热处理和淬火的未掺杂半绝缘LEC GaAs的均匀性

对未掺杂原生ＬＥＣＳＩＧａＡｓ单晶在５００～１１７０℃温度范围进行了单步、两步和三步热处理及淬火，研究了这种热处理对ＥＬ２分布的影响，并检测了位错和Ａｓ沉淀的变化。结果表明，６５０℃以上温度的热处理可以改善ＥＬ２分布均匀性，且在６５０～９５０℃温度范围的热处理中，ＥＬ２均匀性的改善与热处理后的降温速率无明显联系。此外，两步或三步热处理的样品中ＥＬ２分布甚至比单步热处理样品中更优。９５０℃以下的热处理和淬火对位错和Ａｓ沉淀无明显影响。但是１１７０℃热处理井淬火后位错密度增加大约３０％，Ａｓ沉淀消失。对经１１７０℃淬火的样品再进行８０Ｏ℃或９５０℃的热处理，Ａｓ沉淀重新出现。ＥＬ２分布的变化可能与点缺陷、位错和Ａｓ沉淀的相互作用有关。文中提出了这种相互作用的模型，利用该模型可解释不同条件热处理后ＥＬ２分布的变化。     

非有意掺杂LECSI GaAs中EL2分布特性的研究

测量比较了不同条件下热处理后非有意掺杂半绝缘ＬＥＣＧａＡｓ中ＥＬ２浓度及其分布的变化，为了分析这一变化，还检测了位错和Ａｓ沉淀的分布，在实验结果基础上，对ＥＬ２分布不均匀性的起源和热处理改善ＥＬ２分布均匀性的机理进行了讨论。     

热处理改善未掺杂LECGaAs中EL2分布均匀性的机理研究

本文以热处理方法研究了ＬＥＣＳＩ－ＧａＡｓ中ＥＬ２径向分分布变化规律，着重研究了不同的热处理后冷却方式对ＥＬ２分布均匀性改善程度的影响，讨论了ＬＥＣＧａＨｓ中ＥＬ２分布不均匀性的起源及热处理改善ＥＬ２分布均匀性的机理．     

掺In GaAs晶体中的EL2缺陷及其热处理

比较了掺Ｉｎ和非掺杂ＬＥＣ－ＧａＡｓ晶体中的ＥＬ２缺陷，分析了掺Ｉｎ量的不同与热处理过程的不同对ＬＥＣ－ＧａＡｓ晶体中ＥＬ２缺陷的影响。     

多步热处理对未掺杂LEC SI-GaAs特性的影响

对未掺杂ＬＥＣＳＩ－ＧａＡｓ进行了“三步热处理”。用霍尔测量、光激电流谱测量和化学腐蚀方法研究了这种热处理对电阻率、迁移率、电活性缺陷、位错密度及Ａｓ沉淀的影响。     

EL2能级对GaAs MESFET夹断电压的影响

在建立的理论模型基础之上,定量地分析了ＥＬ２能级对ＧａＡｓ ＭＥＳＦＥＴ夹断电压的影响,指出位于本征费米能级以下的ＥＬ２能级是影响ＧａＡｓ ＭＥＳＦＥＴ夹断电压大小的主要因素,ＥＬ２能级对ＧａＡｓ ＭＥＳＦＥＴ夹断电压的影响程度与ＥＬ２能给的缺陷密度呈线性关系。     

未掺杂半绝缘GaAs中受主及电中性EL2分布的研究

测量了未掺杂半绝缘（ＳＩ）ＬＥＣＧａＡｓ中总的、电中性的ＥＬ２及净受主浓度分布和碳分布。结果表明，总ＥＬ２浓度径向分布呈Ｗ形而不是均匀的，净受主浓度径向分布呈∧形或∩形而不是Ｍ形。电中性ＥＬ２的Ｗ形径向分布由总ＥＬ２浓度的Ｗ形径向分布决定，而不是由于净受主的不均匀分布。有些样品中净受主浓度远大于碳浓度．意味着这些样品中除碳外还存在高浓度的其它受主。     

搭建Linux环境下的ORACLE 8服务器

在开发ＯＲＡＣＬＥ数据库软件时,为了搭建开发软件的环境,需要投入大量资金来购买ＰＣ服务器或小型机。是否有更经济的方式来搭建ＯＲＡＣＬＥ的开发环境或实验环境呢？以下介绍一种比较经济地搭建ＯＲＡＣＬＥ服务器的方法。一、软硬件要求１．ＰＣ：ＩｎｔｅｌＰｅｎｔｉｕｍ／１３３３２ＭＢ１ＧＢ硬盘及网卡。２．ＲｅｄＨａｔＬｉｎｕｘ５．２。３．ＯＲＡＣＬＥ８．０．５ＦｏｒＬｉｎｕｘ。二、ＲｅｄｈａｔＬｉｎｕｘ介绍及安装Ｌｉｎｕｘ是Ｕｎｉｘ的自由发布版本,由ＬｉｎｕｓＴｏｒｖａｌｄｓ和上千名分布在世界各地的程序…     

影响液封直拉法生长GaAs单晶锭长的因素

研究了影响ＬＥＣ生长ＧａＡｓ单晶锭长的因素。发现，ＬＥＣ系统中热场分布，热对流，坩埚直径和坩埚初始位置及装料量的多少等对ＬＥＣ法生长的ＧａＡｓ单晶锭子长度都有影响。     

非掺SI—GaAs单晶热处理的研究

采用闭管Ａｓ气氛保护高－低－中温热处理方法进行非掺ＳＩ－ＧａＡｓ单晶热处理的研究，结果表明晶体的科技司有明显的改善，一般晶体的迁移率可提高一倍以上，在Φ３英寸非掺ＳＩ－ＧａＡｓ单晶研究中，其晶体的电阻率不均匀性≤１５％，ＥＬ２ＲＳＤ≤５％，ＰＬ－Ｍａｐｐｉｎｇ≤９％。     

半绝缘GaAs中EL2能级低温精细结构和光猝灭效应

本研究采用近红外光谱法和低温测量技术,获得了EL2能级的心内跃迁特征光谱和包括6个小峰的精细结构。探讨了心内跃迁与横向声学(TA)声子的耦合机理,系统观察了它的光猝灭效应,提出亚稳态模型,得出了由10K升温过程EL2能级近红外吸收与温度的依赖关系,确定了115K为亚稳态恢复至稳态的最低温度转变点。由实验结果提供的EL2能级内部结构的信息,提出EL2能级的理论模型。     

组分和热历程对LEC GaAs中深施主能级(EL2)的影响

用红外吸收的方法测量了不同组分的原生未掺杂LEC GaAs晶锭不同部位EL2浓度([EL2]),并用热处理后快速冷却的方法模拟晶体生长后冷却过程中的不同阶段,测量分析了各阶段[EL2]的变化.在实验结果的基础上对EL2生成过程及影响其生成的因素进行了讨论.     

电化学腐蚀法制备的SiO2包裹纳米硅颗粒结构的电致发光特性

将采用传统电化学腐蚀法制备的多孔硅样品，用浸泡液浸泡剥离其表层多孔层，使样品表面形成SiO2包裹纳米硅颗粒的结构，在表面镀半透明Au膜后制备成电致发光器件．在正向偏压下样品可以长时间稳定地发出绿光（510nm），并且随着偏压的升高，发光强度增强，峰位不变．讨论了可能的发光机制．     

ZnO量子点／SiO2复合器件的可调控电致发光研究

在不同浓度的SiO2乙醇溶液中制备了一系列ZnO量子点／SiO2复合材料,通过匀胶方法将其制备成复合薄膜器件。器件的电致发光（EL）随着SiO2浓度的增加逐渐蓝移。通过实验,探索了发生蓝移的机制。选取一种ZnO量子点／SiO2复合材料均匀混入不同质量的纯SiO2后,测试结果表明,该蓝移现象不是SiO2自身发光引起的。通...     

Excitation photocapacitance study of EL2 in n-GaAs and its relation to non-stoichiometry

The excitation photocapacitance measurements are performed on n-GaAs to obtain charge transition characteristics of EL2 defects in a full spectral region. It is shown that the threshold photon energy for EL2⁺⁺ to EL2⁺ transition is changed as a function of the primary excitation photon energy. It is also shown that the Frank–Condon shifts (d_FC) changed. It is considered that the lattice relaxation around the EL2 defect is affected by the deviation from the stoichiometric composition.     

非有意掺杂LEC SI GaAs中EL2分布特性的研究

测量比较了不同条件下热处理后非有意掺杂半绝缘(SI)LEC GaAs中EL2浓度及其分布的变化,为了分析这一变化,还检测了位错和As沉淀的分布。在实验结果基础上,对EL2分布不均匀性的起源和热处理改善EL2分布均匀性的机理进行了讨论。     

以Ta2O5为电子加速层的MEH-PPV的发光

以Ta2O5为加速层,制备了结构为ITO/Ta2O5/MEH-PPV/Ta2O5/Al的电致发光(EL)器件.通过对器件的EL特性、发光波形随驱动电压变化关系等的研究发现,器件的发光性质和发光机理与固态类阴极射线发光现象一致.研究结果表明,固态类阴极射线发光是一种普遍现象,用具有加速电子能力的Ta2O5作为加速层的EL...     

Non‐Volatile Polymer Electroluminescence Programmable with Ferroelectric Field‐Induced Charge Injection Gate

Electroluminescence (EL) of organic and polymeric fluorescent materials programmable in the luminance is extremely useful as a non‐volatile EL memory with the great potential in the variety of emerging information storage applications for imaging and motion sensors. In this work, a novel non‐volatile EL memory in which arbitrarily chosen EL states are programmed and erased repetitively with long EL retention is demonstrated. The memory is based on utilizing the built‐in electric field arising from the remnant polarization of a ferroelectric polymer which in turn controls the carrier injection of an EL device. A device with vertically stacked components of a transparent bottom electrode/a ferroelectric polymer/a hole injection layer/a light emitting layer/a top electrode successfully emits light upon alternating current (AC) operation. Interestingly, the device exhibits two distinctive non‐volatile EL intensities at constant reading AC voltage, depending upon the programmed direct current (DC) voltage on the ferroelectric layer. DC programmed and AC read EL memories are also realized with different EL colors of red, green and blue. Furthermore, more than four distinguishable EL states are precisely addressed upon the programmed voltage input each of which shows excellent EL retention and multiple cycle endurance of more than 10⁵ s and 10² cycles, respectively.