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扩散限制和非扩散限制对电沉积银形貌的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
通过外加电压,以硅片为阳极在硝酸银溶液中,将银离子还原成单质银在硅基底表面上沉积生长,在不同外加电压下沉积得到不同形貌的银沉积物.为了解释电压对银沉积形貌的影响,通过对银的电沉积极化曲线进行分析,发现在电沉积过程中,沉积物会受多种动力学的影响,根据不同的动力学因素,极化曲线被分成了3个区域:电化学反应动力学区,扩散限制动力学区,反应和扩散控制竞争的动力学区.通过SEM观察到,银沉积物在这3个区域内会形成不同的形貌,分别为:多面体,分形和枝晶.扩散限制和非扩散限制理论(DLA)被用来对这3种形态的银沉积物产生的原因进行了分析. 相似文献
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掺杂VO2相变薄膜的电阻突变特性研究 总被引:5,自引:2,他引:5
以V2O5和MoO3粉为原料,采用无机溶胶-凝胶法制备了掺Mo^6 的VO2相变薄膜。对掺杂薄膜的物相组成、价态、相结构的XPS和XRD分析及电阻突变量级和电阻突变温度的测试,结果发现:所制备的掺杂薄膜其主要成分是VO2,所掺入的MoO3与VO2完全互溶,但其中MoO3的价态未发生改变。掺杂薄膜随MoO3含量的增加其电阻突变温度明显下降,然而电阻突变量级也随之降低,当MoO3的质量分数为5%时,薄膜电阻突变温度降至30℃左右,电阻突变量级仍可保持2个数量级左右,尚能满足应用的要求。 相似文献
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化学法制备Al2O3包覆TiH2颗粒发泡剂 总被引:11,自引:2,他引:11
利用非均匀成核法 ,以 pH缓冲溶液作沉淀剂 ,研究了Al2 O3 包覆TiH2 粉末的包裹技术。结果表明 ,Al3 浓度对包覆层显微结构有影响 ,当Al3 浓度为 0 .0 5mol/L ,pH值为 4.5时 ,可以获得好的氧化铝前驱体包覆TiH2 颗粒 ,经 35 0℃煅烧可得到均匀、致密的Al2 O3 /TiH2 包覆颗粒。当包覆层厚大于 1.42 μm时 ,Al2 O3 /TiH2 包覆颗粒释放氢气过程被显著地延迟 ,这种延迟效应对泡沫铝制备具有重要的实用价值。采用Al2 O3 /TiH2包覆粉体作为发泡剂 ,成功制备出多孔泡沫铝材料。 相似文献
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湖南益阳纤检所为适应形势发展加强自身建设而苦练内功、夯实基础的举措,在当地成为美谈。最近,益阳市技术监督局对他们的工作进行了总结、表彰和推广,市政府也对他们的工作予以肯定,《益阳政报》上刊出后,获得了社会上的一致好评。他们主要抓了三个方面的工作。 相似文献
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