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利用浸蚀多孔铝模板,涂覆TiO2溶胶和纳米粉组成的料浆,制得TiO2亲水性阵列薄膜。通过对此薄膜SEM及表面接触角分析,研究了聚乙二醇改性、存放时间、SiO2的添加等对其亲水性的影响。结果表明:浸蚀多孔铝模板制备的TiO2薄膜无需紫外光激发即表现出良好的亲水性,5s内可达到完全铺展;料浆中添加0.02~0.04g/mL聚乙二醇能一定程度上提高薄膜材料亲水性并减缓其亲水性的降低;添加纳米SiO2制备的TiO2/SiO2复合薄膜亲水性优于纯TiO2薄膜,经聚乙二醇改性后为超亲水性,超亲水性能在黑暗中维持5天。 相似文献
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采用射频磁控溅射方法以石英玻璃为衬底分别沉积制备出了Ge/SiO2和Ge/ZnO/SiO2薄膜。X射线衍射表明薄膜展示了明显的ZnO衍射峰和较弱的Ge衍射峰;傅里叶变换红外光谱曲线证明薄膜均具有各自的特征吸收峰;扫描电镜结果显示薄膜为颗粒状团簇结构,并且加入ZnO中间层可以有效的改善Ge层的质量。同时,对所得薄膜材料的电流-电压性能进行了研究,结果发现,Ge/SiO2薄膜的I-V曲线拟合后为斜线,相当于电阻;ZnO/SiO2薄膜为直线,可以认为是绝缘体;Ge/ZnO/SiO2薄膜在-10~10V之间电流电压呈线性关系,其电阻比Ge/SiO2薄膜小,当电压值超过15V之后,电流急剧增加而迅速使薄膜击穿,薄膜导通。 相似文献
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采用溶胶凝胶法,在FTO(SnO2:F)低辐射镀膜玻璃衬底上制备了柱状晶体结构的TiO2薄膜,获得双层结构FTO/TiO2镀膜玻璃样品.研究了TiO2薄膜厚度对FTO/TiO2镀膜玻璃样品的光催化活性、低辐射性能以及透光性能的影响.结果表明,FTO/TiO2镀膜玻璃样品光催化活性随着TiO2薄膜厚度的增加先升高后下降,在TiO2薄膜厚度为300 nm时光催化活性最佳;低辐射性能随着TiO2薄膜厚度的增加而下降,但TiO2薄膜厚度为300 nm时仍然具备一定的低辐射性能;透光性能与TiO2薄膜膜厚的关系不大,可见光透射比保持在72%左右;表面平均粗糙度约为1 nm,表面光滑,不易沾染油污灰尘.该镀膜玻璃在保证低辐射建筑节能和透光的前提下,兼具光催化自清洁功能,具有很好的应用前景. 相似文献
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先用湿氧化法在单晶硅表面生长了非晶态SiO2薄膜,再用不同能量的C离子对薄膜进行注入,然后用荧光光谱分析了注入参数(注入能量、剂量)与发光特性改变的关联。研究发现,C离子注入能显著影响薄膜的发光特性,并且薄膜发光特性的改变强烈依赖于C离子的注入能量和注入剂量。对C离子注入SiO2薄膜引起发光特性改变的可能机理进行了简单讨论。 相似文献
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采用离子辅助蒸发的方法,以不同配比的Ta2O5和TiO2混合物为初始膜料在K9玻璃上制备了TiO2-Ta2O5混合薄膜,并对其透射性能和光学常数进行研究。实验结果表明,薄膜在可见光范围内的平均透射率在82%以上,并随着Ta2O5含量的增加而增加;薄膜的折射率在1.80~2.07范围内变化(550nm)。对同-Ta2O5含量的薄膜来说,退火后TiO2薄膜和80TiO2—20Ta2O5薄膜的折射率较退火前提高,而90TiO2-10Ta2O5薄膜的折射率较退火前降低。 相似文献
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中频交流反应溅射TiO2薄膜的制备及性能研究 总被引:2,自引:0,他引:2
《真空科学与技术学报》2001,21(6):457-460
利用中频交流磁控溅射设备用金属Ti靶制备出了TiO2薄膜.用椭偏仪测试了TiO2薄膜的厚度和折射率,用俄歇电子能谱、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和紫外及可见光分光光度计分别测试了TiO2薄膜的表面成分、表面形貌、晶体结构及其紫外及可见光透射谱,并初步探讨了工艺因素对薄膜性质的影响.实验结果表明所制备的氧化钛薄膜O/Ti比符合化学计量比,而且O/Ti比随O2流量的变化不大;TiO2薄膜结构主要为锐钛矿型;薄膜表面致密;TiO2薄膜光学性能较好,透射比较高;但O2流量较低时透射比明显下降. 相似文献
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以十八胺为模板剂,采用溶胶-凝胶法在玻璃基体上制备了多孔TiO2薄膜,研究了热处理工艺对薄膜理化性质及光催化性能的影响。随煅烧温度和煅烧时间的增加,TiO2薄膜表面逐渐形成清晰的孔结构,晶粒尺寸增大。薄膜由锐钛矿型TiO2组成,Ti以Ti 4+的形式存在。制备的TiO2薄膜厚度在200nm左右,薄膜的UV-Vis透射率随煅烧温度的升高呈下降趋势,随煅烧时间的延长先下降而后又上升。多孔TiO2薄膜光催化降解甲基橙结果表明,随煅烧温度升高薄膜的光催化活性增加,在500℃煅烧2h制备的薄膜具有最佳的光催化活性。 相似文献
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医用NiTi合金表面溶胶-凝胶法制备TiO2-SiO2薄膜 总被引:4,自引:0,他引:4
采用溶胶-凝胶法在NiTi形状记忆合金表面制备了TiO2-SiO2复合薄膜,在提高医用NiTi合金的抗腐蚀性方面,收到了显著的效果.运用电化学方法对不同组成的TiO2-SiO2薄膜在模拟体液中的腐蚀行为进行了研究,结果表明,随薄膜中 Ti/Si比的增加,TiO2-SiO2薄膜的抗腐蚀性增强.划痕试验表明 TiO2-SiO2(Ti/Si=4:1)膜与NiTi合金基体具有较高的界面结合强度.用原子力显微镜(AFM)对TiO2-SiO2薄膜的表面形貌及表面粗糙度进行观察和分析,解释并讨论了TiO2-SiO2薄膜的配方组成与其抗腐蚀性的关系,SiO2含量较少时,薄膜结构致密,膜层均匀平滑,且膜基结合力好,作为医用NiTi合金的表面保护层,可以使其耐腐蚀性有显著提高. 相似文献
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Silicon and fused-silica targets are used as the starting materials for depositing silicon oxide (SiO2) films. The SiO2 films are prepared by a dual ion beam sputtering deposition system with a main ion source and an ion-assisted source with different working gases. The films deposited are then examined and compared by using a visible spectrophotometer, a Fourier-transform IR spectrophotometer, an atomic force microscope, and contact angle instruments. A Twyman-Green interferometer is employed to study the film stress by phase-shift interferometry. All the SiO2 films show excellent optical properties with extra-low extinction coefficients (below 2x10(-5)) and have no water absorption. When the working gas is O2 for the ion-assisted source, the deposited SiO2 films show good properties in terms of stress and roughness and with a good molecular bonding structure order for both targets. However, SiO2 films deposited from the fused-silica target had a larger contact angle, while those deposited from the silicon target had 2.5 times the deposition rate. 相似文献
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二氧化钛-二氧化硅复合材举制备研究及应用 总被引:2,自引:0,他引:2
对TiO2-SiO2复合材料的的制备方法进行了综述,同时讨论了在化妆品、涂料、食品抗菌、光催化、亲水薄膜等方面的应用,总结了针对不同的使用目的进行的TiO2包覆SiO2、TiO2包覆SiO2、TiO2与SiO2相互交联反应,并对其机理和应用进行了简单的介绍。 相似文献
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医用金属表面溶胶-凝胶法和离子束合成TiO2薄膜的结构、性能比较 总被引:4,自引:0,他引:4
采用溶胶-凝胶法和离子束增强沉积法在医用NiTi合金表面制备TiO2薄膜以提高其生物相容性。利用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和X光电子能谱(XPS)对薄膜的结构、表面形貌及组成进行了比较研究;电化学腐蚀实验表明,两种方法制备的TiO2薄膜对金属基体均起到一种保护膜的作用,能够提高医用金属材料在模拟体液中的抗腐蚀性;对薄膜表面固定肝素抗凝血分子进行研究发现,溶胶-凝胶法制备的TiO2薄膜表面能够获得较好的肝素固定效果。 相似文献
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TiO2/SiO2薄膜中的相界扩散及晶化行为研究 总被引:10,自引:2,他引:8
本文研究了溶胶一凝胶法制备TiO2/SiO2复合薄膜的晶化行为以及复合薄膜与过渡层的相界扩散采用X-ray衍射分析了50TiO2/50SiO2薄膜中TiO2的析晶特征,研究表明,随热处理温度的升高,薄膜的结构由非晶转变为在SiO2玻璃网络中析出的锐钛矿相,再到锐钛矿和金红石二相共存,最后转变为金红石相,并伴随有磷石英和方石英的析出,且其晶粒尺寸也在逐渐增大.AES分析给出了过渡层的气孔率对复合膜中Ti的扩散能力的影响以及复合膜与过渡层之间碳的分布.SEM及EDS进一步揭示了薄膜表面存在亚微米不均匀区域,在此区域中碳的含量较高.在氧气中,提高热处理温度,可以降低碳的含量. 相似文献