半导体行业镀膜用高纯银的制备方法及展望

高纯银广泛应用于半导体领域,通过制成靶材或蒸发源材料,采用溅射或蒸镀工艺沉积于基体表面。银的纯度对镀膜的质量影响非常大,随着半导体集成电路领域的飞速发展,对镀膜中所使用的高纯银材料纯度提出了更高的要求,必须达到99. 999%以上。介绍了高纯银的制备方法,综述了国内外高纯银制备的研究现状,分析了存在的问题,并提出了今后高纯银制备的研究方向。     

高性能电子溅射靶的制备

大尺寸、高性能电子溅射靶是电子及信息产业不可或缺的材料，电子靶材一直是各国优先发展的高新技术材料。此光盘膜用靶材材料极易在制备过程中碎裂，并且密度越高，裂纹倾向越大。因此，高密度、高纯度、大尺寸是相互矛盾的，难以达到完美的统一。通过选择合适的成分配比、粉原料的预处理以及合理的热压工艺以及热等静压工艺制度，解决了制备过程中易出现裂纹的难题，制备了大尺寸(直径200mm)、高相对密度(大于90％)、高纯度、密度分布均匀和组成相满足使用要求的靶材。经镀膜考核，靶材各项性能指标能够达到镀膜使用要求，与国外同类产品相当。     

钛,锆,铪及其化合物在光学镀膜技术中的应用

新材料新功能的开发是新技术发展的物质基础.新技术的迅速发展必然加速了新材料的开发.钛、锆、铪氧化物的应用使光学镀膜工艺得到迅速发展,使天文、海洋观测仪器和激光设备的性能得到完善,出现了耐磨耐腐蚀、适应严酷环境工作的光电仪器.新技术的发展更进一步促进镀膜材料向新的广度和深度发展.钛锆铪及其氧化物在镀膜材料中占有很重要的位置.     

各种低价氧化钛的无标样X射线定量相分析

二氧化钛是一种优良的光学镀膜材料,但在真空镀膜过程中,经电子轰击后易分解、氧化成各种低价氧化钛,致使难于控制蒸发工艺条件。使用低价氧化铁(TiO、Ti_2O_3、Ti_3O_5)作为原料,在氧气氛下镀膜,不但蒸发条件易于控制,且能得到均匀、致密、性能优异的薄膜。因此目前已广泛采用低价氧化钛作为光学镀膜材料。     

溅射法镀二氧化钛薄膜靶材及工艺研究进展

介绍了溅射法镀膜的基本原理，阐述了溅射法镀二氧化钛薄膜用靶材及相应溅射镀膜工艺的研究现状。溅射镀Tio2薄膜用靶材主要有金属钛、二氧化钛和“非化学计量”二氧化钛靶材3大类。由于钛的氧化态及靶材导电性不同，它们对溅射工艺（如溅射气氛等）有一定具体的要求，通过对靶材和相应工艺进行分析比较，指出应用“非化学计量”靶材是溅射法制备二氧化钛薄膜技术发展的重要方向。     

HCD空心阴极离子镀工艺研究

离子镀技术是在其真空条件下，应用气体放电技术实现的镀膜，在国外工业生产中已得到广泛的应用，国内对这项技术也进行了研究并在设备和工艺上都取得了很大的成果。离子镀膜技术自１９６３年出现以来，由于这项技术可以在金属零件、塑料、陶瓷、玻璃、纸张等非金属材料上涂覆一层上有不同性能的单一镀层、化合物甚至合金镀层，只要采取不同的工艺，就可获得表面致密的耐腐蚀膜、耐高温膜；表面硬化的耐磨擦膜；润滑膜及各种颜色的装     

镁合金表面功能纳米薄膜的制备

通过有机镀膜技术，对镁合金表面进行改性。对有机镀膜处理后的镁合金表面的接触角，表面自由能进行了测定。研究了不同有机镀液，在恒电流作用下，有机镀膜时间对镁合金表面性能的影响。结果表明，经过TTN溶液有机镀膜后，镁合金板表现出亲水性，其表面能比未处理镁合金板的表面自由能要高；而经过DHN和DAN溶液有机镀膜后，镁合金板表现出良好的疏水性，其表面能比未处理镁合金板的表面自由能要低，在二者中DHN处理后的疏水效果最好。实现了对镁合金表面疏水、亲水表面改性，能够很好的扩大镁合金在工业中的应用领域。     

多层喷射沉积铝/钢双金属板的轧制

用多层喷射沉积技术制备铝／钢双金属板坯，在不同热轧工艺条件下进行了轧制。不同的热轧工艺材料有不同的性能，不同的热轧工艺对双金属的铝／钢界面结合强度有着显著的影响。本文分析了工艺参数对界面结合的影响，并提出了优化的工艺参数。     

冷作模具钢X45NiCrMo4的热处理工艺

通过对冷作模具钢Ｘ４５ＮｉＣｒＭｏ４的热处理工艺研究以及不同的热处理工艺对材料显微镜组织的影响，获得材料的最佳热处理工艺，并运用于大生产，取得了良好的效果。     

电子束气相沉积的研究进展

介绍了电子束真空气相沉积(EBPVD)镀膜技术的优点、国内外发展现状,并对其关键技术:材料的高速电子束蒸发过程在真空和工艺参数控制下的物质的沉积、成分和组织结构的控制等方面进行了分析。简要论述了其硬件条件,以便为钢钛复合材料的制备提供解决思路。     

Study on Effect of Flux on CeMgAl11O19∶Tb3+ Phosphor

High calcination temperature is an important factor in the preparation process of CeMgAl11O19∶Tb3 . To decrease the temperature, different fluxes(H3BO3, MgF2 and AlF3) were tested in order to compare their influence on the luminescence property and particle size distribution of CeMgAl11O19∶Tb3 . The result shows that when the content of MgF2 is 0.1 mol/mol, the intensity of luminescence can attain a maximum. Furthermore, MgF2 can improve the particle size quality of the phosphor. So MgF2 can take the place of the conventional flux H3BO3 to prepare high quality CeMgAl11O19∶Tb3 phosphor. In addition, the relation between phosphor property and content of AlF3 was also studied. The crystal structure of the phosphor was analyzed by XRD method. The phase composition analysis shows that the reason of decrease of the brightness of CeMgAl11O19∶Tb3 phosphor is the emergence of TbAlO3 and α-Al2O3 during the preparation process.     

氟化镁单晶体与多晶体成膜后薄膜耐磨性分析

分析了氟化镁单晶体与多晶体膜过程的行为，得到了二者不同的聚集方式是造成薄膜耐磨性差异的原因这一结论，给出了改善单晶氟化镁耐磨性的最佳退火条件：350℃退火2h.     

nNaF·AlF3-Al2O3-Sc2O3系电解质初晶温度数学模型的研究

通过对冰晶石—氧化铝—氧化钪系电解质进行五因子一次回归正交实验,求出了其初晶温度受Al2O3、AlF3、CaF2、MgF2、Sc2O3等5个因素影响的函数关系。研究表明,上述5个因素对电解质初晶温度的影响程度,由高到低依次为:Sc2O3、MgF2、Al2O3、AlF3、CaF2。每1%Sc2O3平均降低初晶温度8 219℃。因此Sc2O3的加入可以显著的降低电解温度,起到节能降耗的作用。     

阴极气膜微弧放电沉积ZrO2-Y2O3陶瓷涂层

采用阴极气膜微弧放电沉积制备ZrO2-Y2O3陶瓷涂层，利用水溶液中阴极气膜放电产生的等离子体的能量，使在阴极表面形成的沉积物直接烧结为陶瓷涂层。研究了沉积涂层的影响因素和涂层形貌及结构。SEM，EDS和XRD分析结果表明，获得的ZrO2-Y2O3陶瓷涂层表面光滑、与基体结合致密、成分和相结构均匀，是一种由Y2O3部分稳定的ZrO2陶瓷涂层。通过测试阴极气膜放电过程中电流随时间的变化以及电位在两电极间分布，分析了阴极气膜放电沉积陶瓷涂层的机制。     

Bonding of Aluminum Alloys in Compound Casting

Metallurgical and Materials Transactions A - The influence of the coating materials, coating thickness, and casting process on the interfacial microstructure and mechanical properties of the...     

Spark Plasma Sintering of Magnesium Fluoride Nanopowders

Powder Metallurgy and Metal Ceramics - The densification behavior of nanostructured MgF2 ceramics in the spark plasma sintering process is studied. Nitrate synthesis is employed to produce fine...     

带钢热镀锌镀层单位面积质量神经网络预测模型

 为了解决带钢连续热镀锌镀层单位面积质量偏差大、调节时间长、锌原料浪费等问题,利用生产过程历史数据建立了气刀压力预设定模型和镀层单位面积质量预测模型。根据带钢热镀锌生产实践,分析了镀层单位面积质量的影响因素和控制策略。收集系统稳态样本数据并进行多变量偏相关分析,证明镀层单位面积质量与气刀压力、气刀距离、带钢速度相关。根据样本数据,以镀层单位面积质量、气刀距离、带钢速度为输入变量,采用BP神经网络建立气刀压力预设定模型,预设定精度达到3 000 Pa。收集热镀锌过程时间序列样本数据,采用NARX动态神经网络建立镀层单位面积质量预测模型,预测精度达到6 g/m2,为实现带钢热镀锌镀层单位面积质量闭环控制奠定了基础。     

大气等离子喷涂工艺对纳米结构和传统Yb2SiO5 涂层微观结构的影响

纳米材料由于具有一些独特的效果而表现出了独特的性能，纳米结构稀土硅酸盐被认为是很有前景的环境 障碍涂层 ( EBC ) 材料之一。稀土硅酸盐材料中Yb2SiO5 因其卓越的高温相稳定性、对水蒸气环境的耐久性、低 热导率以及优秀的化学稳定性受到了研究者们的广泛关注。本文研究了大气等离子喷涂工艺 ( APS ) 参数对纳米 结构和传统Yb2SiO5 涂层微观结构的影响，并研究了相同大气等离子喷涂工艺下，纳米结构Yb2SiO5 喂料和传统 Yb2SiO5 喂料对涂层微观结构的影响，分析了APS 制备过程中不同结构喂料对涂层结构影响机制。结果表明：相 同喷涂参数制备的纳米结构Yb2SiO5 涂层孔隙率低于传统Yb2SiO5 涂层，以及纳米结构Yb2SiO5 涂层的铺展性和 融化度均优于传统Yb2SiO5 涂层，表明纳米结构Yb2SiO5 涂层为很有前途的环境障碍涂层之一。     

Coating of 6028 Aluminum Alloy Using Aluminum Piston Alloy and Al-Si Alloy-Based Nanocomposites Produced by the Addition of Al-Ti5-B1 to the Matrix Melt

The Al-12 pctSi alloy and aluminum-based composites reinforced with TiB₂ and Al₃Ti intermetallics exhibit good wear resistance, strength-to-weight ratio, and strength-to-cost ratio when compared to equivalent other commercial Al alloys, which make them good candidates as coating materials. In this study, structural AA 6028 alloy is used as the base material. Four different coating materials were used. The first one is Al-Si alloy that has Si content near eutectic composition. The second, third, and fourth ones are Al-6 pctSi-based reinforced with TiB₂ and Al₃Ti nano-particles produced by addition of Al-Ti5-B1 master alloy with different weight percentages (1, 2, and 3 pct). The coating treatment was carried out with the aid of GTAW process. The microstructures of the base and coated materials were investigated using optical microscope and scanning electron microscope equipped with EDX analyzer. Microhardness of the base material and the coated layer were evaluated using a microhardness tester. GTAW process results in almost sound coated layer on 6028 aluminum alloy with the used four coating materials. The coating materials of Al-12 pct Si alloy resulted in very fine dendritic Al-Si eutectic structure. The interface between the coated layer and the base metal was very clean. The coated layer was almost free from porosities or other defects. The coating materials of Al-6 pct Si-based mixed with Al-Ti5-B1 master alloy with different percentages (1, 2, and 3 pct), results in coated layer consisted of matrix of fine dendrite eutectic morphology structure inside α-Al grains. Many fine in situ TiAl₃ and TiB₂ intermetallics were precipitated almost at the grain boundary of α-Al grains. The amounts of these precipitates are increased by increasing the addition of Al-Ti5-B1 master alloy. The surface hardness of the 6028 aluminum alloy base metal was improved with the entire four used surface coating materials. The improvement reached to about 85 pct by the first type of coating material (Al-12 pctSi alloy), while it reached to 77, 83, and 89 pct by the coating materials of Al-6 pct Si-based mixed with Al-Ti5-B1 master alloy with different percentages 1, 2, and 3 pct, respectively.     

Synthesis and luminescence property of Sr3SiO5:Eu2+ phosphors for white LED

Sr3SiO5:Eu2+ yellow phosphors for white LEDs were synthesized by high temperature solid state reaction method under a reductive atmosphere. The crystalline phases were examined with X-ray diffraction (XRD). Luminescence properties were studied, and effects of various fluxing agents BaCl2, MgF2, CaF2 and BaF2 on the emission spectra were also studied. The optimal Eu2+ concentration and flux were determined. Sr3SiO5: Eu2+ was obtained by firing the sample on optimal composition and fabrication process. The sa...