EDTA对KDP晶体光学性质影响

本文探讨了不同掺杂浓度下,EDTA对KDP晶体光学性质的影响。结果表明,高浓度EDTA的KDP晶体光散射有明显的影响,但对光学均匀性和光损伤阈值无明显影响。     

不同激光波长对KDP晶体损伤的研究

测量了KDP晶体在1.064微米、0.532微米和0.355微米波长上激光偏振方向与KDP晶体的光轴方向相平行和相垂直时激光损伤阈值。发现随着激光频率升高激光损伤阈值明显下降,这一实验结果表明KDP晶体中激光损伤主要是多光子电离击穿起主要作用。     

EDTA对KDP晶体光散射性质影响的研究

不同EDTA（乙二胺四乙酸）掺杂浓度条件下生长了KDP（磷酸二氢钾）晶体,超显微法观察了EDTA对KDP晶体光散射性质的影响。结果表明,随着溶液中EDTA含量的增加,相应晶体内部的光散射现象加重。其原因在于当溶液中EDTA含量较高时,阻碍了KDP晶体的生长,导致了液相包裹物的产生,造成光散射;同时发现,同一晶体不同部分的光散射也不同。对EDTA的影响机理进行了初步的探讨。     

晶体与微声材料

0118277EDTA 对 KDP 晶体光学性质影响[刊]/孙洵//光电子·激光.—2001,12(5).—488～490(E)本文探讨了不同掺杂浓度下,EDTA 对 KDP 晶体光学性质的影响。结果表明,高浓度 EDTA 对 KDP 晶体光散射有明显的影响,但对光学均匀性和光损伤阈值无明显影响。参50118278纳米 SiC 多晶膜的受激喇曼散射研究[刊]/张洪涛//半导体光电.—2001,22(3).—220～223(E)     

红宝石激光辐射对KDP和LiNbO_3非线性晶体的破坏

本文研究了在调Q红宝石激光器聚焦辐射作用下KDP和LiNbO_3非线性晶体的体积破坏。经研究确定,KDP晶体的破坏性质取决于样品的取向。沿光轴取向的KDP晶体的破坏特性定性地证实,晶体的破坏不仅是由于压缩应力所引起,而且是因拉应力所致。在LiNbO_3晶体内观察到的丝状损伤与激光辐射自聚焦有关。本文列出了KDP和LiNbO_3晶体的破坏阈值,采用的激光波长为0.69微米,球面透镜f=3和8厘米。     

用于KDP晶体保护的AF2400-SiO2疏水光学薄膜

在惯性约束聚变(ICF)装置中大量使用具有变频特性的水溶性磷酸二氢钾(KDP)类晶体材料。在KDP晶体上镀制薄膜材料成为保护KDP晶体的有效措施。以正硅酸乙酯(TEOS)为原料,采用溶胶-凝胶法和提拉方式制备膜厚λ/4的增透膜,再采用具有高憎水特性、高透射率、低折射率的氟聚合物AF2400在FC-75的可溶解特性,在SiO2增透膜上旋涂AF2400防潮膜。对薄膜的表面形貌、疏水性能、光学性能和抗激光损伤阈值等进行了测试。结果显示,AF2400-SiO2复合光学薄膜表面平整,折射率为1.21,疏水角可以达到110°~120°,抗激光损伤阈值为19.5 J/cm2,是性能优良的疏水光学薄膜,可用于三倍频晶体KDP的保护。     

生长条件对KDP晶体中散射颗粒的影响

利用透射电子显微技术对不同条件下生长的KDP晶体中包裹物进行了观察并测量了其相应尺寸。结果表明，晶体中的生长缺陷、pH值、生长速度和杂质与KDP晶体散射颗粒的形态存在密切关系。     

大口径快速生长KDP晶体三倍频性能研究

主要研究大口径KDP晶体的高强度三倍频性能。采用正交偏振干涉法测量了晶体的光轴均匀性分布,并在神光III原型装置上利用快速生长二倍频晶体开展了高强度三倍频实验,验证了折射率均匀性分布对三倍频效率和近场的影响。实验结果表明,大口径快速生长KDP晶体的三倍频性能基本上满足神光III装置的要求,但快速生长晶体的受激拉曼散射增益系数和激光损伤阈值等性能仍有待进一步考核。     

0.532微米泵浦的碘酸锂晶体中的参量振荡

碘酸锂(LiIO_3)晶体是一种负单轴晶体。作为非线性光学材料,它有许多优点:整个可见区至近红外区透明,非线性系数较高,d_(31)(LiIO_3)=11d_(36)(KDP),光损伤阈值达130兆瓦/厘米~2左右;较易于生长出大体积的光学性质均匀的单晶。     

化学计量比LiNbO3晶体的光折变损伤阈值测定

运用准连续激光器测定了4种用助熔剂提拉法生长的化学计量比铌酸锂(LiNbO3)晶体的光折变损伤，应用高斯光束经凸透镜变换的公式计算了光斑半径，最后得到了光损伤阈值，并与同成分LiNbO3作了比较，讨论了掺杂对晶体光折变性能的影响。根据晶体红外吸收峰的位置定性判断了晶体的光损伤阈值，其结果与准连续激光器的测量结果是一致的。     

基于光热位移原理的KDP晶体光吸收系数干涉测量方法的数学模型及结构参数优化

KDP晶体的光吸收系数是评价其光学质量的重要参数。尤其在惯性约束核聚变装置（ICF）中,其大小直接决定出射脉冲的能量及频率转换效率,因此必须对它进行高精度测量。KDP晶体光吸收系数的数量级一般在10-3/cm~10-5/cm,传统的光吸收系数检测方法已经无法满足该测量分辨率要求。文中针对KDP晶体的特点提出了一种基于光热位移原理的干涉测量方法来解决其吸收系数精密测量的问题。首先利用积分变换思想建立了KDP 晶体光吸收系数干涉测量数学模型,然后基于该模型对测量系统的结构参数进行了仿真优化,得到了系统的设计参数。     

采用蒸发法实现KDP单晶柱面扩展

传统的人工生长大尺寸KDP(磷酸二氢钾)单晶过程中，柱面生长很慢，锥面的生长速度较快。实验利用恒温蒸发溶剂的办法，生长出了截面较大的KDP单晶体（8mm×22mm×45mm）。柱面的生长速度较传统的溶液降温法得到了有效的提高，尤其是向下的方向更加明显，这主要是由于液面下降，溶质边界层浓度梯度发生持续变化促使晶体快速生长造成的。对溶液的提纯、预热以及起始温度选择等积累了经验。实验也为后续的晶体生长打下了很好的基础。     

大口径KDP晶体夹持方式对面形的影响

对大口径KDP晶体的夹持方式以及夹持对面形的影响进行了研究。利用ANSYS建立KDP晶体侧面和正面夹持的有限元模型。研究了侧面均布荷载、侧面均匀及非均匀两点荷载作用时KDP晶体面形,得出了总荷载大小是影响晶体面形的关键因素。讨论了理想状态和实际状态下KDP晶体正面夹持面形,得出了元件表面平面度是影响晶体夹持面形主要因素。通过分析和计算,找到了降低元件平面加工精度对晶体正面夹持面形影响的理论技术方案。     

皮秒激光抛光KDP晶体的工艺研究

为了改变KDP晶体精密加工难和效率低的状态,采用皮秒超快激光抛光KDP晶体的新方法,系统地研究了激光波长、单脉冲能量密度、激光束入射角、光斑搭接率、扫描方式以及激光焦深等因素对激光抛光KDP晶体质量的影响规律,并对激光与KDP晶体的相互作用机理进行了分析。结果表明,在皮秒激光波长λ=355nm、聚焦镜焦距f=56mm、激光束入射角α=84°、激光重复频率F=800kHz、脉冲能量密度Q=2.4J/cm2、光斑搭接率O=60%、45°多方向交叉扫描以及加工次数T=10次的优化参量条件下,KDP晶体表面粗糙度均方根值可达到76nm。这一结果使激光抛光技术的研究得到了进一步补充。     

Wide angular aperture image up-conversion

Infrared images at 1.06 μ are up-converted in KDP with an angular aperture of more than 20°. The images are up-converted by scanning the orientation of the KDP. The technique is applicable when noncritical phase matching does not allow sufficient angular aperture.     

KDP晶体激光损伤的研究

报道了散射颗粒、焦斑面积和非线性吸收等对ＫＤＰ晶体激光损伤的影响。研究了ＫＤＰ晶体的多脉冲损伤。     

Behaviour of a novel cylindrical glass fibre optical coupler buried in KDP

Electro-optic intensity modulation is reported for the first time in a device consisting of a glass fibre directional coupler with an active KDP cladding. Tests suggest that, within about 0.5?m of the fibre surface, the KDP crystal has its bulk index, but a reduced electro-optic coefficient     

焦磷酸盐对KDP晶体透过光谱的影响

研究了焦磷酸盐对KDP晶体光谱性质的影响。焦磷酸盐对KDP晶体锥面透过光谱有明显影响,其原因在于焦磷酸根在锥面上吸附,进入晶格,形成一个质子空位,导致紫外光谱的额外吸收。