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1.
Amir Abdolmaleki Mohammad Reza Molavian 《Polymer-Plastics Technology and Engineering》2015,54(12):1241-1250
2,6-Bis(5-amino-1H-benzimidazol-2-yl)pyridine was prepared and characterized by Fourier transform infrared spectroscopy, elemental analysis, 1H-NMR, and 13C-NMR spectroscopic methods. Then a new poly(benzimidazole-amide) was synthesized by polymerization of the corresponding diamine and isophthalic acid. The obtained poly(benzimidazole-amide) exhibited good yield and high thermal stability. Due to the existence of benzimidazole moieties in polymer’s structure, it has the tendency to form complexes with metal ions. So, a new poly(benzimidazole-amide)/Co nanocomposite was prepared. Morphological studies revealed that metal nanoparticles were dispersed in the polymer matrix without any aggregation. poly(benzimidazole-amide)/Co nanocomposite was used as a catalyst in the oxidation of ethyl benzene to acetophenone with tert-butyl hydroperoxide. 相似文献
2.
3.
4.
5.
分析了乐滩灌区工程北干渠溯河隧洞段长约1.06 km穿合山煤矿采空区的地质情况.借鉴高速公路煤矿采空区的成功处理经验,通过科学分析,对采空区变形和区域内覆岩的稳定性做了评价,论述了输水线路穿采空区段采取全充填压力注浆法的工程处理方法. 相似文献
6.
7.
为了研究Furuta摆在倒立点附近的稳定控制问题,采用基于T-S模糊模型的一类连续模糊动态系统控制方法,首次进行Furuta摆的模糊状态空间建模,并采用模糊切换的思想,设计了Furuta摆在倒立点附近的稳定控制器,进而分析了系统稳定性。与已有的方法相比,该方法的优点是稳定区域大、调节时间短。数字仿真结果验证了方法的有效性。 相似文献
8.
The feature scale planarization of the copper chemical mechanical planarization (CMP) process has been characterized for two
copper processes using Hitachi 430-TU/Hitachi T605 and Cabot 5001/Arch Cu10K consumables. The first process is an example
of an abrasive-free polish with a high-selectivity barrier slurry, while the second is an example of a conventional abrasive
slurry with a low-selectivity barrier slurry. Copper fill planarization has been characterized for structures with conformal
deposition as well as with bumps resulting from bottom-up fill. Dishing and erosion were characterized for several structures
after clearing. The abrasive-free polish resulted in low sensitivity to overpolish and low saturation levels for dishing and
erosion. Consequently, this demonstrated superior performance when compared to the International Technology Roadmap for Semiconductors
(ITRS) 2000 roadmap targets for planarization. While the conventional slurry could achieve the 0.13-μm technology node requirements,
the abrasive-free polish met the planarization requirements beyond the 0.10-μm technology node. 相似文献
9.
泽74-1X井是为评价泽74断块奥陶系潜山油气情况,在泽74-1井开窗侧钻的一口评价井,该井井斜变化大,井眼轨迹呈螺旋型,地层特性复杂。该井通过采用ZJ-2低失水、零析水水泥浆体系配合双凝双压固井工艺,固井施工顺利,全井主要封固段固井质量良好。现场应用表明,ZJ-2降失水水泥浆体系具有流动性好、水泥浆初始稠度低、析水为零等特点,稠化时间易于控制,十分适合大斜度井和井眼轨迹不佳的井的固井要求,能够很好地保护油气层;双凝双密度水泥浆体系应用于压力变化大的超长裸眼封固段固井,施工安全,固井质量好,只要水泥浆密度设计合理,工程上采取小排量替浆,可防止固井漏失,提高作业成功率。 相似文献
10.