用于一等量块检定的柯氏干涉仪改造

介绍了改造后的柯氏干涉仪用于一等量块的检定,从激光干涉仪直接测量量块长度的原理出发,通过对干涉条纹的整数部分N、小数部分ε以及修正量C的确定,计算出量块长度。改造中结合激光干涉技术、图像采集判读等技术,提高了量块测量不确定度,解决了一等量块长度测量问题。     

利用CCD实现量块的自动测量

利用CCD取代接触式干涉仪的光学放大镜接收干涉条纹,结合8031单片机并通过对干涉条纹移动量的测量,实现了对量块的自动测量。测量中以二级量块做标准量块来对三级量块进行测量。测量结果表明测量误差小于0．1μm。     

尾纤模块研磨轨迹的仿真及实验研究

尾纤模块研磨质量对闭环光纤陀螺直接耦合光路的插入损耗和陀螺精度有着直接影响.从降低研磨砂纸的磨损程度及保证光纤端面均匀磨损的角度出发,在不同行星齿轮转速及不同研磨距离的情况下对尾纤模块几何中心点在研磨砂纸上的研磨轨迹进行了Matlab仿真分析,得出了一组优化的研磨参数,并进行了研磨实验.实验结果表明建立的研磨方程正确,同时证实行星齿轮转速为1 r/min时研磨砂纸利用率高且磨损程度轻.     

双波长激光干涉移相式测量长度技术研究

研究了应用移相干涉术测量新的一等量块的方法。对干涉图像进行多幅图的采样,由移相法计算量块测量面和与其研合的辅助平晶表面的波面面形,尤其研究了在量块干涉图中有阶跃不连续的波面复原运算的原理与技术,得到表征其表面的离散波差值,并给出量块工作面长度和长度变动量的测量结果。     

国内最新发现与创新

<正> 标普纳米测控技术有限公司突破纳米测控技术瓶颈 由中国青旅实业发展有限公司所属标普纳米测控技术有限公司推出的纳米测长仪和量块快速检测仪这两项科技成果日前已正式通过专家鉴定。 “纳米测长仪”是一种可以精确测量纳米量级的“尺子”,这种通用长度传感器已经从静态人工读数发展到数字化自动显示。其数显分辨率达到1nm,测量重复性标准偏差仅为0.8～1.2nm。 “量块快速检测仪”是一种新型的量块检测仪     

一等量块光波干涉测量要件

以高精度干涉条纹小数测量、研合膜厚度的量化控制与量块内部温度测量为重点,对进行一等量块光波干涉测量的各要件进行了分析,并引用国际比对结果予以了验证。     

量块检定用激光干涉仪

量块检定用激光干涉仪，采用增量式测量，性能稳定，自动化性能好，测量精度高。分辨率为０．０１μｍ，重复性误差在０．０３μｍ以内，满足新检定规程中二等量块的检定要求。     

压电超声辅助研磨抛光技术研究进展

研磨抛光是机械加工领域中精密光整加工的重要手段。在传统研磨抛光中,特别是对硬脆性材料进行研磨抛光时,存在高硬度、低断裂韧性和化学性质稳定等特点,对其进行研磨抛光时很难获得理想的加工效率和优越的表面质量等问题。压电超声辅助研磨抛光属于振动研磨技术的一种,它将超声振动磨削技术应用于研磨加工,其高频振动能有效减小研磨力,提高加工效率,可充分发挥硬研磨工艺特点。该文结合压电超声辅助研磨抛光特性和研究方法现状,对国内外超声辅助研磨抛光硬脆材料的发展动态进行了综述与展望。     

陶氏电子材料推出用于铜阻挡层的OPTIVISION 4540化学机械研磨垫

陶氏电子材料（Dow Electronic Materials）推出了OPTIVISION 4540化学机械研磨垫,该产品的设计目标是在研磨垫的使用寿命内实现低缺陷率和低拥有成本.这款新研磨垫使用了独特的聚合物化学组成和细孔结构．以达到使铜阻挡层研磨的缺陷率降至最低,并提供更高的介电层去除率。OPTIVISION 4540研磨垫拥有双孔结构以精确控制研磨．并且在研磨垫使用寿命中提供一致的研磨垫表面。     

集成成像三维数字重构技术研究

集成成像三维重构技术作为一种真三维重构技术,成为当今三维成像与显示领域的重要研究方向。以光线追迹方法为基础,使用像素映射算法实现了三维场景的数字重构;同时使用对同名像点提取误差具有较强鲁棒性的统计重构算法对三维场景进行高精度数字重构,并开展了标准量块的数字重构实验,实现了量块的高精度数字重构。     

罗门哈斯电子材料公司推出用于65nm铜阻挡层的研磨化学机械研磨垫

罗门哈斯电子材料公司化学机械研磨（CMP）技术事业部，9月12日宣布推出Vision Pad^TM VP3100研磨垫。VP3100是产业界中第一种兼备硬研磨垫和软研磨垫优点的研磨垫，用于先进的化学机械研磨。使用Vision Pad^TM VP3100研磨垫时，在大批量生产铜晶片时，晶片平坦度优异，而且缺陷率低，从而提高了65nm工艺制程的产量，并且降低设备使用的总成本。     

量块中心长度的自动激光干涉测量

介绍利用激光干涉与数字图像处理技术以及FFT方法 ,分析并解决量块中心长度的自动测量和对测量结果的环境参数修正。     

浮标式油膜厚度测量传感器的研制

针对海面溢油油膜厚度的测量,基于垂直入射式差分激光三角法原理,研制了可机载投放的浮标式油膜厚度测量传感器。介绍了传感器的组成和原理,给出了系统集成与调试过程,以0级陶瓷量块为标准厚度,采用最小二乘拟合高次曲线的方法对传感器进行了标定。选用1.4~9.4mm量块对传感器进行了精度测量,测量相对误差小于1%。     

化学机械研磨垫

OPTIVISIONTM 4540化学机械研磨垫的设计目标是在使用寿命内实现低缺陷率和低拥有成本。它使用了独特的聚合物化学组成和细孔结构，以达到使铜阻挡层研磨的缺陷率降至最低，并提供更高的介电层去除率；拥有双孔结构以精确控制研磨，并且在研磨垫使用寿命中提供一致的研磨垫表面。尤其在铜阻挡层研磨方面，与POLITEXTM研磨垫产品相比，它在颤动和微划痕缺陷率方面取得了一个数量级的进步，从而实现了更高的生产良率。     

浅述YGM高压磨粉机在磁粉方面的选择与应用

文章主要阐述了高压磨机的六大特点：加工产量高;适用范围广;成品粒度范围广;除尘效果达到国家排放标准;整机拆装调整方便;密封性能好。并指出如何在磁粉研磨中正确有效地选择它们。     

光纤连接器插针体端面的超声波研磨

探讨了在普通研磨的基础上引入超声波的复合研磨方式,将普通研磨和引入超声波后研磨的效果进行了对比,并对超声波复合研磨的机理进行了简单的分析。     

基于数字图像处理的齿轮测试仪精度分析

基于视觉技术的齿轮测试仪是一种新型的齿轮测量工具,目前该项目在我国的研究还处于初级阶段.首先介绍由CCD摄像头、图像采集卡和计算机组成的齿轮测试仪系统,并简要介绍系统各部分的功能.然后详细地从量块的选择、图像分辨率、齿轮模数大小等三个方面分析了影响齿轮参数测量精度的因素,并通过实验验证:分辨率和量块的选取对于测量精度的影响非常明显;模数的变化则对测量精度的变化不太明显,其主要影响相对误差的精度,对绝对误差精度影响不大.     

大长度高精度侧面研磨光纤关键技术及应用

自主研制了光纤轴向研磨厚度精确控制装置和电弧放电光纤研磨截面高精度抛光装置.通过高精度压电陶瓷PZT调节光纤侧面的研磨厚度,研磨精度达0.01 μm.通过定位传感器控制光纤的研磨长度,可实现长度大于100 mm的光纤侧面研磨.采用低热膨胀系数微晶玻璃作为研磨块.大大降低研磨损耗.微晶玻璃上刻制多个V型槽,可实现多光纤同时轴向研磨,极大地提高了光纤研磨效率.利用电弧放电所产生的高温将研磨光纤的表面进行熔化,从而有效消除研磨光纤表面的粗糙度,抑制微裂纹或凹坑造成的较大损耗.利用上述装置,可精确控制光纤侧面研磨厚度,为高精度双折射可控保偏光纤光栅、基于光纤光栅辅助耦合波分复用(WDM)下话路器等光器件的研究奠定了基础.     

光纤连接器端面的超声/机械复合研磨

介绍了一种引入超声波研磨光纤连接器的新型研磨方式。对这种实验装置进行了简单的介绍,并将这种研磨的结果和普通研磨的结果进行了对比和分析,结果表明这种研磨方式的研磨效率比普通研磨提高了4～8倍,平均表面粗糙度〈3nm．平均回波损耗〈-60dB,平均插入损耗〈0．1dB。     

晶片研磨速率及损伤层的研究

现代光电器件不仅要求有较高的平面度、样品平行度以及厚度,还要求有低损伤、高质量的加工表面.为了达到这个目的,对不同条件下的研磨速率及所产生的损伤层进行研究,并制定合理的研磨工序是必需的.叙述了研磨的本质及损伤层的产生,研究了晶片减薄过程中去除速率和表面粗糙度与研磨转速和研磨压力的关系,比较了不同磨料颗粒度对去除速率和表面粗糙度的影响,为制定合理的研磨工序提供了依据.