。该模型植入刻蚀模拟器后能使亚微米刻蚀模拟的精度,提高到一个新的水平。 相似文献
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电化学脉冲腐蚀法制备窄峰发射的多孔硅微腔 总被引:1,自引:0,他引:1
用电化学脉冲腐蚀方法制备了多孔硅微腔 ,讨论了脉冲电化学腐蚀的参数——周期、占空比对多孔硅多层膜制备的影响 ,并用了以 HF酸扩散为基础的多孔硅动态腐蚀机理对实验结果进行解释 ,认为在用电化学脉冲腐蚀法制备多孔硅微腔的过程中 ,不但要考虑到 HF酸对硅的纵向电流腐蚀 ,也要考虑到 HF酸对多孔硅硅柱的横向浸泡腐蚀 .可通过选取合适的周期、占空比 ,使二者对多孔硅的作用达到适中 ,以制备出高质量的多孔硅多层膜和微腔 .并用正交实验法优化了制备多孔硅微腔的参数 ,根据优化的实验参数 ,制备出了发光峰半峰宽为 6 nm的多孔硅微腔 相似文献
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纳米光纤探针是扫描近场光学显微镜的常用关键器件,化学腐蚀法制备近场光学光纤探针是基于腐蚀液弯液面的高度随光纤芯径的动态变化过程。从流体力学杨一拉普拉斯方程出发,研究了弯液面高度随光纤芯径大小的变化关系,分析了影响腐蚀法制备纳米光纤探针的相关因素,追踪了利用化学腐蚀制备纳米光纤探针的最新进展,介绍了静态腐蚀法、动态腐蚀法和选择腐蚀法等多种方法,并分析了每种方法的特点,作了比较和总结。 相似文献
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《Organic Electronics》2014,15(8):1849-1855
The conductivity enhancement of poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(styrenesulfonate) (PEDOT:PSS) by dynamic etching process was investigated to introduce the outstanding and simplest method for soft electronics. Four different samples which were pristine PEDOT:PSS, PEDOT:PSS doped with 5 wt.% DMSO, PEDOT:PSS with dipping process, and PEDOT:PSS with dynamic etching process were prepared to compare the properties such as conductivity, morphology, relative atomic percentage, and topography. All samples were characterized by four point probe, current atomic force microscopy (C-AFM), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and UV–visible spectroscopy. The conductivity of the sample with dynamic etching process showed the highest value as 1299 S/cm among four samples. We proved that the dynamic etching process is superior to remove PSS phase from PEDOT:PSS film, to flow strong current through entire surface of PEDOT:PSS, and to show the smoothest surface (RMS 2.28 nm). XPS analysis was conducted for accurate chemical and structural surface environments of four samples and the relative atomic percentage of PEDOT in the sample with dynamic etching was the highest as 29.5%. The device performance of the sample with the dynamic etching process was outstanding as 10.31 mA/cm2 of Jsc, 0.75 eV of Voc, 0.46 of FF, and 3.53% of PCE. All properties and the device performance for PEDOT:PSS film by dynamic etching process were the most excellent among the samples. 相似文献
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中高压电子铝箔腐蚀系数的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
分析比较了基于矩形凹槽模型、圆孔隧道模型、正立方孔隧道模型计算出的中、高压电子铝箔腐蚀系数与KDK公司(H100)形成箔实际腐蚀系数的关系。结果表明:中、高压电子铝箔真实理论极限腐蚀系数应介于正立方孔-圆孔理论极限腐蚀系数之间。中压电子铝箔(220~485 V)通过电蚀扩面提高化成箔比电容余地还很大,高压电子铝箔(>485 V)的实际腐蚀系数与理论极限腐蚀系数已经很接近,通过电蚀扩面提高比电容的余地较小。 相似文献