可见光引发剂研究进展

光固化技术的应用非常广泛，常用于光固化涂料、油墨、牙科固化、胶粘剂以及 3D打印材料等领域。与紫外光固化相比，可见光固化具备辐射安全、固化深度高、设备价格低廉等优势。作为光固化体系的重要组成部分，光引发剂的研究一直备受关注。本文对近 2~3 a可见光引发剂的研究进展进行了综述，主要从 TPO类、萘酰亚胺类、蒽醌类、咔唑类、硅酮类、肟酯类、共轭染料类、光生酸剂类和金属配合物类光引发剂 9个方面进行了综述，并对可见光引发剂的发展方向做了简单的概述。     

旋切机辅助滑道调节的研究

现代旋切机大多数采用具有直线倾斜辅助滑道(如图1所示)的刀架.当丝杆驱动刀架水平进刀时,倾斜的辅助滑道控制旋刀绕直线A转动,使其装刀后角随木段半径r的不断减小而自动减小,从而使旋刀后刀面与木段表面的接触面积在整个旋切过程中尽可能保持不变,改善单板的表面加工质量,满足旋切工艺的要求.     

晶片键合界面应力分布的理论分析

根据双金属带的热应力分布理论,推导了晶片键合以及薄膜键合的界面应力分布公式.对影响晶片键合的剪切应力、正应力以及剥离应力的分布特性进行了讨论.     

射孔完井模型及其数学方法简述

本文通过实验法、数学理论法详细介绍了射孔完井的产能研究模型，通过有限元方法建立了理论模型和离散模型及数值方法，并分析了孔深、污染程度、破碎带、孔眼半径、相位角等对产率比和表皮系数的影响。     

低水溶性萃取剂对湿法磷酸的萃取净化工艺

研究了5种低水溶性萃取剂(异戊醇、正己醇、异丙醚、TBP和MIBK)对湿法磷酸的萃取效果和对阴阳离子的脱除效果,确定选用TBP与MIBK的复合萃取体系.通过实验得出该萃取体系对湿法磷酸的净化工艺条件为相比4:1,萃取温度60℃,搅拌速度300 r/min,搅拌时间15 min,在该工艺条件下净化的磷酸满足工业磷酸的要求.     

双模容错计算机的设计与实现

高可靠性的计算机应用环境需要计算机具备容错功能,并要求采用高等级的处理器芯片。该文以高等级的Power PC处理器PC8245为基础,以FPGA为核心,设计双模容错的计算机。由于应用空间限制,该计算机采用了分布式冗余仲裁结构,仲裁逻辑同时运行在主计算机和备份计算机的FPGA中。分析了分布式冗余仲裁算法的有限状态机,论述了通信接口的冗余控制机制。