铼及铼合金的应用现状及制造技术

比较详细地介绍了铼在石油化工、航空航天、冶金工业和电子工业等领域的应用.对铼制品的主要制备方法如电化学沉积法,粉末冶金法,电子束-物理气相沉积法和化学气相沉积法作了系统地总结和分析.     

现代刀具涂层制备技术的研究现状

刀具涂层是一种机床工具行业的重要材料,其性能直接影响数控机床的机械加工精度.概述了刀具涂层材料的特点、要求及涂层制备技术的发展,分析了化学气相沉积法、物理气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法及溶胶-凝胶法等几种涂层制备方法的优缺点.结合国内外刀具涂层的研究现状及发展趋势,指出在大力发展化学气相沉积涂层和物理气相沉积涂层技术的同时,开发两者相结合的新型工艺,推动国内刀具涂层技术的快速发展.     

The Effect of Sintering on the Properties of Ultrafine

研究了一种化学气相沉积(CVD)制备超细铼粉的新方法,即以NH4ReO7为原料,通过将其分解为Re2O7后气相输运至还原区,经氢气还原生成超细铼粉。对不同还原温度下制备的超细铼粉样品,采用XRD、SEM、激光粒度分析进行表征,实验揭示了烧结作用对晶粒尺寸、形貌、表面状态及粒度等粉末性能的影响规律。结果表明,随还原温度升高,烧结作用增强,制备的超细铼粉晶粒尺寸增大,具有更好的球形度,表面趋于光洁,平均粒径增大。     

化学气相沉积法制备难熔金属的研究现状与前景

难熔金属材料以其熔点高、高温性能好和耐腐蚀性优异等特点被广泛应用于航空航天、化学化工和国防军工等领域。化学气相沉积法是目前获得高纯致密、尺寸精确的难熔金属制品的最佳手段。本文介绍了钨、钼、钽、铌和铼五种难熔金属元素的应用领域,综述了采用不同的化学气相沉积法制备难熔金属及其合金的工艺、制品性能和具体用途,总结了金属源先驱体类型对化学气相沉积工艺的影响,分析展望了化学气相沉积法在制备难熔金属上的应用前景。     

烧结作用对CVD法超细铼粉性能的影响

研究了一种化学气相沉积(CVD)制备超细铼粉的新方法,即以NH4ReO7为原料,通过将其分解为Re2O7后气相输运至还原区,经氢气还原生成超细铼粉.对不同还原温度下制备的超细铼粉样品,采用XRD、SEM、激光粒度分析进行表征,实验揭示了烧结作用对晶粒尺寸、形貌、表面状态及粒度等粉末性能的影响规律.结果表明,随还原温度升高,烧结作用增强,制备的超细铼粉晶粒尺寸增大,具有更好的球形度,表面趋于光洁,平均粒径增大.     

TiN薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展

综述了TiN薄膜的制备方法及进展,介绍了物理气相沉积、化学气相沉积、等离子化学气相沉积及光化学气相沉积等各种TiN薄膜的制备方法,评述了各种制备工艺的优缺点.介绍了TiN薄膜在超硬耐磨、耐腐蚀等方面研究的新进展,最后对TiN薄膜的应用范围和领域作了展望.     

专利集锦

气相沉积法制备空心的镍型材;在等离子体增强化学气相沉积的系统中提高薄膜均一性的方法;在凝胶晶体模板上化学气相沉积制备多孔材料;紫外光和等离子体辅助金属有机化学气相沉积系统;气相沉积法制备一氧化硅薄膜;电子束物理气相沉积工艺;化学气相沉积法制备有机硅薄膜;……[编者按]     

乙醇钽化学气相沉积制备Ta2O5薄膜研究进展

Ta2O5薄膜层具有较高的介电常数、折射率以及和ULSI加工过程中的相容性，因而将在硅芯片栅层材料、动态随机存储器、减反膜、气敏传感器、太阳能光伏电池面板介电层等方面得到应用。对以Ta（OC2H5）5为原料，通过常规金属有机化合物气相沉积、光致化学气相沉积、等离子增强化学气相沉积、原子层化学气相沉积和脉冲化学气相沉积法制备Ta2O5薄膜进行了评述，并对这些方法存在的问题进行了分析。     

化学气相沉积技术发展趋势

综述了化学气相沉积技术制备薄膜材料的基本原理与工艺,分析了化学气相沉积技术的发展趋势,并展望其应用前景。     

不同制备工艺对ZnS光学性能的影响

分别用真空热压、H2S模式的化学气相沉积以及S模式的化学气相沉积3种工艺方法制备了红外透过性能良好的ZnS材料.比较了不同的工艺过程对ZnS显微结构的影响,并且分析了不同制备方法形成的缺陷对光学性能的影响.探讨了热等静压工艺改善光学性能的原因和机理.透过谱图的测试表明,S模式的化学气相沉积法制备的ZnS具有最高的可见光至远红外的透过率.对3种方法制备的ZnS分别进行了热等静压后处理,发现对材料的光学透过性能都有不同程度的提高.     

Chemical vapor deposition of rhenium on a gourd shaped graphite substrate

Chemical vapor deposition (CVD) of rhenium coatings on a gourd shaped graphite substrate is studied. Effects of deposition temperature, chlorine flow rate, total pressure and chlorination temperature on deposition rate, yield, morphology and texture of rhenium coating are investigated, respectively. Uniform rhenium coatings have been obtained by using proper combination of deposition conditions at an acceptable deposition rate and yield. The rhenium coatings consist of two sub-layers, i.e., an inner nucleation layer of fine equiaxed grains and an outer layer comprising oriented columnar grains. Although different surface morphologies have been observed, the grains of rhenium coatings are all <002> oriented. The tendency of the preferred orientation <002> is more significant with decreasing surface roughness of the coating.     

Natural and synthetic polycrystalline diamond, with emphasis on ballas ‘Ballas’ — Radially grown, polycrystalline diamonds?

The successful synthesis of diamond by chemical vapor deposition (CVD) at low pressures has generated renewed interest in polycrystalline diamond. It is now possible to deposit on relatively large surfaces a metal-free ‘polycrystalline diamond ceramic’, which is nearly equivalent in optical, thermal and mechanical properties to single crystal diamond. Some microstructures found in CVD diamond are clearly related to those seen in natural ballas and the possibility of making an even better ‘polycrystalline CVD diamond’ and exploiting its capabilities is considered here.     

Ablation-resistant Ir/Re coating on C/C composites at ultra-high temperatures

An iridium/rhenium(Ir/Re)double-layer coating was prepared on carbon/carbon(C/C)composites by chemical vapor deposition(CVD)and electrodeposition.The morphologies and bond strengths of the coatings on the C/C substrate were examined.The ablation resistance of the Ir/Re coating was studied at 1800℃in an oxyacetylene torch flame for 300 s.The results show that Re interlayer increases the bond strength between Ir coating and C/C substrate by over 100%.During entire hightemperature ablation process,Ir/Re coating keeps intact without any signs of ablation damage.Ir coating gets smoother and the grain size becomes larger after ablation,with the preferred orientation changing from h311i to h220i:Although some voids are observed along the grain boundaries of the as-ablated Ir coating,Ir/Re coating keeps intact on C/C composites.The study indicates that Ir/Re coating can provide good ablation resistance up to 1800℃for C/C composites,especially for the continuous ablation applications.     

钼薄膜制备技术研究

具有体密度的高表面质量金属钼薄膜对材料高压状态方程研究具有十分重要的意义。本文介绍了制备钼薄膜的几种方法,包括:机械轧制、机械研磨抛光、化学气相沉积、电子束蒸发、脉冲激光沉积和磁控溅射。综合比较后认为,采用磁控溅射法制备的钼膜可以基本满足状态方程靶用钼(Mo)薄膜的需要。通过磁控溅射沉积方法可以制备出表面质量高,厚度可达几微米的金属Mo薄膜,其组织结构和密度接近块材而且薄膜表面不易出现硬化、沾污等问题。     

金属钨箔膜的制备研究进展

具有体密度的高表面质量金属钨薄膜对材料高压状态方程研究具有十分重要的意义.综述了钨箔膜制备的几种方法,包括化学气相沉积、物理气相沉积、机械轧制、机械研磨抛光、化学抛光和电解抛光.综合比较后认为,采用电解抛光法可以基本满足状态方程靶用钨箔膜的需要.电解抛光可以制备表面质量比较高,厚度最小可达几微米的金属箔材,密度与原料相同,而且不会产生内应力、表面硬化、表面沾污问题,是制备低表面粗糙度、具有块材组织结构和密度材料的一种重要手段.     

沉积温度对化学气相沉积铼涂层性能的影响

利用五氯化铼热分解反应,采用冷壁式现场氯化化学气相法在钼基体沉积铼涂层,分析不同沉积温度对铼涂层的物相组成、沉积规律、表面形貌、密度和硬度的影响。实验结果表明:沉积所得均为纯铼涂层,晶粒生长方向均以(002)晶面为主;随着沉积温度的上升,铼涂层的沉积速率和沉积效率大幅提升,表面形貌由复杂多面体态变为六棱锥状;涂层组织致密,相对密度最高可达99.9%,维氏硬度随沉积温度升高而升高,最高达6100 MPa。     

无黏结相PCD和PCBN材料研究进展

无黏结相PCD和PCBN具有良好的高温性能,特别是拥有纳米晶粒或纳米结构的PCD和PCBN的性能甚至高于单晶体的性能。对无黏结相聚晶立方氮化硼（PCBN）和聚晶金刚石（PCD）材料的合成方法、烧结机理及其性能进行了详细概述。在高于7 GPa和1800℃下,能烧结出致密的无黏结相PCD和PCBN材料,但不同原材料粉末和微量触媒或掺杂会对超高压高温（HPHT）烧结条件和机理产生较大的影响。基于HPHT方法的制备条件较苛刻,PVD和CVD是比较有前途的制备PCD的方法,但用于制备PCBN还需要解决许多技术问题。      

高能束在气相沉积超硬薄膜材料中的应用

在新型薄膜材料的制备中,利用高能量密度的激光束、离子束等作为热源,辅助和诱导气相反应制备薄膜材料,克服了普通化学气相沉积和物理气相沉积超硬薄膜材料性能上的不足,显著地提高了薄膜的沉积效果.