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用高锰酸钾和硫酸锰在酸性条件下合成的八面体锰分子筛载体(OMS-2)为载体,采用沉积沉淀、浸渍还原、原位合成三种方法制备了OMS-2负载的纳米金催化剂,并进行了X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)表征。以分子氧为氧化剂,考察了不同反应条件下纳米金催化剂在无溶剂体系中环己烯液相氧化的催化性能。结果表明,沉积沉淀法制备的纳米金催化剂显示出较佳的催化活性,该催化剂在80℃、0.5 MPa、24 h反应条件下,环己烯氧化转化率为39.9%,环己烯醇和环己烯酮的选择性分别为35.5%和51.9%。 相似文献
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锆改性氧化铝负载的纳米金催化剂上环己烷氧化研究 总被引:6,自引:0,他引:6
通过浸溃法制备氧化锫改性的氧化铝载体,并采用改进的阴离子交换法(DAE)制备了负载型纳米金催化剂.以分子氧为氧化剂,考察了金催化剂在环己烷选择性氧化制环己酮和环己醇反应中的催化性能.结果表明,提高锆含量,环己烷转化率保持稳定,环己酮和环己醇总选择性,尤其是环己酮的选择性明显提高.随着金负载量增加,金颗粒增大,催化剂的活性降低,金颗粒在6nm以下的催化剂具有很高的催化活性.在423K,1.5MPa、3h反应条件下,0.6%(wt) 金和17%(wt)锆含量的催化剂上环己烷氧化得到9,5%的转化率,环己酮和环己醇的选择性分别为38.8%和51.5%. 相似文献
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采用溶胶固定法制备了一系列的Au/C纳米催化剂,进行了透射电镜(TEM)表征,用于常压下以氧气为氧化剂碱性溶液中葡萄糖氧化制备葡萄糖酸钠,并对最佳的催化剂进行了反应条件影响考察。结果显示,使用溶胶固定法制备的质量分数为1%的Au/C催化效果最佳,纳米金颗粒直径小于2 nm且分布均匀,其较佳反应条件为50℃,pH 9.5,氧气流量40 mL/min,催化剂0.22 g,水溶液中质量分数为7.5%的葡萄糖,葡萄糖在1 h内,选择性及转化率均可同时达到100%,反应的转化频率(Turnover Frequency,TOF)高达1 560 h-1。上述研究表明溶胶固定法能制备一定纳米金颗粒大小的Au/C催化剂,且在该多相催化剂上反应时间短,活性高,选择性高。 相似文献
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封闭王水溶解联合ICP-MS法测定地质样品中痕量金 总被引:1,自引:0,他引:1
探讨了采用封闭王水溶解联合电感耦合等离子体质谱法测定地质样品中痕量金的方法。经实验验证,本方法不仅能显著提高金的溶出度,而且操作简便、快速、结果可靠。尤其适用于地质样品中痕量金含量的测定。 相似文献
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金超微粒子催化剂的新进展 总被引:3,自引:0,他引:3
金超微粒子催化剂有许多独特的性能而受到人们的广泛关注,世界各国都在进行开发研究。介绍了金超微粒子催化剂的制备方法、特性及应用实例,指出了当前研究的主要方向。 相似文献
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金精矿焙烧过程中产生的含金粉尘是一种有价值的二次金资源.在矿物学分析的基础上,研究了不同预处理方法对含金粉尘氰化脱除有害元素和提金的影响.结果表明,该粉尘属于难处理金矿石,砷、碳、铁对提金的不利影响是导致提金率低的主要原因.当NaOH浓度为6 moL/L时,对砷和碳的去除率分别为99.7%和60.6%;金浸提率为58.... 相似文献
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化学镀金 总被引:3,自引:0,他引:3
印制板化学镀金时,导线铜箔周边的绝缘基体上往往会析出金,容易发生镀金层溢出现象,这种现象一般是由于镀液中的微细金粒附着在绝缘基体上,通过金粒的自身催化作用,在绝缘基体上引起金的析出。这种镀金层溢出现象往往是引起高密度印制板电气短路的主要原因之一。为了克服镀金层的溢出,曾经采用添加聚乙二醇等非离子型表面活性剂的还原型化学镀金液,非离子型表面活性剂特异的吸附在非线性扩散产生的微细金粒子表面上,阻止镀层的溢出成长。然而当非离子型表面活性剂因消耗而浓度降低时,就会丧失 阻止金镀层溢出的效果。如果镀液中的非离子型表面活性剂浓度过高,就会吸附在导体表面上,进而抑制化学镀金反应。鉴于上述状况,随着印制板高密度化的发展,化学镀金层质量对于高密度印制板的质量至关重要。本文就抑制镀金层溢出,且可获得均镀性优良的印制板化学镀金液及其工艺加以叙述。 相似文献
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纳米金修饰电极的电化学研究 总被引:1,自引:0,他引:1
将由柠檬酸三钠与氯金酸制备的纳米金颗粒利用自组装方法修饰于金电极表面形成纳米金修饰电极,运用N5粒度测定仪、透射电子显微镜(TEM)和原子力显微镜(AFM)对纳米颗粒及其修饰电极进行了表征。利用循环伏安法(CV)与交流阻抗法(EIS)研究了纳米金修饰电极的电化学性质。 相似文献
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概述了以镍-磷合金、镍-磷-钴合金、镍-磷-硼合金和镍-磷-硼-钴合金为中间镀层以金或者金合金镀层为表面镀层,可以获得非常良好的耐热性、耐蚀性、可焊性和稳定的低接触电阻特性,适用于电子部件的精饰。 相似文献
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无氰镀金 总被引:2,自引:0,他引:2
1 前言镀金层不但早已应用于装饰件和餐具制品等 ,而近年来正广泛应用于要求优良电性能的电子工业中。以前的镀金液几乎都含有毒的KAu(CN) 2 ,不但有操作安全和废水处理等问题 ,而且还会侵蚀电子零件的抗蚀层等问题。迫切要求不含氰化物的无氰镀金液 ,以往以Na3Au(SO3) 2 为Au3+ 盐的无氰镀金液应用较多 ,然而这种镀金液存在的问题有 :(1)镀液中的SO2 -3 不稳定 ,通过阳极上产生的O2或者空气中的O2 的氧化作用而降低SO2 -3 浓度 ,引起镀液的分解 ;(2 )镀金层的物理性质不稳定 ,由于镀层中共析了硫 ,镀层结晶较粗大 ,难… 相似文献
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