基于SWB环境下的nm级NMOS虚拟优化

介绍了Synopsys Inc.推出的新一代(第五代)nm级TCAD仿真平台--Sentaurus Work-bench(SWB)的系统结构、基本功能及其优化功能,重点介绍了SWB的DOE及RSM优化机制。基于SWB环境实现了nm级NMOS集成化管芯的可制造性设计及优化。在对NMOS集成化管芯的设计过程中,围绕Vt进行了可制造性设计,利用DOE试验方法和RSM对Vt进行了优化,得到了阈值电压(Vt)和调阈值注入剂量(Vt_Dose)、能量(Vt_Energy)及抑制穿通注入剂量(PNCH_Dose)、能量(PNCH_Energy)之间的RSM响应表面关系。在此基础上,分析了Vt各影响因素与Vt之间的关系,从而指导了在Vt的设计过程中各个主要影响参数的选取。     

兔羊毛精纺羊毛衫防掉毛防起球整理

兔羊毛精纺羊毛衫防掉毛防起球整理李惠军，杨冠军，顾德源一、前言兔羊毛精纺羊毛衫目前存在掉毛与起球问题，严重影响服用性能；本实验采用硅酮树醋进行化学整理，经工厂批量生产中试，取得成功；经上海毛麻研究所检测中心测定，整理后的免羊毛衫具有较好的防掉毛、防起...     

微电子工艺CAD系统SUPREM—Ⅱ的模拟精度

模拟精度是ＣＡＤ系统设计者首先考虑的问题。文中向读者提供了在ＳＵＰＲＥＭ－Ⅱ模拟系统中，提高模拟精度的较科学的实验方法。     

集成运放纵向NPN—PC—SUPREM全参数模拟输入解析

尝试一种简单直观、图文并茂的文体方式向读者介绍ＳＵＰＲＥＭ－Ⅱ的输入卡撰写规则，为了全面反映ＳＵＰＲＥＭ－Ⅱ的模拟功能，选取了有代表性的集成运算放大器的平面工艺为模拟分析对象。模拟了ＳＵＰＲＥＭ－Ⅱ所能模拟的全部参数，进行双极型集成工艺全工序、全参数的模拟，该输入文本不仅充分地反映了工艺模拟输入卡的撰写方法与原则，且具有可操作性，读者完全可据此举一反三，设计出不同的模拟方案。     

巧用逻辑分析仪助力单片机开发

单片机开发工程师和电子爱好者，每天都要和各种各样的数字电路打交道。在制作调试电路时除了使用万用表、示波器等工具，逻辑分析仪也是必不可少的。     

静电纺吸油材料的研究进展

海洋漏油事故频繁发生对环境造成严重破坏并产生巨大的经济损失。吸油材料可应用于吸附水中的油类物质,特别适用于海上溢油的清理。近年来以疏水亲油性有机合成高聚物为原料,采用静电纺丝技术制备的超细纤维膜,由于其微米至纳米级直径、可控的疏水性、高比表面积、吸油量大、吸油速度快等优势受到广泛关注。对国内外静电纺纤维吸油材料的研究进展进行了介绍,并展望了其发展前景。     

棉花加工企业的信息化管理系统

介绍了国内外纺织行业及棉花加工企业的管理信息系统的发展，重点研究和总结目前国内外棉花加工企业的信息化现状，从而有利于促进企业管理的现代化、科学化和系统化，提高棉花加工企业的工作效率和水平。     

提高18.3tex50/50CJ/Modal针织纱质量的技术措施

介绍了Modal纤维原料的性能特点及其针织纱的开发特点,以18.3 tex 50/50 CJ/Modal针织纱为例,介绍了各工序工艺参数的优化配置和生产中的关键技术措施,使成纱质量得到提高。     

基区设计对InGaP/GaAs HBT热稳定性的影响

研究了不同基区设计对多发射极指结构功率InGaP/GaAs异质结双极型晶体管热稳定性的影响。以发生电流增益崩塌的临界功率密度为热稳定性判定标准,推导了热电反馈系数Φ、集电极电流理想因子η和热阻Rth与基区掺杂浓度NB、基区厚度dB的理论公式。基于TCAD虚拟实验,观测了不同基区掺杂浓度和不同基区厚度分别对InGaP/GaAs HBT热稳定性的影响。结合理论公式,对仿真实验曲线进行了分析。结果表明,基区设计参数对热稳定性有明显的影响,其影响规律不是单调变化的。通过基区外延层参数的优化设计,可以改进多指HBT器件的热稳定性,从而为多指InGaP/GaAs HBT热稳定性设计提供了一个新的途径。     

蚕丝织物的低温Mannich反应印花性能

为了探索对蚕丝织物的节能环保印花新方法,文章对商品C.I.活性橙13进行改性处理后,其可以转变为含芳伯胺基的染料M橙13。然后分别采用传统活性染料配方和芳伯胺染料三组分Mannich反应配方对蚕丝织物进行筛网印花,比较研究低温固色工艺对两种染料及印花配方的着色性能。与常规高温汽蒸固色进行对照,通过测定印花蚕丝织物的着色K/S值和固色率来评价不同染料及工艺的差异,分析低温固色过程温度、时间等工艺参数对芳伯胺染料Mannich反应印花性能的作用。结果表明,低温保湿放置温度对蚕丝织物的活性染料和芳伯胺染料Mannich反应印花K/S值有一定的影响,常规活性染料配方印花在60℃条件下低温保湿放置3 h就能获得较高的K/S值,比活性染料印花高温汽蒸固色工艺织物的K/S值稍低。而基于Mannich反应机制的芳伯胺染料印花和常规活性染料印花在相同低温保湿放置条件下获得相近的K/S值,且两种印花方法的耐皂洗色牢度和耐摩擦色牢度均能达到4级以上。因此,采用Mannich反应机制的芳伯胺染料印花可以获得低温无盐无碱固色的高色牢度印花性能。