CMOS光刻市场发展及应用

随着电子产业的技术进步和发展，光割技术及其应用已经远远超出了传统意义上的范畴，CMOS光刻市场几乎包括和覆盖了所有微细图形的传递、微细图形的加工和微细图形的形成过程。因此，未来光刻。技术的发展也是多元化的，应用领域的不同会有所不同。     

光刻伺服盘安装精度的理论分析与实践

从光刻伺服盘的制作工艺过程和光刻伺服图形道位置信息的特征入手，分析了引起光刻伺服盘安装偏心的原因以及偏心对磁头伺服定位的影响，并提出了提高安装精度和减小偏心的有效途径。     

一种旨在提高磁盘驱动器道密度的光记录系统结构

在磁盘驱动器中借助光伺服技术可以大幅度提高道密度我们的方法是；采用光刻工艺，在磁盘上记录高精度有磁，无磁伺服图形，通过磁头读取伺服信息。本文设计了用于刻写伺服图形的光记录系统。该系统可以完成６３５０ＴＰＩ磁盘的刻录。     

对象模型在集成电路掩膜光学临近矫正中的应用

随着超大规模集成电路的发展，其特征尺寸已经接近或小于掩膜光刻工艺中所使用的光波长。由于光的衍射和干涉现象，实际得到的光刻图形与掩膜图形之间存在一定的误差。为尽量消除这种误差，常用的两种方法是OPC和PSM。提出一种基于对象模型的OPC方法以及由此而开发的可实际应用的工具软件OPCM。该方法也为基于规则的OPC提供了产生基本规则的引擎，并由此而提高了软件的实用性。     

等离子体腐铝技术在集成电路制造中的应用

随着 MOS 大规模、超大超模集成电路的发展,必然地要提出图形加工微细化的任务。在光致抗蚀剂中产生细条纹的图形多年来就是积极研究和发展的领域。目前在光学、电子束和 X 一射线光刻技术方面已取得了巨大进展。当着光刻技术要求图形的线宽变得越来越小的时候,要把抗蚀剂上的图形精确地转移到下面的电路材料上,就变得越     

电子束绘图技术及在器件上的应用

近年来,大规模集成电路的集成度不断提高。图形日益转细,批量生产所用的图形的最小尺寸为5～6M,实验室中已精细到2μm 左右,这已经达到光刻技术所能做到的极限、作为突破这一极限的最新手段,电子束曝光技术受到人们的注意,各研究部门投入了大量的精力进行了研     

平面有限元网格生成的线段转换法

用一种将矢量型四边形转换成有限单元的方法，可以将由ＣＡＤ软件绘制的，用线段圆弧表示矢量型图形转换成平面有限单元数据。适用于对单元拓扑结构或节点位置有特殊要求的有限元分析问题，具有处理三角形和四边形混合单元的能力。     

有限元网格图形处理技术及计算结果的可视化

针对有限元分析中图形处理和计算结果的可视化问题，提出三维有限元网格图形的快速形成以及高效消隐方法．基于这种思路，将所有有限元后处理图形在单元面上实现，有效地避免了烦琐的后处理图形的形成和消隐问题；并提出了形成和绘制诸如空间等值线、矢量图形、位移示意图以及塑性区分布图形等复杂的空间的后处理图形的方法；给出了程序的算法流程和应用实例。     

微细线条加工中光刻精度的保证

论述了光刻在集成电路生产中的重要性，讨论了各种行之有效的光刻精度的保证方法，并分析了进一步光刻精度的方法。     

融入动态图形和视觉感知的平面设计系统研究

为了满足人们对平面设计个性的需求,提出融入动态图形和视觉感知的平面设计系统.该系统根据系统需求,硬件包含DSP选型单元、CPLD选型单元、串口扩展芯片选型单元与ARINC429接口芯片选型,软件模块包含动态图形信息编码模块、动态图形视觉语言表达方式选取模块与信息视觉传播加工模块,通过硬件和软件融合实现了融入动态图形和视...     

磁盘光刻伺服技术

随着磁盘驱动器的发展，产生了一种提高道密度的新技术，我们称之为光刻伺服技术。综述了光刻伺服技术的发展过程，并对光磁软盘的光刻伺服技术、Ｈｉｔａｃｈｉ公司１７ｋＴ／Ｉｎ硬盘样机的光刻伺服技术进行了较为详细的分析和描述，指出光刻伺服技术已成为提高磁盘驱动器道密度最关键的技术之一，并具有良好的发展前景。     

图形加速器中几何变换的设计与实现*

几何变换（包含旋转,平移,缩放）单元是图形加速器中唯一表现图形动画的基本单元,其性能对于整个图形加速器起着至关重要的作用。本文针对图形加速器中几何变换的特性,提出其软件设计模型,并采用并行流水线的结构,用硬件设计与实现了图形加速器中的几何变换单元,提高了图形加速器的运行速度。最后将电路下载到FPGA开发板进行了验证。实验结果表明,本文设计的几何变换电路可以实现其功能,且其并行设计在大规模数据处理过程中更能体现出其良好的性能。     

光刻伺服录写设备中主轴电机的高稳定性控制

在我们研制的光刻伺服码录写设备中,主轴伺服系统是它的重要部分,其运行的平稳性直接影响了盘片伺服图形的预刻精度。介绍了采用多闭环反馈的电机控制电路,保证了电机运行的高稳定性要求。     

VGA卡图形模式13绘图程序开发

ＶＧＡ卡图形模式１３绘图程序开发许剑飞武汉华中理工大学土木系（４３００７４）１引言Ｂｏｒｌａｎｄ公司主要产品Ｔｕｒｂｏｐａｔｅａｌ与Ｔｕｒｂｏｃ以其编程方便、图形功能强、易于模块化等诸多优点而广为流行。但其ＧＲＡＰＨ单元（图形单元）中缺少对ＶＧＡ图形...     

超大规模集成电路制造工艺中的光刻及掩模技术

本文着重介绍了超大规模集成电路生产工艺中的关键工艺掩模及光刻技术的国际国内概况，比较详细地叙述了1：1投影光刻技术和1：1与5：1Stepper掩模及光刻技术，并且介绍了为使光刻质量的提高，采用掩模保护膜技术的原理，对我国集成电路制造工艺的提高具有一定的参考作用。     

你参加微软体验改进计划了吗？

针对现在有主流图形处理器市场，nVidia计划在近期发布两款新的Geforce 6图形处理单元（GPJ)．     

一种高性能彩色工业监视器的设计

介绍一种高性能彩色工业监视器的设计方法，重点叙述了系统构成及图形、字符单元的工作原理。     

用于光刻模拟的快速计算稀疏空间点光强的方法

使用光刻仿真工具模拟掩模图形到硅圆片的转移成像结果,可以分析集成电路在工艺规则下产品的可靠性和部分电学特性．基于Gabor的“主波分解”方法,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的叠加来近似,再对空间图像进行高斯卷积来模拟光刻胶的实际扩散效应,从而获得一种精确、快速用于光刻模拟的稀疏空间点光强计算方法．根据光学系统的传输交叉系数的特性,提出和探讨了两种矩阵分解的方法．     

在活动中建构，在体验中升华——《锐角与钝角》教学片断及反思

背景与导读 《数学课程标准》对《空间与图形》的教学作了比较具体的要求，“经历探究物体与图形的形状、大小、位置关系和变换的过程，掌握空间与图形的基础知识和基本技能，并能解决简单的问题”。《锐角和钝角》是新课标人教版二年级下册第三单元的第一课时的教学内容。     

热场发射电子枪在电子束光刻机中的应用研究

介绍了电子枪的分类与特点,重点介绍了热场发射电子枪的原理、结构、特点及在电子束光刻机中的应用。阐述了电子束光刻机束流与电子枪提取极电流之间关系,并分析了热场发射电子枪各个参数对提取极电流的影响。研究了热场发射电子枪的调校对电子束光刻工艺的影响,并通过实验得出束斑与束流的关系。最后通过调整电子枪参数,制备了不同的光刻图形,满足了不同的光刻工艺要求,验证了分析的结论。