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光电化学技术是研究金属腐蚀和缓蚀行为的有效手段,除了将光电化学方法应用于研究金属铜在不同介质中的腐蚀行为及添加不同缓蚀剂后的缓蚀行为之外,综述了近年来采用光电化学技术对铜合金在不同介质中的腐蚀行为、自组装膜对金属的防护效果和将具有光响应的TiO2薄膜涂覆于金属表面进行防腐蚀等方面的研究新进展. 相似文献
82.
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Cu的腐蚀与缓蚀的光电化学研究 总被引:1,自引:0,他引:1
用光电化学方法研究了Cu在不同浓度NaCl的硼酸-硼砂溶液中的腐蚀以及缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)对Cu的缓蚀作用.Cu在硼酸-硼砂缓冲溶液中,表面的Cu2O膜为P型半导体.当Cu所在的溶液中存在少量NaCl(小于0.5 g/L)时,Cu表面Cu2O膜会受轻微Cl-掺杂但小会改变半导体性质;当溶液中存在较多NaCl(0.5-15 g/L)时,Cu2O膜会受Cl-较严重的侵蚀,Cl-掺杂使Cu2O膜部分转成n型;当溶液中存在大量NaCl(大于15 g/L)时,Cu2O膜完全被Cl-掺杂而转型成n型.缓蚀剂PASP的加入能够对Cu起到缓蚀作用;当NaCl浓度为2 g/L时,PASP与溶液中的Cl-在Cu表面竞争吸附,明显抑制了Cl-对Cu2O膜的掺杂,Cu2O受到了保护仍为P型;在NaCl浓度为30 g/L时,PASP与Cl-竞争吸附只能削弱Cl-对Cu2O膜的掺杂,Cu2O膜仍受Cl-掺杂而转成n型,但n型性质变弱.对Cu2O膜性质的Mott-Schottky测试结果与光电化学结果一致. 相似文献
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《高分子材料》课程教学要兼顾知识的"基础性、通用性"和"特色性"。对教学内容的选择上,除基础知识外要注重"不能通过背诵复制的知识";在实验与实践环节上,重视课内实验和课外实践的结合,内容由"单一型"向"综合型"转变,方法由"示范型"、"验证型"向"参与型"、"开发型"、"研究型"转变。 相似文献
87.
采用现场动态阻(容)抗法对不同支持电解质溶液中电沉积金铟硒薄膜电极上阴极还原H2O2时产生的电化学振荡行为进行了研究。通过AES能谱和激光扫描电化学测试对振荡前后的电极表面组成及状况的分析发现,电化学振荡能使金铟硒半导体薄膜的光电效应减弱乃至消失,其原因是由于随着振荡的进行破坏了金铟硒的半导体结构和半导体溶液界面结构。对振荡机理的研究发现,在以KCl为支持电解质的电化学振荡体系中,由于Cl-的特性吸附和活化作用,并且在振荡过程中Cl-参与了薄膜的组成,其阴极向扫描过程中振荡产生的极化电位区域与阳极向过程相吻合;而在以KNO3为支持电解质的振荡体系中,由于没有Cl-的特性吸附,其阴极向过程与阳极向过程中振荡产生的极化电位区域表现出一定的差异。 相似文献
88.
苯并三唑和咪唑分子内缓蚀协同作用的研究 总被引:12,自引:0,他引:12
通过Mannich反应把苯并三唑和咪唑分子用亚甲基链连接起来,合成1-「1’-咪唑)-甲基」苯并三唑化合物,采用静态挂片法,电化学极化曲线法和电化学阻抗法研究了它对3%NaCl溶溶中铜的缓蚀作用,讨论了分内苯并三唑单元和唑唑单元的协同缓蚀作用。 相似文献
89.
本文研究了电沉积制得的CuInSe_2薄膜在阴极还原H_2O_2时产生的电化学振荡行为,一方面对影响该振荡行为的一些因素如振荡溶液组成、传质、光照等进行了分析;另一方面采用外界周期性光照和外接小幅度正弦波电位来调节振荡频率,使光电信号调制振荡趋向成熟.这为CuInSe_2半导体发展成为光电传感器件提供了一定的理论与实践基础. 相似文献