国内三价铬电镀专利综述

六价铬电镀技术因对人和环境具有严重的危害而被越来越多的国家限制使用,三价铬电镀技术作为最有希望替代六价铬电镀的技术之一备受各国研究者关注。中国作为电镀大国,环保化是发展的必然趋势,三价铬电镀技术也成为国内科技工作者研究的热点。对我国三价铬电镀技术的专利申请情况进行检索,从镀液组成、阳极材料、镀层性能等方面对三价铬电镀技术现状和发展方向进行了综述分析。     

三价铬电镀

近几年来,我国三价铬电镀迅速发展,尤其在装饰性镀铬领域中有取代六价铬电镀的趋势. 三价铬电镀虽然发展势头良好,但生产中的经验却无人谈起,也很少见到报道.我们公司在三价铬电镀方面积累了一些经验.现介绍如下.     

取代重污染六价铬电镀的技术及应用

介绍了六价铬电镀及取代六价铬电镀特别是三价铬电镀的研究现状和有关的技术及政策。分析了六价铬电镀的危害及三价铬电镀的优点,以及三价铬电镀取代六价铬电镀带来的效益三价铬电镀不仅可明显减少电镀对环境的污染,节省大量的污染治理费用,而且还可提高电镀产品的质量。     

硫酸盐三价铬镀铬工艺的应用及维护

简要概括了三价铬电镀在我国的发展情况,论述了三价铬电镀工艺的优缺点,介绍了硫酸盐体系三价铬电镀工艺在实际生产中的应用,重点阐述了镀液组成的维护,工艺条件的控制,以及杂质的影响与处理.     

三价铬电镀

回顾了三价铬镀铬的历史。介绍了三价铬镀铬的主要优点与缺点。从几个方面综述了三价铬镀铬的研究进展,包括镀液稳定性、三价铬电镀厚铬及其它几种类型的三价铬镀铬、电镀非晶态铬、电极材料等。     

代铬(Ⅵ)镀层的研究现状

为了取代重污染的六价铬电镀,实现清洁生产,保护生态环境,人们开发了三价铬电镀工艺和代铬工艺。介绍了三价铬电镀和代铬电镀工艺及其性能特点,提出了三价铬电镀的研究方向。硬铬镀层以硬度高达800～1000HV成为最硬的镀层,复合镀层目前作为主要的代硬铬层,概述了其研究动态,同时分析了三价铬镀硬铬镀层厚度在电镀一定时间后镀层不再增厚的原因。     

三价铬电镀工艺研究现状及展望

电镀铬层的应用范围极为广泛,而常用的六价铬镀液中的Cr(Ⅵ)有毒且严重污染环境,研究环保型的三价铬电镀工艺以取代六价铬电镀工艺是近年来的研究热点。阐述了三价铬镀铬的特点,分析了当前三价铬镀铬体系存在的镀液稳定性差和在镀硬铬时镀层难以增厚的问题及其相应的解决办法,展望了三价铬镀铬的发展方向。     

公告

2007全国三价铬(电镀、钝化)技术研讨会报道2007年6月21日上午,来自全国各地的近百位专家、学者参加了由广东省电镀协会和广州市二轻工业科学技术研究所在广州湖滨宾馆主办的,以"三价铬装饰性镀铬"和"镀锌层三价铬钝化"的应用技术为主题的"2007全国三价铬(电镀、钝化)技术研讨会"。     

三价铬电镀阳极材料的应用与研究进展

六价铬镀液对环境污染严重,各国已立法限制其应用,所以三价铬电镀工艺将成为今后研究的重点.其中,阳极材料是三价铬电镀工艺体系的重要组成部分.着重介绍国内外三价铬电镀工艺阳极材料的应用与研究进展.     

镀铬工艺及其研究进展

镀铬工业在世界电镀行业中占据着举足轻重的地位,好的镀铬层具有很好的耐磨性和化学稳定性,可以长久裸露在空气中而保持颜色光泽不变。文章介绍了六价铬电镀和三价铬电镀工艺的优缺点以及一些代铬镀层的组成和特点;指出三价铬电镀工艺将会取代六价铬电镀工艺成为镀铬工艺的主体,应加大力度进行三价铬电镀工艺的研究。     

利用双氧水处理镀铬液中三价铬离子的研究

研究了利用双氧水处理镀铬溶液中Ｃｒ＾３＋的可行性,结果表明,在不通电的情况下,在镀铬液中加入双氧水,溶液中Ｃｒ＾３＋含量增加,而在通电的条件下加入双氧水,镀液中Ｃｒ＾３＋含量下降。分析了产生此种现象的原因,并研究了工艺条件对Ｃｒ＾３＋处理效果的影响。     

甲酸盐型三价铬电镀溶液稳定性研究

研究了Ｃｒ＾３＾＋在水溶液中的化学性质，从理论上计算不同ｐＨ值下，形成Ｃｒ（ＯＨ）沉淀的Ｃｒ＾３＾＋浓度及ＨＣＯＯ＾－在镀液中的粒子分布。镀液中的沉淀不只是Ｃｒ（ＯＨ３）而是含Ｃｒ＾３＾＋的混合物，镀液中的ＨＣＯＯ＾－对沉淀的形成加速作用，提出加入适当的辅助添加剂以提高镀液稳定性。     

硫酸盐三价铬电镀新体系的研究

研究了一种全硫酸体系的三价铬电镀工艺,并对该体系的镀液和镀层进行了性能测试。测试结果显示,该体系无需陈化镀液即可正常工作,所得镀层外观光泽明亮,光亮范围可从4A/dm2至25A/dm2以上;镀液的pH值容易控制,无需调整就能在最佳pH值范围内工作;直角阴极法测试所得覆盖能力可达90%;Tafel测试和NSS试验表明,三价铬镀铬层具有较好的耐蚀性,较六价铬镀层略差,需要进一步改善。     

铁氧体法去除废水中的镍、铬、锌、铜离子

采用铁氧体法处理含镍、铬、锌、铜的废水,研究了pH及硫酸亚铁投加量对重金属离子去除效果的影响.对于镍、锌、铜离子,最佳絮凝pH分别为8.00～9.80、8.00～10.50和10.00,投加的亚铁离子与其摩尔比均为2～8;六价铬的最佳还原pH为4.00～5.50,最佳絮凝pH则为8.00～10.50,最佳投料比为20....     

纳米Cr3C2颗粒在Co-Ni复合镀液中的分散稳定性研究

采用超声破碎法制备了含纳米Cr3C2颗粒的钴镍镀液,研究了未加分散剂,以非离子型高分子分散剂改性和以阴离子分散剂改性三种情况下的镀液性能。通过激光粒度仪、镀层中颗粒复合量等测试方法对纳米Cr3C2颗粒钴镍镀液的稳定性进行了表征。结果表明,含纳米Cr3C2颗粒钴镍镀液通过阿拉伯树胶高分子型分散剂改性后,镀液的稳定性最佳,当阿拉伯树胶添加量为0.3 g/L,超声时间为0.5 h时,所得纳米Cr3C2颗粒钴镍镀液的稳定性最好。     

化学复合镀Ni-P-Cr_2O_3工艺及镀层性能的研究

研究了Ni P Cr2 O3 化学复合镀工艺 ,以及热处理对镀层硬度、耐磨性的影响 ,并与Ni P镀层作了对比。结果表明 ,通过制定合理的镀制工艺和控制镀液中Cr2 O3 固体颗粒的添加量 ,可提高镀速 ,获得Cr2 O3 颗粒含量适宜的复合镀层。另外 ,采用正确的热处理工艺 ,可使镀层的硬度、耐磨性显著改善     

镀镍槽中Cr6+杂质的处理

镀液中Cr^6 杂质会造成镀镍层减薄、镀层脆性增加，采用还原剂处理法和碳酸铅沉淀法去除Cr^6 杂质，并介绍一种商品“镀镍去铬水”。     

Electrochemical nucleation and growth of copper on chromium-plated electrodes

Nucleation and growth of copper electrodeposited on chromium plated electrodes in copper sulfate electrolytes were examined, focusing on the influence of prior Cr plating conditions on the nucleation density and growth kinetics of the copper electrodeposits. The Cr-plated electrodes were made by electrodeposition of Cr on copper sheets for 2 to 60 s at 0.1 A cm^–2 in CrO₃ 350 g L^–1 + H₂SO₄ 3.5 g L^–1. Copper was then electrodeposited onto the Cr-plated electrode under potentiostatic conditions. Copper initially nucleated and grew according to a three-dimensional diffusion controlled progressive nucleation process, and later according to an instantaneous nucleation process. The period during which copper nucleation is controlled by the diffusion controlled progressive nucleation process decreases with increasing Cr plating time. The nucleation density of copper was extremely high on the 2 s Cr-plated electrode, producing an extremely fine and uniform electrodeposit. However, on the 4 s Cr-plated electrode, the nucleation density of copper significantly reduced to one hundredth of that on the 2 s Cr-plated electrode, and then decreased slightly with increasing Cr plating time (thickness of Cr layer). These results appear to be associated with the IR drop across the Cr layer, including the surface Cr oxide/hydroxide film (termed the cathode film), which significantly reduces the driving force for the electrodeposition of copper under potentiostatic plating conditions.     

镀铬阳极选用

简要分析了阳极材料及阳极面积对镀铬溶液及镀层性能的影响。设计出一种简单实用的、符合镀铬工艺特殊要求的窗格式镀铬阳极。介绍了这种阳极的优点及El常维护。     

ABS塑料三价黑铬电镀工艺与故障处理

介绍了ABS塑料电镀三价黑铬的工艺流程,主要包括除油,亲水,粗化,中和,预浸,催化,加速,化学镀镍,活化,镀铜,微蚀,镀光亮镍,镀三价黑铬,钝化和烘干.给出了三价黑铬镀液的配方,阐述了各组分的作用及工艺奈件对镀层的影响,介绍了常见故障的处理方法.