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采用流化床的方法,生产出了氯硅烷(三氯氢硅和四氯化硅的混合物).氯硅烷是制备多晶硅的重要原料,其中合成氯硅烷中B、P杂质含量是影响多晶硅质量的重要因素,严重影响多晶硅的质量指标.通过采用icp-ms对合成物料中B、P杂质含量的测试.结果表明,当合成氯硅烷通过吸附装置后,B、P杂质含量能得到大范围的下降,并且在通过吸附柱的氯硅烷流量在1.2m |/h、压力为0.35MPa时B、P杂质含量趋于稳定. 相似文献
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采用流化床的方法,生产出了氯硅烷(三氯氢硅和四氯化硅的混合物)。氯硅烷是制备多晶硅的重要原料,其中合成氯硅烷中B、P杂质含量是影响多晶硅质量的重要因素,严重影响多晶硅的质量指标。通过采用icp-ms对合成物料中B、P杂质含量的测试。结果表明,当合成氯硅烷通过吸附装置后,B、P杂质含量能得到大范围的下降,并且在通过吸附柱的氯硅烷流量在1.2m3/h、压力为0.35MPa时B、P杂质含量趋于稳定。 相似文献
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针对改良西门子法多晶硅生产过程中碳含量过高导致产品质量下降的问题,以多晶硅还原小试炉为反应装置,通过控制进入小试炉内三氯氢硅中含碳有机物的含量和氢气中的甲烷含量,考察原料组分及组成对产品质量的影响。采用傅里叶红外光谱仪、气质联用色谱和气相色谱对产品和氯硅烷中的含碳量进行检测。结果表明,进入小试炉内氢气中的CH4含量对产品碳含量影响较大,氯硅烷中有机碳含量影响较低,且基本保持在同一水平。通过对实验数据的分析,在实际生产中,对原有工艺进行改进,增加一套除甲烷装置,使进入还原炉内氢气中甲烷的含量保持在5.0×10-5左右。 相似文献
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电子级多晶硅生产中氯硅烷精馏工艺的设计和优化 总被引:1,自引:0,他引:1
比较目前多晶硅生产中氯硅烷精馏的国内传统工艺和引进国外工艺;通过研究和借鉴,结合专家意见并进行模拟计算,设计和优化氯硅烷精馏工艺;简化流程,降低能耗,减少精制三氯氢硅中的杂质,从而提高多晶硅产品的品质。 相似文献
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对直接法合成甲基氯硅烷生产工艺复杂性的认识与建议 总被引:3,自引:1,他引:3
介绍了甲基氯硅烷在中国的生产和需求情况、中国甲基氯硅烷的生产技术水平与国外的差距;指出应重视直接法合成甲基硅烷工艺的复杂性,如流化床的结构、催化剂的协同作用以及原料硅中的杂质对合成工艺的影响等,以及解决这些关键问题对中国有机硅工业的迫切性;最后建议要重视合成工艺的基础性研究以提高二甲基二氯硅烷的选择性,重视高沸物的综合利用以降低生产成本。 相似文献
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分析了目前多晶硅生产中氯硅烷精馏的工艺;通过研究和借鉴,经过反复的实验分析、设计优化了氯硅烷精馏工艺,简化了流程,在提高三氯氢硅产品质量的同时,对废气废液充分回收,达到节能减排、降低成本的目的。 相似文献
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介绍了20种氯碱下游产品——氯甲苯、氯乙酸、环氧氯丙烷、氯化苄、环氧丙烷、聚偏氯乙烯树脂、氯化聚氯乙烯树脂、氯化聚乙烯、甲基氯硅烷、三氯氢硅、氯化法钛白粉、三氯化磷、4,4‘-二苯基甲烷二异氰酸酯、1,4-丁二醇、苯胺、环己酮、气相法白炭黑、甲基异丁基酮、对氨基苯酚、水合肼的市场前景、技术来源与建设投资。 相似文献
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氯碱下游产品建设投资分析(续2) 总被引:2,自引:1,他引:1
介绍了20种氯碱下游产品--氯甲苯、氯乙酸、环氧氯丙烷、氯化苄、环氧丙烷、聚偏氯乙烯树脂、氯化聚氯乙烯树脂、氯化聚乙烯、甲基氯硅烷、三氯氢硅、氯化法钛白粉、三氯化磷、4,4'-二苯基甲烷二异氰酸酯、1,4-丁二醇、苯胺、环己酮、气相法白炭黑、甲基异丁基酮、对氨基苯酚、水合肼的市场前景、技术来源与建设投资. 相似文献
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介绍了20种氯碱下游产品——氯甲苯、氯乙酸、环氧氯丙烷、氯化苄、环氧丙烷、聚偏氯乙烯树脂、氯化聚氯乙烯树脂、氯化聚乙烯、甲基氯硅烷、三氯氢硅、氯化法钛白粉、三氯化磷、4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、1,4-丁二醇、苯胺、环己酮、气相法白炭黑、甲基异丁基酮、对氨基苯酚、水合肼的市场前景、技术来源与建设投资。 相似文献
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氯碱下游产品建设投资分析(待续) 总被引:1,自引:1,他引:0
介绍了20种氯碱下游产品--氯甲苯、氯乙酸、环氧氯丙烷、氯化苄、环氧丙烷、聚偏氯乙烯树脂、氯化聚氯乙烯树脂、氯化聚乙烯、甲基氯硅烷、三氯氢硅、氯化法钛白粉、三氯化磷、4,4'-二苯基甲烷二异氰酸酯、1,4-丁二醇、苯胺、环己酮、气相法白炭黑、甲基异丁基酮、对氨基苯酚、水合肼的市场前景、技术来源与建设投资. 相似文献
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以三氯氢硅和氯气为原料,采用连续流微通道反应器,利用光氯化反应选择性脱除三氯氢硅中的甲基二氯硅烷,考察了各因素对甲基二氯硅烷去除率的影响。结果表明,光氯化反应的最优条件为:n(Cl_2)∶n(CH_4Cl_2Si)=5∶1,反应温度50℃,紫外光波长为365 nm,光强为15 W,反应时间为20 s。在最优条件下,产品中甲基二氯硅烷含量小于5×10~(–8) g/g,去除率达到99.67%;反应产物中出现少量四氯化硅,是聚氯硅烷和三氯氢硅发生氯化反应生成的。以最优条件制备的三氯氢硅为原料,使用评价炉制备的多晶硅中碳原子浓度小于3×10~(15) atoms/cm~3,达到电子一级品指标。 相似文献